一种类金刚石薄膜及其制备方法技术

技术编号:15818456 阅读:33 留言:0更新日期:2017-07-15 01:34
本申请提供了一种类金刚石薄膜及其制备方法。本发明专利技术提供的制备方法包括:将石墨靶材在混合气体环境中进行磁控溅射,在衬底上沉积得到类金刚石薄膜;所述混合气体为氩气、氢气和氮气。按照本发明专利技术的制备方法制得的类金刚石薄膜不仅具有良好的光学特性,同时还具有良好的硬度和耐磨性,能够适用于对光学和机械性能均有要求的器件。

Diamond film and preparation method thereof

The present invention provides a diamond film and a method for making the same. The preparation method of the invention comprises the following steps of: sputtering a graphite target in a mixed gas environment; depositing a diamond-like carbon film on a substrate; the mixture gas is argon, hydrogen and nitrogen gas. According to the invention, the preparation of diamond-like carbon films prepared by the method not only has good optical properties, but also has good hardness and wear resistance, can be applied to devices of optical and mechanical properties of the.

【技术实现步骤摘要】
一种类金刚石薄膜及其制备方法
本专利技术涉及薄膜
,特别涉及一种类金刚石薄膜及其制备方法。
技术介绍
金刚石中的碳原子以SP3杂化键的形式结合,石墨中的碳原子以SP2杂化键的形式结合,而类金刚石薄膜(简称DLC薄膜)是由金刚石结构的SP3杂化碳原子和石墨结构的SP2杂化碳原子相互混杂形成的三维网络构成,是一种亚稳态非晶材料。类金刚石薄膜具有高硬度、低摩擦系数、高热导率、低介电常数、宽带隙、良好光透光率、耐磨耐蚀及良好的生物相容性等特点,在航空航天、机械、电子、光学、装饰外观保护、生物医学等领域有广阔的应用前景。类金刚石薄膜一般分为含氢碳膜(a-C:H)和不含氢碳膜(a-C)两类,其中,含氢碳膜掺氢后碳膜氢化,使薄膜具有优异的透明度,可运用于对透明度及光学特性要求有特殊要求的产品,如手机前后盖板、手表盖板、摄像头镜片等。但是,相比于不含氢的DLC薄膜,掺氢后的DLC薄膜的硬度和耐磨性有所下降,不能同时兼具良好的光学特性和硬度耐磨的机械性能,难以适用于对光学特性和机械性能均有要求的器件。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的在于提供一种类金刚石薄膜及其制备方法,按照本专利技术的制备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种类金刚石薄膜的制备方法,其特征在于,包括:将石墨靶材在混合气体环境中进行磁控溅射,在衬底上沉积得到类金刚石薄膜;所述混合气体为氩气、氢气和氮气。

【技术特征摘要】
1.一种类金刚石薄膜的制备方法,其特征在于,包括:将石墨靶材在混合气体环境中进行磁控溅射,在衬底上沉积得到类金刚石薄膜;所述混合气体为氩气、氢气和氮气。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,氩气流量为20~50sccm,氢气流量为10~20sccm,氮气流量为1~10sccm。3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述混合气体中,氩气、氢气和氮气的体积比为2:(1~2):(0.1~0.3)。4.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述混合气体的气压为1~8mTorr。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱得菊吴德生陈立
申请(专利权)人:信利光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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