Acidic polishing liquid with excellent polishing performance and stability, are widely used in the industry, but this process will produce a large number of harmful waste gas waste, environmental pollution, and because of the corrosive too strong for microelectronics. Therefore, an alkaline polishing liquid is adopted, and the sodium hydroxide with low cost is used to solve the pollution problem, and the glossiness of the polishing is higher than that of the traditional alkaline polishing.
【技术实现步骤摘要】
一种碱性金属抛光液的制备方法
：本专利技术涉及化学抛光领域，具体涉及一种碱性金属抛光液的制备方法。背景介绍：随着科学技术的发展，对材料表面光洁度和平整度的要求越来越高，这对表面光整技术提出了新的挑战，同时也为该技术的发展和应用提供了机遇。化学抛光技术已在金属精加工、金属样品制备、控制金属表面质量与提高金属表面光洁度等方面获得了极其广泛的应用。化学抛光是金属表面处理中的一个重要工序，通过化学抛光可以获得光洁度高、平整性好的表面，使金属的光反射能力、耐腐蚀性能以及热反射能力得到加强，同时该金属制品的装饰效果得到了提高。随着微电子行业的发展，目前大规模使用的酸性抛光液暴露出严重的问题，随着集成度的提高，酸性抛光液已不能满足巨大规模集成电路(GLSI)多层布线CMP的需求。本专利技术的碱性抛光液具有低机械作用、平坦化程度高和无毒环保等优势。
技术实现思路
：本专利技术的目的在于提供无毒环保碱性金属抛光液的制备方法。本专利技术具体方案如下：先室温下配制40-60％的氢氧化钠溶液，再加入光亮助剂1-2wt％、表面活性剂0.1-0.5wt％、增稠剂2-5wt％、氧化剂5-10wt％、螯合剂1-2wt％，在60℃下搅拌20min得到pH在9-11的环保型金属抛光液；酸性抛光液由于具有优良的抛光性和稳定性，在工业中应用广泛，但在此过程中会产生大量有害废气废水废渣、污染环境，并且因其腐蚀性太强不适合微电子等领域。因此，本发一种明碱性抛光液，采用成本低廉的氢氧化钠，不仅解决了污染问题，而且抛光后光泽度比传统碱性抛光高；光亮助剂采用硫酸铜、PEG-60氢化蓖麻油和氨甲基丙醇中的一...
【技术保护点】
本专利技术的目的在于提供无毒环保碱性金属抛光液的制备方法。本专利技术具体方案如下：先室温下配制40‑60％的氢氧化钠溶液，再加入光亮助剂1‑2wt％、表面活性剂0.1‑0.5wt％、增稠剂2‑5wt％、氧化剂5‑10wt％、螯合剂1‑2wt％，在60℃下搅拌20分钟得到pH在9‑11的环保型金属抛光液；酸性抛光液由于具有优良的抛光性和稳定性，在工业中应用广泛，但在此过程中会产生大量有害废气废水废渣、污染环境，并且因其腐蚀性太强不适合微电子等领域。因此，本发一种明碱性抛光液，采用成本低廉的氢氧化钠，不仅解决了污染问题，而且抛光后光泽度比传统碱性抛光高。
【技术特征摘要】
1.本发明的目的在于提供无毒环保碱性金属抛光液的制备方法。本发明具体方案如下：先室温下配制40-60％的氢氧化钠溶液，再加入光亮助剂1-2wt％、表面活性剂0.1-0.5wt％、增稠剂2-5wt％、氧化剂5-10wt％、螯合剂1-2wt％，在60℃下搅拌20分钟得到pH在9-11的环保型金属抛光液；酸性抛光液由于具有优良的抛光性和稳定性，在工业中应用广泛，但在此过程中会产生大量有害废气废水废渣、污染环境，并且因其腐蚀性太强不适合微电子等领域。因此，本发一种明碱性抛光液，采用成本低廉的氢氧化钠，不仅解决了污染问题，而且抛光后光泽度比传统碱性抛光高。2.如权利要求1所述一种无毒环保碱性金属抛光液的配制，其特征在于：作为优选，所述的光亮助剂采用硫酸铜、PEG-60氢化蓖麻油和氨甲基丙醇中的一...
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