The invention discloses a continuous linear magnetron sputtering machine based on segmented transmission, including sample chamber, coating section, sample chamber; vacuum isolation device is arranged between the inlet section and the coating, coating section and between the sample chamber is also provided with a section of vacuum separation device; the injection chamber section, coating some, like room are equipped with sample conveying device, the paragraphs in the sample transport independent operation device, and the sample is located at the upper vacuum isolation device by conveying device between the two sections, at the vacuum isolation device located in the lower section of the sample conveying device starting at the two section between the inlet section; a kind of room, are equipped with sample loading / unloading device; the coating section is provided with a heating device. The invention adopts the chain transmission mechanism, greatly reducing the number of perforation on the wall of the vacuum chamber, effectively prevent leakage; the vacuum isolation measures, effective protection of the coating section of the vacuum; the on-line heating device, can realize the temperature gradient.
【技术实现步骤摘要】
基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机
本专利技术属于真空行业技术,特别是为真空等离子体行业半导体、微电子
提供一种线型磁控溅射镀膜机。
技术介绍
在磁控溅射镀膜机(sputter)、等离子体化学气相沉积(PECVD)、离子束刻蚀(IBE)、反应离子刻蚀及感应耦合等离子体刻蚀(RIE、DRIE、ICP)、等离子体清洗(Plasmacleaning)等设备中,如果设备用于批量生产目的,或样片量比较大,其等离子体激发装置多为矩形体形状,磁控溅射镀膜机为矩形磁控溅射靶,等离子体化学气相沉积为矩形PECVD等离子体源或矩形等离子体发生器,离子束刻蚀为矩形离子源,感应耦合等离子体刻蚀为矩形ICP源。这些离子源需要固定安装在真空腔体上,样片需要在与离子源面对面的位置相对移动,才能使离子束均匀扫描到样片表面的各个位置,达到均匀薄膜或均匀刻蚀目的。配合多样片传送机构,实现连续生产。样品传输有多种方法,如:辊轴传动、输送带传动……。但这些方法主驱动、从驱动机构要放在真空外面,这就涉及到“过真空”问题,众多机构“过真空”必然会带来真空漏气问题,对工艺极其不利。同时,辅助机构得在“过真空”转台下实现动态转动,不但加剧了“动密封”时的漏气性,也极大降低了设备的可靠性。另外,如果传输链过长,主驱动力就越大,设备需求功率就大,这对设备生产提出了严格的要求。
技术实现思路
本专利技术着力于解决现有技术之不足,提供一种基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机。本专利技术的基本构思是采用真空不锈钢材料制作高性能链条,把部分驱动机构放在真空室内部,减少“过真空”问题,配合精密辅助连接机构,实 ...
【技术保护点】
一种基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述镀膜机包括三个接续性的真空室段,分别为进样室段、镀膜段、出样室段;所述进样室段与镀膜段之间设有真空隔离装置,所述镀膜段与出样室段之间也设有真空隔离装置;所述进样室段、镀膜段、出样室段均设有样片输送装置,各段中的样片输送装置独立运行,且位于上段中的样片输送装置截止于两段之间的真空隔离装置处,位于下段中的样片输送装置起始于两段之间的真空隔离装置处;所述进样室段、出样室段均设有样片装载/卸载装置;所述镀膜段设有加热装置;其中,所述样片输送装置,包括链条驱动电机、传动机构、链驱动轴、轴上链轮、链条,链条驱动电机与传动机构驱动连接,所述传动机构与链驱动轴驱动连接,所述链驱动轴上套设轴上链轮,所述轴上链轮啮合链条,所述链条有两根,平行设置,同步运动,共同支撑样片托盘;所述样片装载/卸载装置为一电机带动的动态连续装载/卸载的装置。
【技术特征摘要】
1.一种基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述镀膜机包括三个接续性的真空室段,分别为进样室段、镀膜段、出样室段;所述进样室段与镀膜段之间设有真空隔离装置,所述镀膜段与出样室段之间也设有真空隔离装置;所述进样室段、镀膜段、出样室段均设有样片输送装置,各段中的样片输送装置独立运行,且位于上段中的样片输送装置截止于两段之间的真空隔离装置处,位于下段中的样片输送装置起始于两段之间的真空隔离装置处;所述进样室段、出样室段均设有样片装载/卸载装置;所述镀膜段设有加热装置;其中,所述样片输送装置,包括链条驱动电机、传动机构、链驱动轴、轴上链轮、链条,链条驱动电机与传动机构驱动连接,所述传动机构与链驱动轴驱动连接,所述链驱动轴上套设轴上链轮,所述轴上链轮啮合链条,所述链条有两根,平行设置,同步运动,共同支撑样片托盘;所述样片装载/卸载装置为一电机带动的动态连续装载/卸载的装置。2.根据权利要求1所述的基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述真空隔离装置,包括一个壳体,所述壳体两侧设置有用于与真空室连通的通孔,所述壳体内设置有可上下滑动的锁身,所述锁身包括一块顶板,所述顶板两侧对称设置有密封板,所述顶板设置有多个凸出所述顶板表面的滚珠,所述密封板对应所述滚珠设置有多个圆锥形凹槽;两个所述密封板之间设置有弹簧;所述锁身设置有与所述壳体可滚动连接的导向轴承。3.根据权利要求1所述的基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述样片输送装置中的链条驱动电机、传动机构、链驱动轴、轴上链轮、链条,都设置在真空室内部,所述链条驱动电机采用真空密封电机。4.根据权利要求1所述的基于分段传送的连续式线型磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述样片输送装置中的链条驱动电机...
【专利技术属性】
技术研发人员:关江敏,王长梗,李衍辉,
申请(专利权)人:北京创世威纳科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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