【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于石墨领域,尤其涉及一种石墨核壳结构的制备工艺。
技术介绍
一般来说内核具有某种功能性质,而外壳具有一定保护甚至强化内核性能的作用、或者可以引入新的性能,核壳复合材料可以是零至三维的纳米或微米尺寸的结构材料。核壳结构通常表现出比单一成分更加优异的物理及化学性能,而增强了的性能主要归因于外壳的作用,这些优点使核壳结构在光学、磁学、生物、催化、能量转化和储存等方面呈现出潜在的应用价值。虽然核壳结构的应用领域已经很多,制备新型的核壳结构并拓宽核壳结构的应用范围仍是非常必要的。制备碳素核壳结构的方法很多,包括:传统的及改良的碳弧放电技术、高温分解金属有机物、高温退火处理碳基材料或者金属前驱体、爆炸或催化分解甲烷等方法。然而,这些方法所制备的核壳结构均为石墨层紧密包裹的一些贵金属(银、铂、金)及磁性金属(铁、钴、镍),大大限制其的应用。
技术实现思路
为了克服上述问题,本专利技术目的涉及一种石墨核壳结构的制备工艺,铜是一种廉价的金属却具有极好的电、光和热学性质,可被广泛地应用在催化、电子及光电子学等领域。因此制备以铝为内核的碳素核壳材料,前景广阔。本专利技术的目的就是针对现有技术存在的缺陷,专利技术一种石墨核壳结构的制备工艺。其技术方案是:一种石墨核壳结构的制备工艺,其特征是:铜薄膜的制备:采用DPS-Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为100nm的铝薄膜,使用的基片为单晶Si100,靶材是 ...
【技术保护点】
一种石墨核壳结构的制备工艺,其特征是:铜薄膜的制备:采用DPS‑Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为100nm的铝薄膜,使用的基片为单晶Si100,靶材是直径为5cm的高纯铝靶,将Si100基片分别用丙酮、酒精和去离子水超声清洗15min后放入镀膜设备的样品台上,当真空室的背景压强低于3×104Pa后,开始在Si100上沉积铝膜,沉积过程中,Ar气流量为50sccm,溅射压强为0.3Pa。
【技术特征摘要】
1.一种石墨核壳结构的制备工艺,其特征是:铜薄膜的制备:采用DPS-Ⅲ
型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为100nm的铝薄膜,使用的基片
为单晶Si100,靶材是直径为5cm的高纯铝靶,将Si100基片分别用丙酮、酒精和
去离子水超声清洗15min后放入镀膜设备的样品台上,当真空室的背景压强低于
3×104Pa后,开始在Si100上沉积铝膜,沉积过程中,Ar气流量为50sccm,溅射
压强为...
【专利技术属性】
技术研发人员:李鹏,
申请(专利权)人:平度市华东石墨加工厂,
类型:发明
国别省市:山东;37
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