The invention discloses a preparation method of low radiation glass, which comprises the following steps: (1) the clean glass workpiece to be plated vertically placed on the bracket and into the vacuum coating chamber; (2) sealing vacuum coating chamber, vacuum pumping, and then pass into the process gas amount; and keep the vacuum stability; (3) target Ag, Si embedded in cathode, and the horizontal direction vertical to the cathode magnetic field magnetron target; (4) magnetron cathode, into the high voltage current; (5) near the cathode surface to be plated glass workpiece parallel glass reciprocating movement; the technical scheme of the invention, are composed of multilayer metal or its compound coating, improve the quality of film, glass coating adhesion, good diffraction, the coated glass has long service life, reduce maintenance and replacement times during.
【技术实现步骤摘要】
一种低辐射玻璃的制备方法
本专利技术属于建筑领域,更具体地说,本专利技术涉及一种低辐射玻璃的制备方法。
技术介绍
玻璃镀膜就是在玻璃表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物,以改变玻璃光学性能,镀膜玻璃广泛用于建筑行业和汽车制造行业,用于建筑行业的镀膜玻璃主要是用于玻璃幕墙,建筑用的玻璃希望能够降低能量吸收或控制室内外能量交换,达到冬暖夏凉的效果,能够保障生活及工作的舒适性,并以此达到环保节能的目的,低辐射玻璃在玻璃表面镀的薄膜系,由多层金属或其化合物组成能够达到冬暖夏凉的效果,现代建筑的层高越来越高,就要求建筑物使用的配件年限越来越长,尤其是玻璃幕墙,不仅用于采光,更是建筑的一部分,在使用期间内,更换和维修的难度都很大。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种达到使用期间尽量避免维修和更换的低辐射玻璃的制备方法。为了实现上述目的,本专利技术采取的技术方案为:所提供的一种低辐射玻璃的制备方法,包括如下步骤:(1)将清洁干净的待镀玻璃工件竖直置于支架上,送入真空镀膜仓中;(2)密封真空镀膜仓,抽真空,然后通入适量的工艺气体;并保持真空度稳定;真空镀膜仓的真空度为10-1帕以上;工艺气体为惰性气体Ar或反应气体O2、N2;(3)靶材Ag、Si嵌入阴极,与阴极垂直的水平方向置入磁场构成磁控靶;(4)磁控靶为阴极,通入高压电流;磁控靶的高压为5KV直流负高压;(5)阴极靶靠近待镀玻璃工件表面处平行玻璃往复移动。采用本专利技术的技术方案,先将真空镀膜仓的真空度抽为为10-1以上的真空度,再接通高压电源,在蒸发源与待镀玻璃工件之间建立一个低压气体放电的低温等离子 ...
【技术保护点】
一种低辐射玻璃的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)将清洁干净的待镀玻璃工件竖直置于支架上,送入真空镀膜仓中;(2)密封真空镀膜仓,抽真空,然后通入适量的工艺气体;并保持真空度稳定;(3)靶材Ag、Si嵌入阴极,与阴极垂直的水平方向置入磁场构成磁控靶;(4)磁控靶为阴极,通入高压电流;(5)阴极靶靠近待镀玻璃工件表面处平行玻璃往复移动。
【技术特征摘要】
1.一种低辐射玻璃的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)将清洁干净的待镀玻璃工件竖直置于支架上,送入真空镀膜仓中;(2)密封真空镀膜仓,抽真空,然后通入适量的工艺气体;并保持真空度稳定;(3)靶材Ag、Si嵌入阴极,与阴极垂直的水平方向置入磁场构成磁控靶;(4)磁控靶为阴极,通入高压电流;(5)阴极靶靠近待镀玻璃工件表面处平...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏芳芳,
申请(专利权)人:合肥协耀玻璃制品有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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