防聚合物结垢的药剂、容器及应用制造技术

用于含烯属不饱和双键单体聚合的聚合物垢防止剂，它包含：含芳胺化合物（Ａ）和醌化合物（Ｂ）缩合产物的碱性溶液。该防垢剂用于在聚合容器的内壁等上形成涂层。这样的容器能有效地防止聚合物垢沉积，并有利于生产聚合物，当这种聚合物形成片材或类似产品时显示出很少的鱼眼和良好的白度。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于用于具有烯属不饱和双键单体聚合的聚合物结垢防止剂，能有效防止聚合物结垢沉积的聚合容器以及使用所述容器生产聚合物的方法。对于具有烯属不饱和双键单体的聚合方法而言，已知的有，悬浮液聚合，乳液聚合，溶液聚合，气相聚合和本体聚合。在这些聚合方法的任一种中，聚合物垢易于沉积在聚合过程中单体接触的表面上，如聚合容器的内壁、搅拌设备等等。聚合物垢在内壁上的沉积导致降低聚合物的得率并降低聚合容器的冷却容量这些不利因素;而且，该聚合物垢还可能脱落并混入聚合产品中，由此损害产品的质量;这样的聚合物垢的除去很麻烦，因此将耗费时间。此外，由于该聚合物垢含有未反应的单体并且操作者可能是暴露在那里的，所以可能使操作者的身体产生不适。迄今为止，对于防止聚合物垢沉积在内壁等上的方法而言，有将含胺化合物，醌化合物，醛化合物或诸如此类的聚合物垢防止剂涂于聚合容器内壁等上的方法，或者是将这样的化合物添加至含水聚合介质中的方法。如果聚合操作是在约5或6次内重复的话，这些方法能防止聚合物垢的沉积，然而，如果聚合操作的重复次数超过5或6次的话，防垢作用将被消弱。也就是说，防垢作用的耐久性很差。特别是，在使用水溶性催化剂的场合，防垢作用将起反作用，这在工业上是不能令人满意的。日本预审专利公开(KOKAI)号53-13689(1978)中提出，在单体将要接触的区域如聚合容器的内壁上形成一芳香胺化合物缩合产品的涂层。这样的缩合产品的涂层的形成能使聚合操作重复约100-200次，而在液相内，即在液面下的聚合容器内侧上没有聚合物垢的沉积。然而，在位于聚合容器上部气液相间界面的附近很容易产生聚合物垢的沉积，该沉积的垢将随聚合操作的重复进行而逐渐增加，并最后从内壁等脱落，混入聚合产品中。如果将含聚合物垢的聚合产品加工成如片材等成型制品的话，该聚合物垢将在成型制品中引起鱼眼的增加，并大大地降低制品的质量。要求通过聚合而得到的聚合产品具有高白度。也就是说不添加任何着色剂，将聚合产品制成片材等时，最终形成的产品或多或少是有颜色的。这种着色被称为是原始着色，人们希望这种着色尽可能的少。然而，在日本预审公开中公开的含所述芳胺化合物的缩合产物的涂层有可能被脱落入或溶入聚合产品中，由此，降低白度或增加其原始着色。因此，本专利技术的目的是提供一种用于有烯属不饱和双键的单体聚合的聚合物垢防止剂，它不仅能在液相中，而且还能在气液相之间界面的附近有效地防止聚合物垢的沉积，在加工成成型制品如片材等之后，能产生很少鱼眼和很少原始着色的聚合产品;一种使用该防垢剂的聚合容器，以及使用该容器生产聚合物的方法。因此，作为实现上述目的的方法，本专利技术提供一种用于有烯属不饱和双键的单体聚合的聚合物垢防止剂，它包含含有(A)芳胺化合物和(B)醌化合物缩合产物的碱性溶液。本专利技术还提供用于有烯属不饱和双键单体聚合的聚合容器，在该容器内壁表面上具有防聚合物垢涂层，其中所述的涂层是通过施加含(A)芳胺化合物和(B)醌化合物缩合产物的碱性溶液并随后干燥而形成的。更进一步地，本专利技术提供一种生产烯属不饱和双键聚合物的方法，该方法包含在其内壁表面上有聚合物垢防止涂层的聚合容器中将单体聚合，其中所述的涂层是通过施加含(A)芳胺化合物和(B)醌化合物缩合产物的碱性溶液并随后干燥而形成的。根据本专利技术，不仅能在聚合容器内的液相区域，而且还能在气液相间界面的附近有效地防止聚合物垢的沉积。因而，在每次聚合操作后，本专利技术不需要进行除去聚合物垢的操作，因此提高了生产率。此外，当利用由本专利技术申请获得的聚合产品加工成成型制品如片材时，最终的成型制品几乎没有鱼眼。更进一步地，如上得到的成型制品原始着色很少，也就是说，用JIS Z8730(1980)描述的亨特色差公式计算，在氯乙烯聚合物的情况下，成型制品的发光指数L为70或大于70，在丁苯橡胶(SBR)的情况下，发光指数L为80或大于80。(A)芳胺化合物芳胺化合物(A)被分成含至少一个选自羟基，羧基和磺基(-SO3H)的(A-1)芳胺化合物和不含羟基，羧基和磺基的(A-2)芳胺化合物。含至少一个选自羟基，羧基和磺基(SO3H)的(A-1)芳胺化合物芳胺化合物(A-1)包括例如由通式(1)-(3)表示的化合物。 其中，m是1-5的整数，R1代表选自-OH，-COOH和-SO3H的至少一个基团，其中存在两个或多个R1，它们可以相同或不同，R2代表选自-H，-NH2，-Cl，-NO2，-COCH3，-OCH3，-N(CH3)2和含C1-3烷基的至少一个基团，其中存在两个或多个R2，它们可以相同或不同。具体地说，通式(1)化合物包括例如，邻、间或对-氨基苯酚，2-氨基-4-氯苯酚，5-硝基-2-氨基苯酚，2-硝基-4-氨基苯酚，4-硝基-2-氨基苯酚，邻、间或对-氨基苯甲酸，2，3-，2，4-，2，5-，2，6-，3，4-，3，5-或4，6-二氨基苯甲酸，3-或4-氨基苯二甲酸，2-，4-或5-氨基间苯二甲酸，4，6-二氨基间苯二甲酸，2，5-或2，6-二氨基对苯二甲酸，3-，4-或5-氨基水杨酸，4-羟基氨茴酸，邻-，间-或对-氨基苯磺酸，2，3-，2，4-，2，5-，2，6-，3，4-或3，5-二氨基苯磺酸，2-氨基-1-酚-4-磺酸，6-氨基-4-硝基-1-酚-2-磺酸和6-氨基-4-氯-1-酚-2-磺酸。 其中m如上定义，R1如上定义，其中存在两个或多个R1，它们可以相同或不同，R2如上定义，其中存在两个或多个R2，它们可以相同或不同，n为0-5的整数。具体地说，通式(2)的化合物包括例如，4-羟基二苯胺，4-氨基-4′-羟基二苯胺，4-羧基二苯胺，4-氨基-4′-羧基二苯胺，4-磺基二苯胺和4-氨基-4′-磺基二苯胺。 其中p为0-4的整数，q为0-3的整数，但p和q不能同时为零，R2如上定义，其中存在两个或多个R2，它们可以相同或不同，R3为选自-OH，-COOH，-CH2COOH，-CH2CH2COOH和-SO3H的至少一个基团，其中存在两个或多个R3，它们可以相同或不同。具体地说，通式(3)的化合物包括例如，4-氨基-1-萘酚，1-氨基-5-萘酚，1，2-萘二胺-7-羧酸，1，5-萘二胺-2-羧酸，1，5-萘二胺-4-羧酸，1，6-萘二胺-4-羧酸，1，8-萘二胺-4-羧酸，1，2-萘二胺-3-磺酸，1，2-萘二胺-4-磺酸，1，2-萘二胺-5-磺酸，1，2-萘二胺-6-磺酸，1，2-萘二胺-7-磺酸，1，3-萘二胺-5-磺酸，1，3-萘二胺-6-磺酸，1，4-萘二胺-2-磺酸，1，4-萘二胺-7-磺酸，1，5-萘二胺-2-磺酸，1，5-萘二胺-4-磺酸，1，5-萘二胺-7-磺酸，1，6-萘二胺-2-磺酸，1，6-萘二胺-4-磺酸，1，6-萘二胺-7-磺酸，1，8-萘二胺-4-磺酸，1，8-萘二胺-3，6-二磺酸，1，8-萘二胺-4，5-二磺酸，α-氨基-β-萘丙酸，α-氨基-β-萘羧酸，2-萘胺-1-磺酸，8-萘胺-1-磺酸，5-萘胺-1-磺酸，1-氨基-2-萘酚-4-磺酸，2-氨基-8-萘酚-6-磺酸(咖马酸)，2-氨基-5-萘酚-7-磺酸(J酸)，1-氨基-8-萘酚-3，6-二磺酸(H酸)等。在化合物(A-1)中，优选的是邻-、间-、或对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于含烯属不饱和双键单体聚合的聚合物垢防止剂，它含有含芳胺化合物（Ａ）和醌化合物（Ｂ）缩合产物的碱性溶液。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水敏秀，渡边干雄，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]