用于2000mm数控抛光机工作台的碟簧串摆动平衡机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于2000mm数控抛光机工作台的碟簧串摆动平衡机构。主要解决现有的重锤式、液压缸式等平衡机构无法满足大尺寸抛光机床工作台的重力平衡的问题。其特征在于：包括工作台（1）、工作台底座（2）、碟簧串（4），所述碟簧串（4）上下两端分别固定有碟簧串下支架（5）和碟簧串上支架（3），所述碟簧串下支架（5）固定在工作台底座（2）上，且碟簧串下支架（5）位于工作台翻转中心（A）的正下方，所述碟簧串上支架（3）固定在工作台（1）底面，且碟簧串上支架（3）水平方向上位于工作台翻转中心（A）左侧。该机构可以对2000mm数控抛光机工作台翻转进行重力平衡，功能稳定可靠。

Disc spring string swinging balance mechanism for 2000mm numerical control polishing machine worktable

The utility model relates to a disc spring string swing balance mechanism for a 2000mm numerical control polishing machine worktable. The utility model mainly solves the problem that the balance mechanism of the existing heavy hammer type and the hydraulic cylinder type can not meet the gravity balance of the worktable of the large scale polishing machine tool. Which includes working table (1) and table base (2), spring (4), on the disc spring (4) on the upper and lower ends are respectively fixed on the spring bracket (5) and a disc spring on upper bracket (3), the spring on the lower bracket (5) fixed on the base of table (2), and the disc spring on the lower bracket (5) is located in the center of turning table (A) is below the disc spring on the bracket (3) fixed on the work table (1) at the bottom, and the disc spring on the bracket (3) level located in the direction turning center table (A) on the left. This mechanism can be used for the 2000mm CNC polishing machine worktable for gravity balance.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及机械加工设备领域，具体说是一种用于2000mm数控抛光机工作台翻转的碟簧串摆动平衡机构。
技术介绍
在精密光学镜片加工领域，随着社会的发展，精密光学镜片越做越大，而目前的抛光机床无法适应大直径光学镜片的加工，为此，研制出了大型数控抛光机。而该机床由于尺寸过大，其工作台在翻转测量时，为了便于操作和增加倾覆保护，需要对工作台的翻转进行重力平衡，而现有的重锤式、液压缸式等平衡机构都无法满足平衡力动态变化需求。
技术实现思路
为了克服现有的重锤式、液压缸式等平衡机构无法满足大尺寸抛光机床工作台的重力平衡的不足，本技术提供一种用于2000mm数控抛光机工作台的碟簧串摆动平衡机构，该机构可以对2000mm数控抛光机工作台翻转进行重力平衡，功能稳定可靠。本技术的技术方案是：一种用于2000mm数控抛光机工作台的碟簧串摆动平衡机构，包括工作台、工作台底座，还包括碟簧串，所述碟簧串上下两端分别固定有碟簧串下支架和碟簧串上支架，所述碟簧串下支架固定在工作台底座上，且碟簧串下支架位于工作台翻转中心的正下方，所述碟簧串上支架固定在工作台底面，且碟簧串上支架水平方向上位于工作台翻转中心左侧。所述碟簧串下支架与工作台底座通过调心滚子轴承副连接，所述碟簧串上支架与工作台通过调心滚子轴承副连接。本技术具有如下有益效果：由于采取上述方案，工作台底座与工作台之间通过碟簧串相连，工作台翻转时，碟簧串上下支架中心距变化，碟簧压缩、放松，平衡力臂变化，从而改变平衡力矩。当工作台绕翻转中心从垂直态翻转到水平态，重力矩先从大到小，再从小到大，碟簧串的平衡力矩也是先从大到小，再从小到大，较好地满足了平衡力动态变化需求，功能稳定可靠。附图说明图1为本技术工作台垂直状态的结构示意图；图2为本技术工作台水平状态的结构示意图。图中1-工作台，2-工作台底座，3-碟簧串上支架，4-碟簧串，5-碟簧串下支架，A-翻转中心，B-工作台质心，h-压缩量。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步说明：由图1、图2所示，一种用于2000mm数控抛光机工作台的碟簧串摆动平衡机构，包括工作台1、工作台底座2，还包括碟簧串4，所述碟簧的型号为A100-1（GB/Ｔ1972（108），碟簧串4由若干个所述碟簧串联连接而成。所述碟簧串4上下两端分别固定有碟簧串下支架5和碟簧串上支架3，所述碟簧串下支架5通过调心滚子轴承副连接在工作台底座2上，且碟簧串下支架5位于工作台翻转中心A的正下方，其中碟簧串下支架5中心垂直方向距离工作台底座2底面为580mm，水平方向位于工作台翻转中心A的正下方。所述碟簧串上支架3通过调心滚子轴承副连接在工作台1底面，且碟簧串上支架3水平方向上位于工作台翻转中心A左侧，距离工作台翻转中心A为120mm，碟簧串上支架3中心垂直方向距离工作台底座2底面为74mm。当工作台翻转时，由于碟簧串4的上支架轴承中心随工作台绕翻转中心A翻转时，碟簧串上、下支架中心距变化，碟簧将压缩、放松。当工作台处于翻转行程的两端垂直态与水平态时碟簧的压缩量h最大，平衡力也最大，平衡力臂也最长，此时，由于工作台质心的重力臂最长，需要被平衡的力矩也最大。当工作台质心B从两端绕翻转中心A向翻转中心上方翻转时，重力臂逐渐缩小时，碟簧串上支架中心随工作台向翻转中心上方翻转，碟簧串长度变长，平衡力逐渐缩小，平衡力臂也缩短。工作台绕工作台翻转中心从垂直态翻转到水平态，重力矩先从大到小，再从小到大，碟簧串的平衡力矩也是先从大到小，再从小到大，较好地满足了平衡力动态变化需求。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于2000mm数控抛光机工作台的碟簧串摆动平衡机构，包括工作台（1）、工作台底座（2），其特征在于：还包括碟簧串（4），所述碟簧串（4）上下两端分别固定有碟簧串下支架（5）和碟簧串上支架（3），所述碟簧串下支架（5）固定在工作台底座（2）上，且碟簧串下支架（5）位于工作台翻转中心（A）的正下方，所述碟簧串上支架（3）固定在工作台（1）底面，且碟簧串上支架（3）水平方向上位于工作台翻转中心（A）左侧。

【技术特征摘要】
1.一种用于2000mm数控抛光机工作台的碟簧串摆动平衡机构，包括工作台（1）、工作台底座（2），其特征在于：还包括碟簧串（4），所述碟簧串（4）上下两端分别固定有碟簧串下支架（5）和碟簧串上支架（3），所述碟簧串下支架（5）固定在工作台底座（2）上，且碟簧串下支架（5）位于工作台翻转中心（A）的正下方，所述碟...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟德惠，王玉全，房延军，
申请(专利权)人：齐齐哈尔孟维机床制造有限公司，
类型：新型
国别省市：黑龙江;23