一种复合治具制造技术

技术编号:15087062 阅读:44 留言:0更新日期:2017-04-07 16:57
本实用新型专利技术适用于模具领域,提供了一种复合治具,其包括一个下模及一个上模。该上模压设在该下模上。该下模包括多个电子元件、多个垫圈及多个铜柱。该多个电子元件彼此之间间隔一定距离。该多个垫圈分别设置在相邻两个电子元件之间,以将该多个电子元件隔开。该多个铜柱贯穿该多个垫圈,用于支撑该多个垫圈,以保持该多个电子元件之间的间隔。该多个铜柱包括直径为2.0毫米的铜柱。该直径为2.0毫米的铜柱设置在该电子元件密集的位置,因此该复合治具的稳定性被有效提高。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于模具领域,尤其涉及一种复合治具
技术介绍
复合治具包括上模具及下模具。由于上模具及下模具均有多层基板堆叠而成,且每相邻两层基板之间均需间隔一定距离,因此需要在多层基板间设置铜支柱进行支撑。现在一般采用外径为5.0毫米或者3.0毫米的支柱,但是在集成电路(integratedcircuit,IC)或球栅阵列结构(BallGridArray,BGA)密集的位置无法添加支柱给予支撑,导致该复合治具在对电子设备进行测试时容易接触不良,从而影响测试良率。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于提供一种复合治具,旨在能有效提高其稳定性。本技术是这样实现的,一种复合治具,其包括一个下模及一个上模。该上模压设在该下模上。该下模包括多个电子元件、多个垫圈及多个铜柱。该多个电子元件彼此之间间隔一定距离。该多个垫圈分别设置在相邻两个电子元件之间,以将该多个电子元件隔开。该多个铜柱贯穿该多个垫圈,用于支撑该多个垫圈,以保持该多个电子元件之间的间隔。该多个铜柱包括直径为2.0毫米的铜柱,该直径为2.0毫米的铜柱设置在该电子元件密集的位置。进一步地,该复合治具还包括一个线盘。该下模压设在该线盘上。进一步地,该下模还包括一层面板。该多个电子元件设置子该面板与该线盘之间。进一步地,该下模包括多个探针。该多个探针均与该线盘电连接,且贯穿该多个垫圈直至伸出该面板。进一步地,该上模与该下模互为对称结构。进一步地,该多个铜柱还包括直径为5.0毫米的支柱及直径为3.0毫米的支柱。该直径为5.0毫米的支柱及该直径为3.0毫米的支柱设置在该电子元件稀疏的位置。本技术与现有技术相比,有益效果在于:本技术的该复合治具,在电子元件密集处添加直径为2.0毫米的支柱进行支撑,因此能有效提高该复合治具的稳定性,以避免对电子设备进行测试时接触不良的问题,从而提高测试良率。附图说明图1是本技术实施例提供的复合治具的结构示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术,并不用于限定本技术。如图1所示,本技术所提供的一种复合治具100,其包括一个线盘10、一个下模20及一个上模(未图示)。该线盘10由五层板材依次堆叠组成。在本实施例中,该板材的厚度为3.0毫米。该下模20压设在该线盘10上。该下模20包括多个电子元件(比如IC或BGA)201、一层面板21、多个垫圈22、多个探针23及多个铜柱24。该多个电子元件201设置在该线盘10与该面板21之间,且彼此之间间隔一定距离。该多个垫圈22分别设置在相邻两个电子元件201之间,以将该多个电子元件201隔开。该多个探针23均与该线盘10电连接,且贯穿该多个垫圈22直至伸出该面板21。该多个铜柱24贯穿该多个垫圈22,用于支撑该多个垫圈22,以保持该多个电子元件201之间的间隔。该多个铜柱24包括直径为5.0毫米的支柱241、直径为3.0毫米的支柱242及直径为2.0毫米的支柱243。该2.0毫米的支柱243设置在该电子元件201密集的位置,该直径为5.0毫米的支柱241及该直径为3.0毫米的支柱242设置在该电子元件201稀疏的位置。该上模与该下模20互为对称结构,且该上模压设在该下模20上。与现有技术相比较,本技术的该复合治具,在电子元件密集处添加直径为2.0毫米的支柱进行支撑,因此能有效提高该复合治具的稳定性,以避免对电子设备进行测试时接触不良的问题,从而提高测试良率。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已,并不用以限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种复合治具,其包括一个下模及一个上模,该上模压设在该下模上,该下模包括多个电子元件、多个垫圈及多个铜柱,该多个电子元件彼此之间间隔一定距离;该多个垫圈分别设置在相邻两个电子元件之间,以将该多个电子元件隔开;该多个铜柱贯穿该多个垫圈,用于支撑该多个垫圈,以保持该多个电子元件之间的间隔,其特征在于,该多个铜柱包括直径为2.0毫米的铜柱,该直径为2.0毫米的铜柱设置在该电子元件密集的位置。

【技术特征摘要】
1.一种复合治具,其包括一个下模及一个上模,该上模压设在该下模上,该下模包括多个电子元件、多个垫圈及多个铜柱,该多个电子元件彼此之间间隔一定距离;该多个垫圈分别设置在相邻两个电子元件之间,以将该多个电子元件隔开;该多个铜柱贯穿该多个垫圈,用于支撑该多个垫圈,以保持该多个电子元件之间的间隔,其特征在于,该多个铜柱包括直径为2.0毫米的铜柱,该直径为2.0毫米的铜柱设置在该电子元件密集的位置。2.如权利要求1所述的复合治具,其特征在于,该复合治具还包括一个线盘,该下模压设在该线盘上。3...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈代树
申请(专利权)人:竞华电子深圳有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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