提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，包括一容纳有恒温水的恒温槽及设置于恒温槽内的传输滚轮，所述传输滚轮置于所述恒温水下，待刻蚀硅片置于所述传输滚轮上，所述传输滚轮转动，带动所述待刻蚀硅片运动，所述装置还包括一与所述恒温槽的出口端联通的恒温风干机构。本实用新型专利技术的有益效果体现在：将需要刻蚀的多晶硅片预先保持在温度为8‑10℃，与刻蚀槽温度相当，可以大大提高多晶硅片绒面的片内均匀性与片间均匀性，降低电池片的色差片比例，提高电池片的合格率。

【技术实现步骤摘要】
提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置
本技术属于太阳能电池组件
，具体涉及一种提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置及其处理方法。
技术介绍
多晶硅电池片的工艺制造流程一般是清洗制作绒面，然后扩散制作PN结、腐蚀去磷硅玻璃、PECVD镀膜、丝网印刷电极烧结，最后测试包装。清洗刻蚀是制造太阳能电池的第一道工艺，如何在p型硅片表面获得均匀的刻蚀绒面和保持每批硅片绒面的一致性是清洗工段考虑的重要问题。现有的多晶硅片一般都是直接上料进入刻蚀槽，硅片表面温度在20-25℃，进入刻蚀槽后，由于刻蚀槽内药液温度在8-10℃，硅片表面温度与刻蚀槽药液温度差距大，导致硅片表面刻蚀不均匀。
技术实现思路
本技术提供了一种提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置。本技术的目的通过以下技术方案来实现：提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，包括一容纳有恒温水的恒温槽及设置于恒温槽内的传输滚轮，所述传输滚轮置于所述恒温水下，待刻蚀硅片置于所述传输滚轮上，所述传输滚轮转动，带动所述待刻蚀硅片运动，所述装置还包括一与所述恒温槽的出口端联通的恒温风干机构。优选地，所述恒温风干机构包括与恒温槽内的传输滚轮同一平面的传输本文档来自技高网...

【技术保护点】
提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，其特征在于：包括一容纳有恒温水的恒温槽及设置于恒温槽内的传输滚轮，所述传输滚轮置于所述恒温水下，待刻蚀硅片置于所述传输滚轮上，所述传输滚轮转动，带动所述待刻蚀硅片运动，所述装置还包括一与所述恒温槽的出口端联通的恒温风干机构。

【技术特征摘要】
1.提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，其特征在于：包括一容纳有恒温水的恒温槽及设置于恒温槽内的传输滚轮，所述传输滚轮置于所述恒温水下，待刻蚀硅片置于所述传输滚轮上，所述传输滚轮转动，带动所述待刻蚀硅片运动，所述装置还包括一与所述恒温槽的出口端联通的恒温风干机构。2.如权利要求1所述的提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，其特征在于：所述恒温风干机构包括与恒温槽内的传输滚轮同一平面的传输辊，所述传输辊上方设置有恒温风刀。3.如权利要求1所述的提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，其特征在于：所述传输滚轮设置有上、下层传输滚轮，待刻蚀硅片设置于所述上、下层传输滚轮之间，所述上、下层传输滚轮转动，带动待刻蚀硅片进行传输。4.如权利要求1所述的提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱小芳，
申请(专利权)人：中建材浚鑫科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32