环状化合物及其制备方法和虫害防治剂技术

一种式（Ⅰ）表示的化合物或其盐［其中Ａ表示式ＣＹ↓［１］Ｙ↓［２］ＯＣＹ↓［３］Ｙ↓［４］、ＣＹ↓［１］Ｙ↓［２］ＳＯ↓［ｎ］ＣＹ↓［３］Ｙ↓［４］、ＣＹ↓［１］Ｙ↓［２］ＮＲＣＹ↓［３］Ｙ↓［４］、ＣＹ↓［１］＝ＮＣＹ↓［３］Ｙ↓［４］或ＣＹ↓［１］Ｙ↓［２］Ｎ＝ＣＹ↓［３］（其中ｎ为０、１或２，和Ｙ↓［１］、Ｙ↓［２］、Ｙ↓［３］和Ｙ↓［４］各自独立表示氢、烷基或卤代烷基）；Ｒ表示氢、卤素、任选取代的烃基等；Ｑ↓［１］表示取代的苯基或取代的芳杂环基团；和Ｑ↓［２］表示取代的苯基、烷基或卤代烷基］；一种制备所述化合物或盐的方法；和一种包含所述化合物或盐的杀虫剂。除用于喷雾外，本杀虫剂可用于土壤处理和种子处理。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种环状化合物、一种制备所述化合物的方法和一种虫害防治剂。具体地讲，本专利技术涉及一种可用作杀虫剂的、包含具有至少两个环氮原子和一个氧代基的杂环的环状化合物、一种制备所述化合物的方法和一种使用所述化合物的虫害防治剂。
技术介绍
已知许多环状化合物可用作农用化学品。例如，JP 46-6550A和NL 710535A公开了一种下式表示的具有杀虫活性的化合物 其中，A表示氢原子、卤原子、甲基或甲氧基，B表示氢原子、卤原子、甲基或甲氧基，条件是A和B不同时为氢原子，R表示任选取代的苯基等。但是，明确公开的化合物只是其中A和B为氯和R为氯代苯基的一种化合物，而且文中并没有描述这些化合物的杀虫活性实验结果。另一方面，在J.Agr.Food Chem.(1973年，21卷第3期，348-354页)中明确公开了下式表示的化合物的杀虫活性。 在WO 99/16316和WO 97/45017中公开了一项用途专利技术，其中在上述文件和JP 46-6550A中公开的化合物分别用于大豆和棉花。 而且，在WO 01/14373中公开了下式表示的用作杀虫剂的化合物， 其中，X表示CH或N，Y表示卤原子，R1和R2各自独立表示任选卤代的芳基等。 在JP 51-56480A中公开了下式表示的用作杀虫剂的化合物， 其中，A和B表示卤原子等，R1和R2各自独立表示氢原子、卤原子等。 此外，在JP 60-11482A中公开了下式表示的用作除草剂的化合物， 其中，R1表示取代的苯基等，R2表示烷基或芳基，R3表示腈等。 专利技术公开 上述每项已知技术中只公开了杀虫剂喷雾处理的用法。但是，对农作物而言，如果可对土壤和种子进行处理，那么将对农业中劳动力的节省和环境与工人的安全性提高方面产生很大的贡献。因此，本专利技术的主要目的就是提供一种可用于喷雾处理、土壤处理和种子处理的新杀虫剂。 本专利技术人对用作杀虫剂的化合物进行了各方面的研究，并发现下式(I)表示的化合物通过喷雾处理具有杀虫活性，通过杀虫剂溶液的灌溉处理也具有有效的杀虫活性，而且这些化合物具有综合性能(渗透和转移能力)。 作为农作物的一种处理方法，喷雾处理用于没有渗透转移能力的杀虫组分。但是，当杀虫组分具有综合性能(渗透和转移能力)时，对农作物来讲，不但喷雾处理而且土壤处理和种子处理都是可行的。这里，喷雾处理意指通过活性成分处理植物表面和昆虫身体来发挥作用的处理方法，例如施用于树叶、喷洒至树干等。另外，在本说明书中，土壤处理意指对定植穴处理(定植穴喷雾、定植穴处理后土壤混合)、植物根处理(植物根喷雾、植物根土壤混合、植物根冲洗、育苗后半期的植物根处理)、栽植沟处理(栽植沟喷雾、栽植沟土壤混合)、栽植列处理(栽植列喷雾、栽植列土壤混合、生长期栽植列喷雾)、播种时栽植列处理(播种时栽植列喷雾、播种时栽植列土壤混合)、综合处理(综合喷雾、综合土壤混合)、其他喷雾处理(生长期叶颗粒喷雾、树冠下或环绕树干喷雾、土壤表面喷雾、土壤表面混合、播种穴喷雾、田垄地面上喷雾、农作物间隔喷雾)、其他灌溉处理(灌溉至土壤、在育苗期间灌溉、杀虫剂溶液的注入处理、植物根部灌溉)、育苗箱处理(育苗箱喷雾、育苗箱灌溉)，育苗盘处理(育苗盘喷雾、育苗盘灌溉)，苗床处理(苗床喷雾、苗床灌溉、水稻田的苗床喷雾、子苗的浸入)、种床土壤混合处理(种床土壤混合、播种前种床土壤混合)、其他处理(培土混合、犁耕、表土混合、雨滴土壤混合、栽植地处理、花穗颗粒喷雾、糊状肥料混合)等以及通过活性组分处理土壤而发挥作用的处理方法。 另外，种子处理意指通过活性组分处理种子而发挥作用的处理方法，例如吹失处理、着色处理、浸入处理、浸渍处理、撒药处理、涂膜处理等，也包括种子块茎和球茎的处理。 此外，本专利技术人已发现下式(I)表示的化合物不仅可用作农用化学品而且可用作其它领域的虫害防治剂。本专利技术人根据这些认识进行了多方面的研究使本专利技术得以完成。 即，本专利技术提供 (1)一种由下式表示的化合物或其盐 其中，A表示下式的基团 1)CY1Y2OCY3Y4 2)CY1Y2SOnCY3Y4 3)CY1Y2NRCY3Y4 4)CY1＝NCY3Y4或 5)CY1Y2N＝CY3 其中n表示0、1或2，以及Y1、Y2、Y3和Y4各自独立表示氢原子、C1-6烷基或卤代C1-6烷基；R表示氢原子、卤原子、任选氧化的硫基、硝基、亚硝基、甲酰基、任选取代的羟基、氰基、任选取代的烃基、任选取代的氨基、任选取代的杂环基团、任选取代的C2-7酰基、任选取代的C1-6烷氧基羰基、任选取代的C7-11芳烷基氧基羰基、任选取代的C6-10芳氧基羰基、任选取代的氨基甲酰基、任选取代的硫代氨基甲酰基、任选取代的羟基乙二酰基、任选取代的氨基乙二酰基或任选取代的羟氨基乙二酰基；Q1表示取代的苯基或取代的芳杂环基团；Q2表示取代的苯基、C1-6烷基或卤代C1-6烷基；条件是当A为CH2OCH2表示的基团时，Q1为除二氯苯基以外的基团；(下文中，本说明书有时是指化合物(I))， (2)根据上述(1)的化合物，所述化合物为下式表示的任何一种化合物 其中各符号的定义同上述(1)， (3)根据上述(2)的化合物，其中R为氢原子、亚硝基、羟基乙二酰基、氨基乙二酰基、或C1-6烷基、C3-10环烷基、C2-6链烯基、C2-6炔基、C6-10芳基、C7-11芳烷基、C1-6烷氧基羰基、C6-10芳氧基羰基、C7-11芳烷基氧基羰基、C1-6烷氧基羰基硫基、C2-7酰基、C1-6烷基磺酰基、C6-10芳基磺酰基、C1-6烷氧基乙二酰基、N-C1-6烷基氨基甲酰基、N，N-二(C1-6烷基)氨基甲酰基、N-(C1-6烷氧基、C7-11芳烷基氧基或C1-6烷基)氨基乙二酰基、N，N-二(C1-6烷基)氨基乙二酰基或N，O-二(C1-6烷基)羟氨基乙二酰基，其中每个基团都可被取代， (4)根据上述(1)的化合物，其中Q2的取代苯基上的取代基为选自以下的至少一种基团卤原子、氰基、C1-6烷基、卤代C1-6烷基、C1-6烷氧基羰基、由式Z1-W-表示的基团(其中Z1表示苯环或芳杂环，其中每一个基团被卤原子、C1-6烷基或卤代C1-6烷基所取代；和-W-表示-O-、-S-、-SO-或-SO2-，例如苯氧基、苯硫基、苯基亚磺酰基、苯基磺酰基、芳杂环氧基、芳杂环硫基、芳杂环亚磺酰基和芳杂环磺酰基，其中每种基团各自具有卤素、C1-6烷基或卤代C1-6烷基取代基)或由式Z2-W-表示的基团(其中Z2表示C1-6烷基、C2-6链烯基或C2-6炔基，其中每个基团都可被卤原子取代；并且-W-的定义同上，例如烷氧基、烷硫基、烷基亚磺酰基、烷基磺酰基、链烯氧基、链烯硫基、链烯基亚磺酰基、链烯基磺酰基、炔氧基、炔硫基、炔基亚磺酰基和炔基磺酰基，其中每个基团可被卤代)， (5)根据上述(1)的化合物，其中Q1为苯基或芳杂环基团，其中每一个基团可被卤原子、C1-6烷基、卤代C1-6烷基、C1-6烷氧基或卤代C1-6烷氧基取代， (6)根据上述(2)的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种由下式表示的化合物或其盐：＊＊＊（Ⅰ）其中，Ａ表示由下式表示的基团：１）ＣＹ↓［１］Ｙ↓［２］ＳＯ↓［ｎ］ＣＹ↓［３］Ｙ↓［４］其中ｎ表示０、１或２，和Ｙ↓［１］、Ｙ↓［２］、Ｙ↓［３］和Ｙ↓［４］各自独立表示氢原子、Ｃ↓［１－６］烷基或卤代Ｃ↓［１－６］烷基；Ｒ表示氢原子、卤原子、任选氧化的硫基、硝基、亚硝基、甲酰基、任选取代的羟基、氰基、任选取代的烃基、任选取代的氨基、任选取代的杂环基团、任选取代的Ｃ↓［２－７］酰基、任选取代的Ｃ↓［１－６］烷氧基羰基、任选取代的Ｃ↓［７－１１］芳烷基氧基羰基、任选取代的Ｃ↓［６－１０］芳氧基羰基、任选取代的氨基甲酰基、任选取代的硫代氨基甲酰基、任选取代的羟基乙二酰基、任选取代的氨基乙二酰基或任选取代的羟氨基乙二酰基；Ｑ↓［１］表示取代的苯基或取代的芳杂环基团；和Ｑ↓［２］表示取代的苯基、Ｃ↓［１－６］烷基或卤代Ｃ↓［１－６］烷基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤滋之，高延雅人，坂元法久，
申请(专利权)人：住化武田农药株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]