一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备及方法技术

一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备及方法，属于等离子体技术领域，设备包括：电极、真空排气装置、气体管路、基材固定装置，基材固定装置可以在运动机构的带动下在电极形成的空间内部产生运动，通入单体蒸汽到反应腔室内，进行化学气相沉积，沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电方式为大功率连续放电，镀膜阶段等离子体放电方式为小功率连续放电。涂层制备过程中，基材的运动特性和等离子体放电能量组合联动。制备过程中等离子体放电的同时，基材产生运动，提高了涂层沉积效率，并改善了涂层厚度的均匀性和致密性。所制备的涂层具有防水防潮，防霉菌，耐酸、碱性溶剂，耐酸、碱性盐雾等特性。

Apparatus and method for preparing nano coating by base material moving plasma discharge

An apparatus and method for nano coating substrate moving type plasma discharge preparation, which belongs to the field of plasma technology, equipment including: electrode and vacuum exhaust device, gas pipeline, substrate fixing device, internal fixation device in the base space motion mechanism driven by the electrode formed in motion, pass into the monomer to the reaction of steam the chamber for chemical vapor deposition, deposition process including pretreatment and coating stage, the preprocessing stage for high power plasma discharge continuous discharge, discharge plasma coating stage for low power continuous discharge. In the process of coating preparation, the movement characteristics of substrate and plasma discharge energy combine together. In the process of preparation, the discharge of the plasma leads to the movement of the substrate, the deposition efficiency of the coating is improved, and the uniformity and compactness of the coating thickness are improved. The prepared coating has waterproof, moisture-proof, mildew proof, acid resistant, alkaline, solvent, acid, alkaline, salt fog and other characteristics.

【技术实现步骤摘要】
一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备及方法
本专利技术属于等离子体化学气相沉积
，具体涉及到一种等离子体放电制备纳米涂层的设备及方法。
技术介绍
腐蚀性环境是电子器件被破坏的最普遍的因素。因环境腐蚀而导致电子器件中固体材料的腐蚀、导体/半导体绝缘性降低以及短路、断路或者接触不良等故障现象。目前，在国防、航天等高科技行业的产品中，电子部件占有的比率越来越大，对电子产品防潮、防霉、耐腐蚀性要求越来越严格。而在通讯领域，随着技术不断进步，通讯频率的不断提升、对通讯设备的散热、信号传输的稳定可靠性要求也越来越高。因此，需要可靠的方法既能对电路板及电子元件进行有效防护，又不会影响正常散热及信号传输。聚合物涂层由于经济、易涂装、适用范围广等特点常用于材料表面的防护，可以赋予材料良好的物理、化学耐久性。基于聚合物涂层的阻隔性，其在电子电器、电路板表面形成的保护膜可有效地隔离线路板，并可保护电路在腐蚀环境下免遭侵蚀、破坏，从而提高电子器件的可靠性，增加其安全系数，并保证其使用寿命，被用作防腐蚀涂层。敷形涂覆(Conformalcoating)是将特定材料涂覆到PCB上，形成与被涂物体外本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备，包括：反应腔室(1)，其特征在于：还包括：用于等离子体放电的电极(2)，设置于反应腔室形成的空间内部；用于形成真空环境的抽气式真空排气装置，所述真空排气装置连接于反应腔室之上，所述真空排气装置包括排气管、一级真空泵和二级真空泵，排气管与反应腔室相连接，排气管依次连接二级真空泵和一级真空泵；用于载气和单体蒸汽通入的气体管路；用于安装基材的基材固定装置，所述基材固定装置设置于电极形成的空间内部；所述基材固定装置以非固定的方式设置于电极形成的空间内部，基材固定安装于基材固定装置之上，基材固定装置设置有运动机构，所述基材固定装置可以在运动机构的带动下在电极...

【技术特征摘要】
1.一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备，包括：反应腔室(1)，其特征在于：还包括：用于等离子体放电的电极(2)，设置于反应腔室形成的空间内部；用于形成真空环境的抽气式真空排气装置，所述真空排气装置连接于反应腔室之上，所述真空排气装置包括排气管、一级真空泵和二级真空泵，排气管与反应腔室相连接，排气管依次连接二级真空泵和一级真空泵；用于载气和单体蒸汽通入的气体管路；用于安装基材的基材固定装置，所述基材固定装置设置于电极形成的空间内部；所述基材固定装置以非固定的方式设置于电极形成的空间内部，基材固定安装于基材固定装置之上，基材固定装置设置有运动机构，所述基材固定装置可以在运动机构的带动下在电极形成的空间内部产生运动，其运动方式包括：空间往复运动、平面往复运动、圆周运动、椭圆周运动、球面运动、行星运动或其他不规则路线的运动。2.根据权利要求1所述的一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备，其特征在于：所述反应腔室的容积为50～1000L，所述反应腔室为旋转体形腔室或者立方体形腔室。3.根据权利要求1所述的一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备，其特征在于：所述等离子体放电方式为射频放电、微波放电、中频放电、高频放电、电火花放电，所述高频放电和中频放电的波形为正弦或双极脉冲。4.根据权利要求1所述设备进行的一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)将基材置于权利要求1所述的纳米涂层制备设备的反应腔室内，对反应腔室连续抽真空，将反应腔室内的真空度抽到10～200毫托，并通入惰性气体He或者Ar，开启运动机构，使基材在反应腔室内产生运动；(2)通入单体蒸汽到反应腔室内，至真空度为30～300毫托，开启等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为120～400W，持续放电时间60～900s，然后进入镀膜阶段，调整等离子体放电功率为10～75W，持续放电时间600s～7200s，在基材表面化学气相沉积制备多功能性纳米涂层；所述单体蒸汽成分为：至少一种单官能度不饱和氟碳树脂和至...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，
申请(专利权)人：无锡荣坚五金工具有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32