空间位阻的胺醚的制备制造技术

制备式Ⅰ化合物的新方法，式中Ｒ↓［１］－Ｒ↓［４］各自是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］羟烷基，或Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］与其连接的碳，或Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］与其连接的碳一起是Ｃ↓［５］－Ｃ↓［１２］环烷基；Ｒ↓［５］－Ｒ↓［９］各自是Ｈ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］烯基、Ｃ↓［５］－Ｃ↓［１２］芳基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤烷基、吸电子基、或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基或卤取代的Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１２］芳基；和Ｒ↓［７］和Ｒ↓［８］也可一起形成键；和Ｒ是有２－５００个碳的连接基，其与直接相接的碳和氮一起形成一个取代的５－７员环；本方法包括式Ⅱ化合物被氧化。式Ⅰ化合物和其氢化和／或卤化化合物适合作有机材料抗光、氧和／或热致降解或变黄的稳定剂或作阻燃剂。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新的用于制备空间位阻的胺醚的方法、这类新化合物、其作为稳定剂用于防止有机材料由于光、氧和/或热导致的降解以及相应的组合物。
技术介绍
许多公开文献描述了使用特定的空间位阻的胺(HALS)化合物作为稳定剂稳定有机材料。有价值的一类空间位阻的胺是这样的化合物，即，其中氮原子是杂环的一部分，并且氮原子通过一个氧原子连接了一个附加的有机取代基(NOR-HALS；Kurumada等人，J.Polym.Sci，Poly.Chem.Ed.22，277-81(1984)；US-A-5204473)；氧连接的取代基通过用适当的试剂醚化自由的烃氧基胺或羟胺引入这些化合物中。在一定条件下一些N-烯丙基氮氧化物重排成胺醚(Meisenheimer重排；Chem.Ber.52，1667(1919)；Chem.Ber.55，513(1922))。裂解氮氧化物而生成烯烃和羟胺(共消去)是一个竞争反应，其速率随位阻的增加而增加(J.March，Advanced Organic Chemistry，IV Ed.，Wiley，1992)。
技术实现思路
现已惊奇地发现，1-烯丙基取代的空间位阻的胺的本文档来自技高网...

【技术保护点】
组合物，含有Ａ）一种对氧化、热和／或光降解敏感的有机聚合物和Ｂ）至少一种式Ⅲａ、Ⅳａ或Ⅴａ化合物＊＊＊其中Ｒ’和Ｒ分别是式＊＊＊（Ⅵ）；的有机连接基团；Ｅ↓［２］是－ＣＯ－或－（Ｃ Ｈ↓［２］）↓［Ｐ］－，其中Ｐ是０、１或２；Ｅ↓［１］是有两个基团Ｒ↓［２４］和Ｒ↓［２５］的碳原子，或是＞Ｎ－Ｒ↓［２５］，或是氧，Ｒ↓［２４］和Ｒ↓［２５］是氢或一个有机基团，特征在于连接基团Ｒ是Ｃ↓［２］－Ｃ↓［５００］的烃或 含有１－２００个选自氮、氧、磷、硫、硅和卤素的杂原子...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：A泽达，G菲里，M萨拉，
申请(专利权)人：西巴特殊化学品控股有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]