用于布局相关变动分析的系统技术方案

本发明专利技术公开一种方法，所述方法包括：通过应用第一变动来实行第一模拟，以识别集成电路(IC)的至少一个样本，其中所述集成电路包括至少一个装置；将实作所述至少一个装置的分离装置的单独的变量转译成所述分离装置的等效变量；以及利用所述分离装置的所述等效变量、通过应用第二变动的至少一部分来实行第二模拟，以获得模拟结果，所述模拟结果充当对用于制作所述集成电路的布局进行修改的基础。

System for layout related change analysis

The invention discloses a method, the method comprises the following steps: first to carry out the first change through the application of simulation to identify integrated circuit (IC) at least one sample, wherein the integrated circuit comprises at least one device; equivalent variable separate variable separation device implements the at least one translation device into the separating device; and the equivalent variable separation device by means of the application of the second changes in at least a portion of the implementation of the second simulation, to obtain the simulation results, the simulation results of a modified basis for making the integrated circuit layout.

【技术实现步骤摘要】
用于布局相关变动分析的系统
本专利技术实施例总体涉及半导体领域，更具体地，涉及用于布局相关变动分析的系统。
技术介绍
被归类为数字、模拟、或混合信号的现代集成电路(IntegratedCircuit，IC)提供复杂的功能。单个集成电路包括数百万个或数十亿个晶体管，所述晶体管中的每一个晶体管接通及断开以使微量电流传播通过集成电路中的各种路径。在集成电路制造之前的设计阶段，设计者会针对集成电路中的每一晶体管指定一组目标工艺参数，所述目标工艺参数例如包括栅极长度、电子迁移率及电压阈值。
技术实现思路
本专利技术提供了一种用于布局相关变动分析的系统，其包括：处理器；存储装置，存储计算机程序码，所述计算机程序码由所述处理器执行以实行以下中的至少一者：通过应用前段变动来实行第一模拟以获得第一模拟结果，其中所述第一模拟结果指示集成电路的至少一个样本，且所述集成电路具有至少一个装置；通过应用布局相关变动中的一或多个布局相关变动来将所述至少一个装置分离成所述集成电路的所述至少一个样本的布局中的多个分离装置，其中所述分离装置具有单独的变量；在第二模拟中将所述单独的变量转译成所述分离装置的等效变量；以及在所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于布局相关变动分析的系统，其特征在于，包括：处理器；存储装置，存储计算机程序码，所述计算机程序码由所述处理器执行以实行以下中的至少一者：通过应用前段变动来实行第一模拟以获得第一模拟结果，其中所述第一模拟结果指示集成电路的至少一个样本，且所述集成电路具有至少一个装置；通过应用布局相关变动中的一或多个布局相关变动来将所述至少一个装置分离成所述集成电路的所述至少一个样本的布局中的多个分离装置，其中所述分离装置具有单独的变量；在第二模拟中将所述单独的变量转译成所述分离装置的等效变量；以及在所述第二模拟中重新检查所述集成电路的所述至少一个样本。

【技术特征摘要】
2015.12.30 US 14/985,1421.一种用于布局相关变动分析的系统，其特征在于，包括：处理器；存储装置，存储计算机程序码，所述计算机程序码由所述处理器执行以实行以下中的至少一者：通过应用前段变动来实行第一模拟以获得第一模拟结果，其中所述第一模拟结果指示集成电...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭晋诚，胡伟毅，王光明，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71