一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构制造技术
Acid emission structure for cleaning acid trough of solar silicon wafer
The utility model discloses a solar wafer cleaning tank acid emission structure, the acid discharge structure includes acid tank (1), the acid tank (1) is provided with a dilute acid discharge pipe (2) and concentrated acid discharge pipe (5), the dilute acid discharge pipe (2) and concentrated acid discharge pipe (5) and the acid tank (1) communicated with the dilute acid discharge pipe (2) is provided with a first control valve (3), the concentrated acid discharge pipe (5) is provided with a control valve (4) second. The utility model can solve the technical problem of inconvenient use of domestic barbecue in the prior art.
【技术实现步骤摘要】
一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构
本技术涉及太阳能硅片清洗设备
，尤其涉及一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构。
技术介绍
现有技术中，太阳能硅片在清洗的过程中需要用到酸液，而且需要用到不同浓度的酸液现在的酸液无论浓度高低均为统一排放，这样就给后续的废液处理增加了污水处理的成本。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构，其可以降低清洗酸液后续污水处理的成本。本技术的目的采用以下技术方案实现：一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构，所述酸排放结构包括酸槽，所述酸槽上设置有稀酸排放管和浓酸排放管，所述稀酸排放管和浓酸排放管与所述酸槽连通，所述稀酸排放管(2)上设置有第一控制阀，所述浓酸排放管上设置有第二控制阀。优选的，所述稀酸排放管上设置有流量测量装置。优选的，所述浓酸排放管上设置有流量测量装置。优选的，所述稀酸排放管和浓酸排放管上分别设置有流量测量装置。优选的，所述流量测量装置为流量传感器。优选的，所述酸槽中设置有酸度测量装置。相比现有技术，本技术的有益效果在于：本技术可以降低清洗酸液后续污水处理的成本。附图说明图1为本技术实施例的主视图；具体实施方式下面，结合附图以及具体实施方式，对本技术做进一步描述：如图1所示为本技术一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构的实施例，所述酸排放结构包括酸槽1，所述酸槽1上设置有稀酸排放管2和浓酸排放管5，所述稀酸排放管2和浓酸排放管5与所述酸槽1连通，所述稀酸排放管2上设置有第一控制阀3，所述浓酸排放管5上设置有第二控制阀4。本实施例中，稀酸排放管2上设置有流量测量装置。本实施例...
【技术保护点】
一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构，所述酸排放结构包括酸槽(1)，其特征在于，所述酸槽(1)上设置有稀酸排放管(2)和浓酸排放管(5)，所述稀酸排放管(2)和浓酸排放管(5)与所述酸槽(1)连通，所述稀酸排放管(2)上设置有第一控制阀(3)，所述浓酸排放管(5)上设置有第二控制阀(4)。
【技术特征摘要】
1.一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构，所述酸排放结构包括酸槽(1)，其特征在于，所述酸槽(1)上设置有稀酸排放管(2)和浓酸排放管(5)，所述稀酸排放管(2)和浓酸排放管(5)与所述酸槽(1)连通，所述稀酸排放管(2)上设置有第一控制阀(3)，所述浓酸排放管(5)上设置有第二控制阀(4)。2.根据权利要求1所述的一种太阳能硅片清洗酸槽的酸排放结构，其特征在于，所述稀酸排放管(2)上设置有流量测量装置。3.根据权利要求1所述的一种太...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄日红，郝宝才，孙启彬，李刚，
申请(专利权)人：昆山浠吉尔自动化系统有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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