滤波片缺陷检测系统及其检测方法技术方案

一滤波片缺陷检测系统及其检测方法，该系统用于进行光学滤波片的有效区域缺陷检测分析，其包括：一相机单元，一光学单元，一位于所述相机单元和所述光学单元之间的一镜头单元，以及承载所述光学滤波片的一移动平台，其中通过所述相机单元、所述镜头单元和所述光学单元进行检测分析位于所述移动平台的所述多个光学滤波片，并且通过所述移动平台将所述光学滤波片移至一检测位置。

【技术实现步骤摘要】
滤波片缺陷检测系统及其检测方法
本专利技术涉及多个光学滤波片检测，特别涉及一滤波片缺陷检测系统及其应用，其中利用所述滤波片缺陷检测系统可同时检测所述多个光学滤波片检测，并提升所述滤波片的检测工序的生产效率，同时减少检测失误情形发生和降低生产成本。
技术介绍
科技的日新月异、各种电子产品的发展，并且随着移动互联网的发展，以及多媒体信息设备的与日俱增，越来越多的产品或设备对于光学性产品和零件需求不断的增加，因此对于各种光学制程的生产效率和品质要求也逐渐增高。其中，光学零件中的滤波片在各种光学相关产品上几乎是不可或缺的一个存在。但是，目前在光学滤波片的制程中，还是存在各种待改进的问题，特别是，光学滤波片在玻璃成型和镀膜过程中有可能出现各种缺陷，包括点子、杂质、划痕和因镀膜不良形成的迹等。进一步地，光学滤波片的缺陷会导致各种镜头模组造成成像不良的影响，其中不良的滤波片运用在手机模组时可能造成成像不良、污点等异常情况，这样的状况不只是造成零件制程中的反工，更易使得反工过程造成零件的损伤，因而造成更大的损失。因此，在滤波片的制造过程和相关零件的组装工艺，对于滤波片品质的检测需要相对的严格。例如镜座组件的制程工艺中，当中所使用的滤波片是由整片滤波片切割成小片滤波片，再进行组装，其中在整片滤波片切割成小片滤波片前需做缺陷检测，将缺陷部位标识出来，以确保切割后只取用没有缺陷的小片，进而保证后续产品的品质。然而，目前在光学滤波片生产工艺过程中，大部份都是依赖生产线人员借助高倍显微镜进行人眼识别，这样将存在一些缺点，首先，通过生产线人员进行人眼识别判断滤波片的有效区域缺陷，当中存在着人员的主观性，且无法进一步地量化检测指标。第二，经由生产线人员的判断对于缺陷的标准也仅能依赖员工经验判断，易造成误检、漏检，并且在人员的训练上也因为是依赖经验判断，因此不易进行人员的教育训练。第三，由于是由生产线人员进行人眼判断，其中人眼易疲劳，并且效率较低，目前人工操作的UPH约1000PCS。为解决以上问题，本专利技术提出了一种全自动的滤波片缺陷检测设备和方法。利用科学的方法有效的解决上述的问题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一滤波片缺陷检测系统，以用于检测至少一光学滤波片，以提升所述滤波片的检测工序的生产效率，并减少检测失误情形发生。本专利技术的主要目的在于提供一滤波片缺陷检测系统，以用于检测多个光学滤波片时，减少检测工序的人员的主观性判断，进而使检测工序可量化生产，提升UPH值，约为2000PCS。值得一提的是，依据传统人眼检测方式，其中判断条件一般是依照检测人员的经验值，易造成误检和漏检的情形，另外，因人眼易疲劳，所以生产效率相对较低，目前人工操作的检测UPH值约为1000PCS。本专利技术的主要目的在于提供一滤波片缺陷检测系统，使大量进行所述多个光学滤波片检测时，可以提升所述检测工序的效率，同时可以量化的判断所述多个光学滤波片上的缺陷，并且降低生产成本。本专利技术的另一目的在于提供一视觉检测设备，以减少所述检测工序的人员。因所述检测工序原本量一人控管一台显微镜进行检测，现今利用所述视觉检测设备可降低人力需求，由一人控管三台所述视觉检测设备。为了达到以上目的，本专利技术提供一滤波片缺陷检测系统，以用于进行多个光学滤波片的有效区域缺陷检测分析，其包括：一相机单元，一光学单元，一位于所述相机单元和所述光学单元之间的一镜头单元，以及承载所述光学滤波片的一移动平台，其中通过所述相机单元、所述镜头单元和所述光学单元进行检测分析位于所述移动平台的所述多个光学滤波片，并且通过所述移动平台将所述光学滤波片移至一检测位置。根据本专利技术的一个实施例，所述相机单元为一高像素相机。根据本专利技术的一个实施例，所述镜头单元可为一物方远心镜头。根据本专利技术的一个实施例，所述光学单元为一低角度的环形光源。根据本专利技术的一个实施例，所述光学单元为散射性蓝光。根据本专利技术的一个实施例，所述工作平台有XY两个方向的自由度。根据本专利技术的一个实施例，所述光学滤波片的有效区域缺陷检查标准定义如下：1.小于5um的缺陷不计数量，但各缺陷间的间距需大于20um；2.5～10um的缺陷，允许5个以内，间距大于100um；3.10～15um的缺陷，应在1个以内；以及4.有效检查区域需根据本专利技术的另外一方面，本专利技术还提供一视觉检测系统的一光学滤波片检测方法，其中包括如下步骤：(s100)开始将多个光学滤波片放置于一视觉检测设备的一移动平台；(s200)调整一相机单元垂直方向的位置，同时调节一光学单元的投射位置，并保存一系统参数；(s300)标定所述视觉检测系统的一视觉校正参数，并保存；(s400)设置所述光学滤波片检测的一工艺参数、一滤波片阵列、一设备运行等参数；(s500)启动所述视觉检测设备，将放置于所述移动平台的所述光学滤波片逐一地运行至一检测位置；(s600)进行一视觉检测，并分析和记录测试未通过的位置，在检测完成后根据记录位置标记出缺陷光学滤波片；以及(s700)所述视觉检测完成后，所述移动平台退回启始位置。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s200)中，所述相机单元为一高像素相机。根据本专利技术的一个实施例，其中调整所述高像素相机，使所述光学滤波片处于一聚焦位置，并调整所述高像素相机的曝光时间和增益，使所述光学滤波片成像清晰。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s200)中，所述光学单元为一低角度环形光源。根据本专利技术的一个实施例，其中调节所述低角度环形光源，使其产生的一光源均匀的照射在所述光学滤波片上。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s200)中，所述系统参数为通过所述高像素相机的芯片大小和一镜头单元的放大倍率计出像素尺寸和实际尺寸的比例系数。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s300)中，所述视觉校正参数是基于最小二乘线性拟合的系数标定方法取得。根据本专利技术的一个实施例，其中所述基于最小二乘线性拟合的系数标定方法，其包括如下步骤：(s301)针对有缺陷所述光学滤波片取样；(s302)经由所述视觉检测设备对取样的有缺陷所述光学滤波片检测，并获取各缺陷的最小外接圆直径的成像尺寸；(s303)经由一工具显微镜对取样的有缺陷所述光学滤波片量测，并获取实际尺寸；以及(s304)根据最小二乘法原理，按线性关系对取样的检测和量测数据进行拟合，取得参数，作为一标定参数。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s301)中，取样数目为10个。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s304)中，所述参数为：y＝0.365x+0.167。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s600)中，所述视觉检测是通过所述视觉检测系统的一视觉软件分析所述光学滤波片的一检测区域中是否缺陷，并对缺陷进行形态学特征提取，且将提取的数据与生产的所述工艺参数进行比对判断，其中在不符合一光学滤波片的有效区域缺陷检查标准时，即判断为不合格即记录该位置，并由所述工作平台将下一个所述光学滤波片移至所述检测位置，再完成所有所述光学滤波片的检测后，利用记号笔对带缺陷滤波片进行标记。根据本专利技术的一个实施例，其中步骤(s600)，所述视觉检测进一步包括如下步骤：(s601)获取一图像；(s602)获得有效检测区域图像；(s603)检测所述有效检测区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
一滤波片缺陷检测系统，以用于进行至少一光学滤波片的有效区域缺陷检测分析，其特征在于，包括：一相机单元，一光学单元，一位于所述相机单元和所述光学单元之间的一镜头单元，以及承载所述光学滤波片的一移动平台，其中通过所述相机单元、所述镜头单元和所述光学单元进行检测分析位于所述移动平台的所述多个光学滤波片，并且通过所述移动平台将所述光学滤波片移至一检测位置。

【技术特征摘要】
1.一滤波片缺陷检测系统，以用于进行至少一光学滤波片的有效区域缺陷检测分析，其特征在于，包括：一相机单元，一光学单元，一位于所述相机单元和所述光学单元之间的一镜头单元，以及承载所述光学滤波片的一移动平台，其中通过所述相机单元、所述镜头单元和所述光学单元进行检测分析位于所述移动平台的所述多个光学滤波片，并且通过所述移动平台将所述光学滤波片移至一检测位置。2.根据权利要求1所述的滤波片缺陷检测系统，其中所述相机单元为一高像素相机。3.根据权利要求1所述的滤波片缺陷检测系统，其中所述镜头单元为一物方远心镜头。4.根据权利要求1所述的滤波片缺陷检测系统，其中所述光学单元为一低角度的环形光源。5.根据权利要求4所述的滤波片缺陷检测系统，其中所述光学单元为散射性蓝光。6.根据权利要求1所述的滤波片缺陷检测系统，其中所述工作平台有XY两个方向的自由度。7.根据权利要求1到6所述的滤波片缺陷检测系统，其中所述光学滤波片的有效区域缺陷检查标准定义如下：（1）.小于5um的缺陷不计数量，但各缺陷间的间距需大于20um；（2）.5～10um的缺陷，允许5个以内，间距大于100um；（3）.10～15um的缺陷，应在1个以内；以及（4）.有效检查区域需8.一视觉检测系统的一光学滤波片检测方法，其特征在于，包括如下步骤：(s100)开始将多个光学滤波片放置于一视觉检测设备的一移动平台；(s200)调整一相机单元垂直方向的位置，同时调节一光学单元的投射位置，并保存一系统参数；(s300)标定所述视觉检测系统的一视觉校正参数，并保存；(s400)设置所述光学滤波片检测的一工艺参数、一滤波片阵列、一设备运行等参数；(s500)启动所述视觉检测设备，将放置于所述移动平台的所述光学滤波片逐一地运行至一检测位置；(s600)进行一视觉检测，并分析和记录测试未通过的位置，在检测完成后根据记录位置标记出缺陷光学滤波片；以及(s700)所述视觉检测完成后，所述移动平台退回启始位置。9.根据权利要求8所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s200)，所述相机单元为一高像素相机。10.根据权利要求9所述的滤波片缺陷检测系统，其中调整所述高像素相机，使所述光学滤波片处于一聚焦位置，并调整所述高像素相机的曝光时间和增益，使所述光学滤波片成像清晰。11.根据权利要求10所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s200)，所述光学单元为一低角度环形光源。12.根据权利要求11所述的滤波片缺陷检测系统，其中调节所述低角度环形光源，使其产生的一光源均匀的照射在所述光学滤波片上。13.根据权利要求8所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s200)，所述系统参数为通过所述高像素相机的芯片大小和一镜头单元的放大倍率计出像素尺寸和实际尺寸的比例系数。14.根据权利要求8所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s300)，所述视觉校正参数是基于最小二乘线性拟合的系数标定方法取得。15.根据权利要求14所述的滤波片缺陷检测系统，其中所述基于最小二乘线性拟合的系数标定方法，其包括如下步骤：(s301)针对有缺陷所述光学滤波片取样；(s302)经由所述视觉检测设备对取样的有缺陷所述光学滤波片检测，并获取各缺陷的最小外接圆直径的成像尺寸；(s303)经由一工具显微镜对取样的有缺陷所述光学滤波片量测，并获取实际尺寸；以及(s304)根据最小二乘法原理，按线性关系对取样的检测和量测数据进行拟合，取得参数，作为一标定参数。16.根据权利要求15所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s301)，取样数目为10个。17.根据权利要求16所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s304)，所述参数为：y＝0.365x+0.167。18.根据权利要求8所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s600)，所述视觉检测是通过所述视觉检测系统的一视觉软件分析所述光学滤波片的一检测区域中是否缺陷，并对缺陷进行形态学特征提取，且将提取的数据与生产的所述工艺参数进行比对判断，其中在不符合一光学滤波片的有效区域缺陷检查标准时，即判断为不合格即记录该位置，并由所述工作平台将下一个所述光学滤波片移至所述检测位置，再完成所有所述光学滤波片的检测后，利用记号笔对带缺陷滤波片进行标记。19.根据权利要求8所述的滤波片缺陷检测系统，其中步骤(s600)，所述视觉检测进一步包括如下步骤：...

【专利技术属性】
技术研发人员：诸庆，谷新，
申请(专利权)人：宁波舜宇光电信息有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33