环己烯羧酸衍生物的制备制造技术

本发明专利技术涉及环己烯羧酸衍生物。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本申请是1997年8月22日在中国提出的专利申请号为02157543.6的中国专利申请的分案申请。本专利技术涉及制备碳环化合物及其中间体的方法。美国专利申请(其律师登记号为205.6)号08/702,308(申请日是1996年8月23日)是美国专利申请号为08/653,034(申请日是1996年3月24日)的部分继续申请，后者是美国专利申请号08/606,624(申请日是1996年2月26日)的部分继续申请，后者是美国专利申请号08/580,567(申请日是1995年12月29日)的部分继续申请，后者是美国专利申请号08/476,946(申请日是1995年6月6日)的部分继续申请，后者是美国专利申请号08/395,245(申请日是1995年2月27日)的部分继续申请，所有上述文献全部在此用作参考。这些文献特别描述了神经氨酸苷酶抑制剂和神经氨酸苷酶抑制剂合成过程中的中间体。本专利技术还提供了制备这些组合物的方法。本专利技术所选实施方案涉及下列目的之一或多个-本专利技术的主要目的是提供新的合成方法和组合物。-本专利技术另一目的是提供制备用于神经氨酸苷酶抑制剂合成的中间体的新方法。-本专利技术另一目的是提供用作中间体的组合物，所说中间体用于神经氨酸苷酶抑制剂的合成。-本专利技术另一目的是提供用作神经氨酸苷酶抑制剂的组合物。本专利技术一方面涉及下式化合物的制备方法， 其中R1是环状羟基保护基；R2是羧酸保护基；R3是羟基保护基；及各R20分别是H或有1-12个碳原子的烷基；该方法包括下式化合物 与脱水剂反应。本专利技术另一方面涉及下式化合物的制备方法， 其中各R2，R3和R20定义如上；R4是-C(R30)3；各R5分别是H或R3；各R7分别是H或氨基保护基；各R8分别是H或R2；各R9分别是H或硫醇保护基；各R21分别是R20，Br，Cl，F，I，CN，NO2或N3；各R22分别是F，Cl，Br，I，-CN，N3，-NO2，-OR5，-OR20，-N(R20)2，-N(R20)(R7)，-N(R7)2，-SR20，-SR9，-S(O)R20，-S(O)2R20，-S(O)OR20，-S(O)OR8，-S(O)2OR20，-S(O)2OR8，-C(O)OR20，-C(O)OR8，-OC(O)R20，-N(R20)(C(O)R20)，-N(R7)(C(O)R20)，-N(R20)(C(O)OR20)，-N(R7)(C(O)OR20)，-C(O)N(R20)2，-C(O)N(R7)(R20)，-C(O)N(R7)2，-C(NR20)(N(R20)2)，-C(N(R7))(N(R20)2)，-C(N(R20))(N(R20)(R7))，-C(N(R7))(N(R20)(R7))，-C(N(R20))(N(R7)2)，-C(N(R7))(N(R7)2)，-N(R20)C(N(R20))(N(R20)2)，-N(R20)C(N(R20))(N(R20)(R7))，-N(R20)C(N(R7))(N(R20)2)，-N(R7)C(N(R20))(N(R20)2)，-N(R7)C(N(R7))(N(R20)2)，-N(R7)C(N(R20))(N(R20)(R7))，-N(R20)C(N(R7))(N(R20)(R7))，-N(R20)C(N(R20))(N(R7)2)，-N(R7)C(N(R7))(N(R20)(R7))，-N(R7)C(N(R20))(N(R7)2)，-N(R20)C(N(R7))(N(R7)2)，-N(R7)C(N(R7))(N(R7)2)，＝O，＝S，＝N(R20)，＝N(R7)或W；各R23分别是有1-11个碳原子的烷基，有2-11个碳原子的烯基，或有2-11个碳原子的炔基；各R24分别是R23，其中各R23是被0-3个R22取代的；各R24a分别是有1-11个碳原子的亚烷基，有2-11个碳原子的亚烯基，或有2-11个碳原子的亚炔基，这些亚烷基，亚烯基或亚炔基的任意一个碳原子被0-3个R22取代；各R28分别是有1-12个碳原子的烷基，有2-12个碳原子的烯基，或有2-12个碳原子的炔基；各R29分别是R22或R28，其中各R28是被0-3个R22取代的；各R30分别是H，R24，W或-R24aW；及各W分别是碳环或杂环，碳环或杂环中任意一个是被0-3个R29取代的；该方法包括下式化合物 其中R31是缩酮或缩醛，与Lewis酸试剂反应，条件是R4整个含有0-3个由0-3个R29取代的W和1-12个由0-3个R29取代的碳原子。本专利技术另一方面涉及下式化合物的制备方法， 其中各R2，R4，R7，R20和R21定义如上，该方法包括下式化合物 与还原剂反应。本专利技术另一方面涉及下式化合物的制备方法， 其中各R2，R4，R5，R20和R21定义如上；及Y1是一-，二-或未取代的氨基；该方法包括下式化合物 与胺试剂反应。本专利技术另一方面涉及下式化合物的制备方法， 其中各R2，R4，R20，R21和Y1定义如上，该方法包括下式化合物 与氧化剂反应。本专利技术另一方面涉及下式化合物的制备方法， 其中各R2，R4，R20，R21和Y1定义如上，该方法包括下式化合物 与碱反应。本专利技术另一方面涉及下式化合物的制备方法， 其中各R2，R4，R7，R20，R21和Y1定义如上，该方法包括下式化合物 与还原胺反应试剂反应。本专利技术涉及本文所述组合物的制备方法。尽管本专利技术组合物可用有机合成中的任何实用技术制备，本专利技术还是提供了完成这些制备的先进方法。许多常规技术是现有技术中已知的，因此，在此不再赘述。值得特别指出的已知技术详细阐述于下列文献《有机合成方法概要》(Compendium of Organic Synthetic Methods)(John Wiley & Sons，NewYork)，第1卷，Ian T.Harrison和Shuyen Harrison，1971；第2卷，Ian T.Harrison和Shuyen Harrison，1974；第3卷，Louis S.Hegedus和Leroy Wade，1977；第4卷，Leroy G.Wade，jr.，1980；第5卷，Leroy G.Wade，jr.，1984；和第6卷，Michael B.Smith，以及March，J.的《高等有机化学，第3版》(Advanced Organic Chemistry，ThirdEdition)(John Wiley & Sons，New York，1985)，“综合性有机合成。现代有机化学中的选择性，对策和效率，在9卷中”，Barry M.Trost主编(Pergamon Press，New York，1993印刷)。总之，在将要进行的具体反应中，反应条件如温度，反应时间，溶剂，处理方法等都是现有技术中常用的。所选参考文献，会同本文所言资料，都对这些条件有详细描述。术语“处理(treated，treating，treatment等)”指接触，混合，反应，使之反应，引起接触以及在本领域中指一种或多种化学实体以将其转化成一种或多种其它化学实体的方式进行处理的其它常用术语。术语“用化合物2处理化合物1”与“允许化合物1与化合物2本文档来自技高网...

【技术保护点】
下式化合物＊＊＊。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：KM肯特，CU金，LR麦吉，JD穆格尔，EJ普里斯比，MJ泼斯蒂奇，JC罗洛夫，DE凯利，MA威廉斯，L张，
申请(专利权)人：吉里德科学公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]