一种快速温度跃升微流芯片系统技术方案

技术编号:15006691 阅读:141 留言:0更新日期:2017-04-04 13:44
本发明专利技术涉及一种快速温度跃升微流芯片系统,包括:芯片,芯片包括基片、盖片、电磁阀、制冷装置和加热装置,基片具有微流通道,微流通道依次形成恒温储液区、温度跳变区和测试区,盖片覆盖并密封基片,电磁阀连通微流通道,制冷装置紧贴基片的恒温储液区设置,加热装置紧贴基片的温度跳变区设置,测试区暴露于同步辐射光的照射下进行测试;用于安装固定芯片的支架;用于调节支架的位置的二维调整平台,二维调整平台包括水平位置调节模块和垂直位置调节模块;以及注射泵,注射泵具有本体和与本体相连的第一阀口,阀口与芯片的微流通道连通。本发明专利技术的芯片系统可实现溶液样品的快速温度跳变,用于同步辐射反应动力学的研究。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于研究反应动力学的芯片系统,更具体地涉及一种与同步辐射测量相结合的快速温度跃升微流芯片系统
技术介绍
反应动力学的研究是研究反应机理的主要途径。对于反应半衰期短于1s的快反应,采用常规分析技术无法对反应进行研究。反应动力学具有多种研究方法,包括连续流/停流技术、温度跃升弛豫技术、闪光光解技术等等。其中,温度跃升弛豫技术是一种研究溶液中快反应的常用实验技术,即在短暂时间内对平衡体系施加一个温度扰动,并且结合检测设备,例如色谱、质谱、核磁共振及吸收光谱等系统,通过测定溶液的某一特性来监测反应进程。因此,温度跃升弛豫装置设计的关键是选取一个与检测手段相匹配的迅速升温方案。同步辐射装置是利用电子在磁场中做高速运动产生同步辐射光的大型科学实验装置。同步辐射光源是一种新型光源,覆盖了X射线、真空紫外、可见光到远红外波段,而且连续可调。同步辐射光源具有高通亮、高空间分辨、高时间分辨特征,是探测物质结构及解析反应机理强有力的工具。目前,产生温度跃升的方法主要有电容器放电、微波以及脉冲激光。利用电容器放电法产生温度跳变,需要较高的盐浓度和离子强度,并且导电溶液需加上数千伏的电压,这将导致分子的极化等不利影响;微波法仅适用于极性溶液;脉冲激光法需考虑吸收介质在某一激光波长的光敏度。考虑到上述温度跃升装置的复杂性,若与同步辐射光源探测手段相结合,还需要根据具体的线站要求和布局,进行软件及硬件多方面改造,较为不便。近年来,同步辐射结合微流控混合型芯片实验技术逐渐成为反应动力学研究热点。微流控芯片将生物和化学领域中所涉及的基本操作单元集成到几个平方厘米的芯片上,由微通道形成网络,以可控流体贯穿整个系统。利用微流体的动力聚焦混合方式或低雷诺数下的层流混合机制,将反应物在微流芯片内快速推进并迅速混合,以同步辐射光为探针,实现反应动力学动态研究。同步辐射结合微流芯片实验系统组成方便、成本低、功能集成度高。但是,到目前为止,将微流芯片用于同步辐射反应动力学的研究主要是利用微尺度下流体的流动特性,使得溶液快速混合,主要应用在连续流/停流技术中。而利用微通道内流体流动换热明显强于常规尺度换热的特性,将微流芯片与同步辐射相结合应用到温度跃升弛豫的研究尚未见报道。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种快速温度跃升微流芯片系统,该系统可结合同步辐射X射线测量技术,用于温度跃升弛豫的反应动力学相关研究。本专利技术所述的快速温度跃升微流芯片系统,包括:芯片,该芯片包括基片、盖片、电磁阀、制冷装置和加热装置,基片具有微流通道,该微流通道依次形成恒温储液区、温度跳变区和测试区,盖片覆盖并密封基片,电磁阀连通微流通道,制冷装置紧贴基片的恒温储液区设置,加热装置紧贴基片的温度跳变区设置,测试区暴露于同步辐射光的照射下进行测试;用于安装固定该芯片的支架;用于调节支架的位置的二维调整平台,该二维调整平台包括水平位置调节模块和垂直位置调节模块;以及注射泵,该注射泵具有本体和与该本体相连的第一阀口,所述阀口与芯片的微流通道连通。微流通道包括相对独立的第一微通道、第二微通道和第三微通道,其中,第一微通道的入口端与注射泵相连通,第一微通道的出口端与电磁阀相连,第二微通道的入口端与样品液体相连通,第二微通道的出口端与电磁阀相连,第三微通道的入口端与电磁阀相连。微流通道还包括依次设置于第三微通道下游的第四微通道和第五微通道,该第四微通道形成温度跳变区,该第五微通道形成测试区。第四微通道为宽度先发散后收敛的微通道。优选地,该第四微通道为矩形-梯形微通道。与第一、第二、第三和第五微通道相比,第四微通道的宽度较大且深度较小。该芯片还包括有设置于第一微通道的测试位置处的温感探头。该注射泵还包括与空气连通的第二阀口。该注射泵还包括与清洗液连通的第三阀口。该支架包括底板和垂直于该底板的安装板,该安装板具有贯通孔,芯片被固定于该贯通孔内。该加热装置为溅射在玻璃基底上的图案化的Pt电极。通过本专利技术的快速温度跃升微流芯片系统,样品溶液可以在恒温储液区进行恒温预处理,待温度恒定后,样品可被快速推进到温度跳变区,样品温度迅速上升,然后进入同步辐射X射线测试区进行测试,由于样品采取连续流进样方式,即样品发生温度跃升后,反应时间的长短与样品在微流通道中流过的距离成正比,在不同的距离处,通过同步辐射X射线探测样品的动态信息,进行反应动力学的研究。根据本专利技术的快速温度跃升微流芯片系统还具有以下有益效果:组成方便、操作简单;利用微流控芯片功能集成的优势,在计算机的精确控制下,注射泵、电磁阀、制冷装置、加热装置等相互配合,实现了溶液样品自动进样、恒温预处理,微流通道自动清洗、干燥等功能;芯片可以根据实验结果改进升级并自由替换成其他芯片,而实验系统其他部件均可重复使用,降低加工制造成本;该系统的控制及数据采集界面是基于同步辐射光源控制系统平台编写的,采用的相关控制器及驱动器为同步辐射专用,满足同步辐射实验站的具体需求和布局,与实验站其它设备集成为一体。附图说明图1是根据本专利技术的一个优选实施例的快速温度跃升微流芯片系统的示意图;图2是图1的支架的整体结构示意图;图3示出了图1的安装在支架上的芯片的整体结构;图4是图3的盖片的透视图;图5是图3的基片的俯视图。具体实施方式下面结合附图,给出本专利技术的较佳实施例,并予以详细描述。图1是根据本专利技术的一个优选实施例的快速温度跃升微流芯片系统的示意图,该快速温度跃升微流芯片系统1包括计算机11、二维调整平台12、注射泵13、液体源14、支架15和芯片16。其中,芯片16被固定于支架15,而支架15被设置于二维调整平台12上,从而通过二维调整平台12调整芯片16的具体位置。注射泵13与芯片16相连,而计算机11分别与二维调整平台12、注射泵13和芯片16通讯连接。二维调整平台12包括水平位置调节模块121和垂直位置调节模块122。支架15被固定于垂直位置调节模块122上,而垂直位置调节模块122被固定于水平位置调节模块121上,该水平位置调节模块121和垂直位置调节模块122与计算机11通讯连接,从而通过计算机11控制水平位置调节模块121和垂直位置调节模块122,从而精确控制支架15的具体位置,由此精确调节芯片16相对于同步辐射光斑的位置。注射泵13包括本体131和与本体相连的第一阀口132、第二阀口本文档来自技高网
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一种快速温度跃升微流芯片系统

【技术保护点】
一种快速温度跃升微流芯片系统,其特征在于,包括:芯片,该芯片包括基片、盖片、电磁阀、制冷装置和加热装置,基片具有微流通道,该微流通道依次形成恒温储液区、温度跳变区和测试区,盖片覆盖并密封基片,电磁阀连通微流通道,制冷装置紧贴基片的恒温储液区设置,加热装置紧贴基片的温度跳变区设置,测试区暴露于同步辐射光的照射下进行测试;用于安装固定该芯片的支架;用于调节支架的位置的二维调整平台,该二维调整平台包括水平位置调节模块和垂直位置调节模块;以及注射泵,该注射泵具有本体和与该本体相连的第一阀口,所述阀口与芯片的微流通道连通。

【技术特征摘要】
1.一种快速温度跃升微流芯片系统,其特征在于,包括:
芯片,该芯片包括基片、盖片、电磁阀、制冷装置和加热装置,基片具
有微流通道,该微流通道依次形成恒温储液区、温度跳变区和测试区,盖片
覆盖并密封基片,电磁阀连通微流通道,制冷装置紧贴基片的恒温储液区设
置,加热装置紧贴基片的温度跳变区设置,测试区暴露于同步辐射光的照射
下进行测试;
用于安装固定该芯片的支架;
用于调节支架的位置的二维调整平台,该二维调整平台包括水平位置调
节模块和垂直位置调节模块;以及
注射泵,该注射泵具有本体和与该本体相连的第一阀口,所述阀口与芯
片的微流通道连通。
2.根据权利要求1所述的快速温度跃升微流芯片系统,其特征在于,微
流通道包括相对独立的第一微通道、第二微通道和第三微通道,其中,第一
微通道的入口端与注射泵相连通,第一微通道的出口端与电磁阀相连,第二
微通道的入口端与样品液体相连通,第二微通道的出口端与电磁阀相连,第
三微通道的入口端与电磁阀相连。
3.根据权利要求2所述的快速温度跃升微流芯片系统,其特征在于,微
流通道还包括依次设置于第...

【专利技术属性】
技术研发人员:边风刚李怡雯洪春霞王劼
申请(专利权)人:中国科学院上海应用物理研究所
类型:发明
国别省市:上海;31

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