【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于用于具有烯属不饱和双键单体聚合的聚合物结垢防止剂，能有效防止聚合物结垢沉积的聚合容器以及使用所述容器生产聚合物的方法。对于具有烯属不饱和双键单体的聚合方法而言，已知的有，悬浮液聚合，乳液聚合，溶液聚合，气相聚合和本体聚合。在这些聚合方法的任一种中，聚合物垢易于沉积在聚合过程中单体接触的表面上，如聚合容器的内壁、搅拌设备等等。聚合物垢在内壁上的沉积导致降低聚合物的得率并降低聚合容器的冷却容量这些不利因素;而且，该聚合物垢还可能脱落并混入聚合产品中，由此损害产品的质量;这样的聚合物垢的除去很麻烦，因此将耗费时间。此外，由于该聚合物垢含有未反应的单体并且操作者可能是暴露在那里的，所以可能使操作者的身体产生不适。迄今为止，对于防止聚合物垢沉积在内壁等上的方法而言，有将含胺化合物，醌化合物，醛化合物或诸如此类的聚合物垢防止剂涂于聚合容器内壁等上的方法，或者是将这样的化合物添加至含水聚合介质中的方法。如果聚合操作是在约5或6次内重复的话，这些方法能防止聚合物垢的沉积，然而，如果聚合操作的重复次数超过5或6次的话，防垢作用将被消弱。也就是说，防垢作用的耐久...
【技术保护点】
一种用于含烯属不饱和双键单体聚合的聚合物垢防止剂，它含有含芳胺化合物（Ａ）和醌化合物（Ｂ）缩合产物的碱性溶液。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：清水敏秀，渡边干雄，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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