With each other through fitting while Tightlock part of the first parts (40 and second) electroforming electroforming part (60) of manufacturing, in the form of first electroformed parts (40), the first electroformed parts (40) as part of an electric mold to form the second electroformed parts (60). In addition, a second electroforming component (60) is formed by transferring the first electroforming component (40) as part of the die casting, and the shape of the first electroforming component (40) is transferred to the second electroforming component (60). As a result, a wide variety of components of different shapes can be produced at a one-time accuracy in a series of manufacturing processes.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电铸部件的制造方法
本专利技术涉及用在精密设备等中的精密微细部件的制造所用的电铸部件的制造方法。
技术介绍
作为电镀技术的一种的电气铸造(以下称作「电铸」)通过使电解的金属或离子电沉积到原模的表面来制造(复制)重现原模的形状或表面的凹凸的金属制品(电铸部件)。在这样的电铸中,能通过使用精密加工的电铸模制造有高转印性的部件。近年来,提出通过LIGA(LithographieGalvanofomungAbformung,光刻、电铸和注塑)技术,使用如硅工艺那样利用感光材料的光刻而制造的电铸模来制造钟表等的精密部件。具体地,过去例如有如下技术(例如参考下述专利文献1):在一表面具有导电性的基板上用光阻剂形成开口图案,在该开口内进行2次通过电铸形成金属层的工序后,将基板和下层的金属层除去,从而得到上层的金属层所形成的具有表面形态不同的凹凸面的电铸体。另外,过去例如有如下技术例如参考下述(专利文献2):在以光刻形成于导电性基板上的树脂模通过电铸形成金属制构成部件层,重复多次通过研磨或磨削来进行平坦化的工序,来制造阶梯的三维微细结构体。现有技术文献专利文献专利文献1:JP特开2011-89169号公报专利文献2:JP特开2008-126375号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但如上述那样,在通过电铸制造电铸体或微细结构体等(以下称作「电铸部件」)的现有的电铸部件的制造方法中,虽然能在一系列制造工序中制造有凹凸面的部件和多级形状的电铸部件,但只能制造1个种类的电铸部件。为此,上述的现有的电铸部件的制造方法在电铸制造多个种类的部件的情况下,需要在分开的制造工序中制造各 ...
【技术保护点】
一种电铸部件的制造方法,其特征在于,包括如下工序:对形成于导电层的表面侧的第1光阻挡层进行图案形成,来形成第1贯通孔,该第1贯通孔沿着所述导电层与所述第1光阻挡层的层叠方向贯通该第1光阻挡层;通过将所述导电层作为一方的电极的电铸,来在所述导电层的表面侧、在所述第1贯通孔内使第1电铸构件沉积;通过将所述第1电铸构件以及所述第1光阻挡层的表面侧平坦化来形成第1电铸部件;从形成所述第1电铸部件的所述导电层除去所述第1光阻挡层;在通过除去所述第1光阻挡层而露出的所述第1电铸部件的表面形成脱离用的膜;在所述导电层的表面侧形成从表面侧覆盖所述第1电铸部件的第2光阻挡层,对该第2光阻挡层进行图案形成来形成第2贯通孔,该第2贯通孔以所述第1电铸部件的一部分向其内侧突出的状态沿着所述层叠方向贯通该第2光阻挡层;通过将所述导电层作为一方的电极的电铸,来在所述导电层的表面侧、在所述第2贯通孔内使第2电铸构件沉积;通过将所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层的表面侧平坦化来形成第2电铸部件;从所述第1电铸部件、所述第2电铸部件以及所述第2光阻挡层除去所述导电层;从除去所述导电层的所述第1电铸部件以及所述第2电铸 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.12 JP 2014-2518601.一种电铸部件的制造方法,其特征在于,包括如下工序:对形成于导电层的表面侧的第1光阻挡层进行图案形成,来形成第1贯通孔,该第1贯通孔沿着所述导电层与所述第1光阻挡层的层叠方向贯通该第1光阻挡层;通过将所述导电层作为一方的电极的电铸,来在所述导电层的表面侧、在所述第1贯通孔内使第1电铸构件沉积;通过将所述第1电铸构件以及所述第1光阻挡层的表面侧平坦化来形成第1电铸部件;从形成所述第1电铸部件的所述导电层除去所述第1光阻挡层;在通过除去所述第1光阻挡层而露出的所述第1电铸部件的表面形成脱离用的膜;在所述导电层的表面侧形成从表面侧覆盖所述第1电铸部件的第2光阻挡层,对该第2光阻挡层进行图案形成来形成第2贯通孔,该第2贯通孔以所述第1电铸部件的一部分向其内侧突出的状态沿着所述层叠方向贯通该第2光阻挡层;通过将所述导电层作为一方的电极的电铸,来在所述导电层的表面侧、在所述第2贯通孔内使第2电铸构件沉积;通过将所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层的表面侧平坦化来形成第2电铸部件;从所述第1电铸部件、所述第2电铸部件以及所述第2光阻挡层除去所述导电层;从除去所述导电层的所述第1电铸部件以及所述第2电铸部件除去所述第2光阻挡层。2.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:阿部洋辅,池田智夫,岛亮一,小野义树,浅见拓,佐佐木阳介,
申请(专利权)人:西铁城时计株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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