废水处理方法技术

本发明专利技术的废水处理方法中，包括：在第一反应槽中收集含铜废水、含氟废水的混合废水，所述混合废水中含有铜络合物，调节所述混合废水的pH值为第一设定值；向所述第一反应槽中加入破络剂，所述破络剂与所述铜络合物进行破络反应，将处理过后的所述混合废水注入第二反应槽中；调节所述第二反应槽中的混合废水的pH值为第二设定值，并加入氟离子混凝剂，用于沉淀混合废水中的氟离子；将处理后的混合废水注入第四反应槽中，向所述第四反应槽中加入絮凝剂，进行絮凝反应，之后进行沉淀。本发明专利技术中，将含铜废水和含氟废水在一个反应系统中同时进行处理，加入破络剂将铜络合物破络之后沉淀，同时保证氟离子的沉淀，使得铜离子、氟离子浓度达到排放标准。

Waste water treatment method

Wastewater treatment method of the invention, mixed wastewater containing copper in the first reaction tank to collect waste water, fluoride wastewater, the wastewater containing copper complexes, adjusting the pH value of mixed waste water as a first set value; to the first reaction tank with complex breaking agents, the broken the complex agent and copper complexes are broken and complex reaction, the mixed wastewater treatment after the injection of second reactors; adjust the mixed wastewater of the second reaction groove in the setting of pH value of the value of second, and fluoride ion coagulant for precipitation of mixed fluoride waste water; mixed wastewater treatment after the fourth injection reaction tank, a flocculating agent is added to the fourth reaction tank, flocculation reaction, followed by precipitation. In the invention, the copper containing wastewater and wastewater containing fluoride and processed in a reaction system, after adding complex breaking agents will break the complex copper complex precipitation, while ensuring the fluoride ion precipitation, the copper ion, fluorine ion concentration reach the discharge standard.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造业中的废水处理
，特别是涉及一种废水处理方法。
技术介绍
在半导体器件的制造过程中，会产生大量的废液，例如含铜废水、含氟废水等，废液如直接排放会造成环境的污染，所以需要进行回收。目前，半导体制造中产生的含铜废液，一般采用委托处理的方式进行回收处理。一般直接产生的含铜废水中铜的含量较低，达不到回收的要求，需要单独建造处理系统处理。然而，随着目前国内先进芯片工艺的发展，含铜废水的排放量不断上升，并且，含铜废水中铜络合物高达70％以上，使得铜难以沉淀，单独建造处理系统的成本又很高。传统的预处理工艺对该废水没有良好的处理效果，从而使得排放废水中铜含量的超标风险很高。因此，如何提供一种废水处理方法，能够克服上述缺点，已成为本领域技术人员需要解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种废水处理方法，将含铜废水与含氟废水在一个系统中进行处理，节省成本。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种废水处理方法，包括：在第一反应槽中收集含铜废水、含氟废水的混合废水，所述混合废水中含有铜络合物，调节所述混合废水的pH值为第一设定值；向所述第一反应槽中加入破络剂，所述破络剂与所述铜络合物进行破络反应，将处理过后的所述混合废水注入第二反应槽中；调节所述第二反应槽中的混合废水的pH值为第二设定值，并加入氟离子混凝剂，用于沉淀混合废水中的氟离子；将处理后的混合废水注入第四反应槽中，向所述第四反应槽中加入絮凝剂，进行絮凝反应，之后进行沉淀。可选的，所述铜络合物包括铜氨络合物和铜氯络合物。可选的，所述破络剂为氯化铁。可选的，进行破络反应的时间为30min-60min。可选的，所述第一设定值为3-5，可选的，所述第二设定值为8-10。可选的，调节混合废水pH值采用的pH调节剂为质量百分比浓度为30％的氢氧化钠溶液。可选的，所述氟离子混凝剂为氯化钙，氟离子混凝剂进行反应的时间为30min-60min。可选的，所述絮凝剂为质量百分比浓度为2‰的聚丙烯酰胺溶液，加入所述絮凝剂进行反应的时间为20min-30min。可选的，在加入所述氟离子混凝剂之后，还包括将混合废水注入到一第三反应槽中，对混合废水进行搅拌的过程。可选的，沉淀之后还包括，将清液排放，污泥压滤成泥饼的过程。与现有技术相比，本专利技术废水处理方法具有以下优点：本专利技术提供的废水处理方法中，包括：在第一反应槽中收集含铜废水、含氟废水的混合废水，所述混合废水中含有铜络合物，调节所述混合废水的pH值为第一设定值；向所述第一反应槽中加入破络剂，所述破络剂与所述铜络合物进行破络反应，将处理过后的所述混合废水注入第二反应槽中；调节所述第二反应槽中的混合废水的pH值为第二设定值，并加入氟离子混凝剂，用于沉淀混合废水中的氟离子；将处理后的混合废水注入第四反应槽中，向所述第四反应槽中加入絮凝剂，进行絮凝反应，之后进行沉淀。本专利技术中，将含铜废水和含氟废水在一个反应系统中同时进行处理，加入破络剂将铜络合物破络之后沉淀，同时保证氟离子的沉淀，使得铜离子、氟离子浓度达到排放标准。附图说明图1为本专利技术一实施例中废水处理方法的流程图；图2为本专利技术一实施例中废水过程示意图。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的废水处理方法进行更详细的描述，其中表示了本专利技术的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本专利技术，而仍然实现本专利技术的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本专利技术的限制。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本专利技术。根据下面说明和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。本专利技术的核心思想在于，提供的废水处理方法中，包括：在第一反应槽中收集含铜废水、含氟废水的混合废水，所述混合废水中含有铜络合物，调节所述混合废水的pH值为第一设定值；向所述第一反应槽中加入破络剂，所述破络剂与所述铜络合物进行破络反应，将处理过后的所述混合废水注入第二反应槽中；调节所述第二反应槽中的混合废水的pH值为第二设定值，并加入氟离子混凝剂，用于沉淀混合废水中的氟离子；将处理后的混合废水注入第四反应槽中，向所述第四反应槽中加入絮凝剂，进行絮凝反应，之后进行沉淀。本专利技术中，将含铜废水和含氟废水在一个反应系统中同时进行处理，加入破络剂将铜络合物破络之后沉淀，同时保证氟离子的沉淀，使得铜离子、氟离子浓度达到排放标准。具体的，结合上述核心思想，本专利技术的废水处理方法的流程图参考图1所示，并结合图2进行具体说明。首先，执行步骤S1，在第一反应槽10中注入含氟废水和含铜废水的混合废水，一般的，含氟废水中存在氨根离子，其中浓度为50-100mg/L。混合废水中还存在有氯离子，然而，氨根离子和氯离子均与铜离子发生络合反应形成铜氨络合物和铜氯络合物，其反应式为：Cu2++NH3→[Cu(NH3)4]2+Cu2++2Cl2→[Cu(Cl)4]2+根据测量得到的第一反应槽10中的pH值，在第一反应槽10确定加入的pH调节剂的种类以及浓度，使得第一反应槽10中的pH值达到一第一设定值，一般的第一反应槽10中初始的pH值为1-2，设定将第一反应槽10中的pH值调为第一设定值3-5。在本实施例中，调节pH值采用的pH调节剂为质量百分比浓度为30％的氢氧化钠溶液、根据需要确定加入的调节剂的浓度。在本实施例中，采用的pH调节剂还可以为氢氧化钾溶液，只要可以实现调节pH值的作用，亦在本专利技术保护的思想范围之内。接着，执行步骤S2，在所述第一反应槽10中加入破络剂，用于与铜络合物进行破络反应。在本专利技术中，所述破络剂采用的氯化铁，加入的氯化铁的量根据需要确定。由于第一反应槽10中的pH环境为酸性环境，使得其中的铁离子通常以二价的形式存在，即Fe2+。在第一反应槽10中。二价铁能将混合废水中的铜氨络合物([Cu(NH3)4]2+)、铜氯络合物([Cu(Cl)4]2+)进行破络反应，生成一价铜离子。其中的化学反应式如下:[Cu(NH3)4]2++Fe2+→Cu++Fe3++4NH3[Cu(Cl)4]2++Fe2+→Cu++Fe3++4Cl-在第一反应槽10中反应的时间为60min-90min，即破络反应的时间为60min-90min，之后，将第一反应槽10中的混合废水本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种废水处理方法，其特征在于，包括：在第一反应槽中收集含铜废水、含氟废水的混合废水，所述混合废水中含有铜络合物，调节所述混合废水的pH值为第一设定值；向所述第一反应槽中加入破络剂，所述破络剂与所述铜络合物进行破络反应，将处理过后的所述混合废水注入第二反应槽中；调节所述第二反应槽中的混合废水的pH值为第二设定值，并加入氟离子混凝剂，用于沉淀混合废水中的氟离子；将处理后的混合废水注入第四反应槽中，向所述第四反应槽中加入絮凝剂，进行絮凝反应，之后进行沉淀。

【技术特征摘要】
1.一种废水处理方法，其特征在于，包括：
在第一反应槽中收集含铜废水、含氟废水的混合废水，所述混合废水中含
有铜络合物，调节所述混合废水的pH值为第一设定值；
向所述第一反应槽中加入破络剂，所述破络剂与所述铜络合物进行破络反
应，将处理过后的所述混合废水注入第二反应槽中；
调节所述第二反应槽中的混合废水的pH值为第二设定值，并加入氟离子混
凝剂，用于沉淀混合废水中的氟离子；
将处理后的混合废水注入第四反应槽中，向所述第四反应槽中加入絮凝剂，
进行絮凝反应，之后进行沉淀。
2.如权利要求1所述的废水处理方法，其特征在于，所述铜络合物包括铜
氨络合物和铜氯络合物。
3.如权利要求1所述的废水处理方法，其特征在于，所述破络剂为氯化铁。
4.如权利要求3所述的废水处理方法，其特征在于，进行破络反应的时间
为30min-60min...

【专利技术属性】
技术研发人员：王春冬，张云秀，黄攀峰，徐鸣，厉晓华，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31