阻隔膜、OLED器件及显示器制造技术

一种阻隔膜、OLED器件及显示器，阻隔膜包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层，所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。上述阻隔膜，通过在所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置凹槽，能够降低所述阻隔膜的应力，在所述阻隔膜弯曲时不会产生挤压，使得所述阻隔膜的可折叠性能、弯曲性能较好，从而提高了所述阻隔膜的柔性性能，柔性性能较好。所述凹槽通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板工艺等即可完成，工艺简单，且成本较低。

【技术实现步骤摘要】
阻隔膜、OLED器件及显示器
本技术涉及膜
，特别是涉及一种阻隔膜与包含该阻隔膜的OLED器件及显示器。
技术介绍
目前，在电子和光器件领域，一些产品在完成之后需要在其表面贴附阻隔膜，以阻隔水汽等的进入，从而保证产品的性能。而无机物的阻水汽性能较好，常常被应用于阻隔膜，下简称无机物阻隔膜。无机物阻隔膜因其硬度高、化学稳定性好、热稳定性优良以及具有良好的绝缘性而得到广泛应用。常应用于阻隔膜的无机物阻隔膜有氮化硅(SiNx)，氧化硅等。然而，无机物阻隔膜通常是使用气相沉积法将无机物沉积在衬底上形成水汽阻隔膜，在沉积的过程中产生的残余应力，使得无机物阻隔膜的应力较大，这也成为了限制无机物阻隔膜运用的一个关键因素。无机物阻隔膜经过多次弯折，或者弯折半径小的情况下，容易出现裂缝以及缺陷密度的增加等问题，从而导致产品性能的衰减。目前，有以下几类方案来调控无机阻隔膜的应力。一种方案为，精细优化成膜条件，然而，成膜过程需要控制较多的工艺参数，使得优化过程非常复杂，且在将阻隔膜的应力优化至目标数值时，阻隔膜的其他性能也会发生改变或者减小，比如薄膜质量，杨氏模量，薄膜硬度，光学带隙等。另一种方案是修改薄膜沉积系统，例如，催化CVD(catalytical-CVD，catalyticalcerebrovasculardisease，催化化学气相沉积)和双频率PECVD(dual-frequencyPECVD，PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，双频率等离子体增强化学气相沉积法)技术，然而这种方案成本太高，并且会对沉积的薄膜产生负面的影响，如，会掺杂杂质进入阻隔膜，使得阻隔膜的阻水汽性能较差。又一种方案是，在无机物层上面叠层设置有机物来改善无机物阻隔膜的应力性能，这样可以部分缓解无机物阻隔膜的高应力，但是有机物和无机物的性能不同，经过长时间放置或者长时间的弯折、折叠等操作后，有机物和无机物结合的界面处性能都会发生很大变化，使得阻隔膜的应力依旧较大。上述调控阻隔膜应力的方案仍然存在着应力较大而使得阻隔膜的柔性性能较差的问题。此外，上述方案的工艺繁琐复杂，成本较高。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种柔性性能较好、工艺简单及成本较低的阻隔膜、OLED器件及显示器。一种阻隔膜，包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层，所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。在其中一个实施例中，所述水汽阻隔层为氮化硅层、氧化硅层或氧化铝层。在其中一个实施例中，所述凹凸部包括凹槽和凸起中至少一种。在其中一个实施例中，所述凹凸部设置有多个凹槽，所述多个凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。在其中一个实施例中，所述多个凹槽具有圆形开口或多边形开口。在其中一个实施例中，所述多边形包括三角形、长方形、正方形、正五边形、正六边形和正八边形中的至少一种。在其中一个实施例中，所述凹槽的深度为所述水汽阻隔层厚度的1％～10％。在其中一个实施例中，还包括聚甲基丙烯酸甲酯层，所述聚甲基丙烯酸甲酯层设置于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。一种OLED器件，其具有如上任一项所述的阻隔膜。一种显示器，包括显示屏及如上任一实施例所述的阻隔膜，所述阻隔膜设置于所述显示屏外表面。在其中一个实施例中，所述显示屏为OLED显示屏。上述阻隔膜，通过在所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置凹凸部，能够降低所述阻隔膜的应力，在所述阻隔膜弯曲时不会产生挤压，使得所述阻隔膜的可折叠性能、弯曲性能较好，从而提高了所述阻隔膜的柔性性能。所述凹凸部通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板(mask)工艺等即可完成，工艺简单，且成本较低。附图说明图1为本技术一实施方式的阻隔膜的结构示意图；图2为本技术另一实施方式的阻隔膜的结构示意图；图3为本技术又一实施方式的阻隔膜的结构示意图；图4为本技术又一实施方式的阻隔膜的结构示意图；图5为本技术又一实施方式的阻隔膜的结构示意图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施方式。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本技术的公开内容理解的更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。例如，一种阻隔膜，包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层，所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。本技术还提供一种显示器，所述显示器包括显示屏及所述阻隔膜。又如，所述显示屏为OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示屏。又如，所述显示屏为AMOLED(Active-matrixorganiclightemittingdiode，有源矩阵有机发光二极体)显示屏。又如，所述显示屏为柔性显示屏。又如，所述显示屏为柔性OLED显示屏。为了进一步理解上述阻隔膜，又一个例子是，请参阅图1，阻隔膜10包括衬底100及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层200，所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部(图未示)。又如，所述凹凸部为凹槽，具体的，请再次参阅图1，所述水汽阻隔层200远离所述衬底100的表面上设置有凹槽210。又如，所述凹凸部为凸起。又如，所述凹凸部包括凹槽和凸起中至少一种。又如，所述凹凸部为相间设置的凹槽和凸起。又如，所述凹凸部设置有多个凹槽，所述多个凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上，这样，能够有效预防与避免经过多次弯折，或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题，进一步避免了微电子和光电器件性能的衰减。又如，所述凹凸部设置有多个凸起，所述多个凸起呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。所述凹凸部是通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板(mask)制备得到。需要说明的是，水汽阻隔层的厚度也会对其应力产生较大的影响，厚度较小，会影响水汽阻隔层本身的阻隔水汽的能力，厚度太高，又会产生较大的应力，容易在弯折时出现折痕或者断裂的问题，例如，所述水汽阻隔层的厚度为500纳米～1000纳米。又如，所述水汽阻隔层的厚度为500纳米、550纳米、600纳米、650纳米、700纳米、750纳米、800纳米、850纳米、900纳米、950纳米和1000纳米中的一种，这样，能够减少水汽阻隔层的应力，还能够减少发生其在弯折时出现折痕或者断裂的问题。又如，所述衬托为PET(Polyethyleneterephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阻隔膜，包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层，其特征在于，所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。

【技术特征摘要】
1.一种阻隔膜，包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层，其特征在于，所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。2.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述凹凸部包括凹槽和凸起中至少一种。3.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述凹凸部设置有多个凹槽，所述多个凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。4.根据权利要求3所述的阻隔膜，其特征在于，所述多个凹槽具有圆形开口或多边形开口。5.根据权利要求4所述的阻隔膜，其特征在于，所述多边形包括三角形、长方形、正方形、正五边形、正六边形...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋小进，汪国杰，谢志生，苏君海，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44