彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板技术

本发明专利技术提供一种彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板，通过在基板上依次形成第一、第二、第三光阻层，并分别对第一、第二、第三光阻层进行图形化处理，得到堆叠设置的第一、第二、第三光阻矩阵、数个第一光阻块、数个第二光阻块、以及数个第三光阻块，所述第一、第二、第三光阻矩阵的色彩混合后显示为黑色，从而形成黑色矩阵，被黑色矩阵间隔开的数个第一光阻块、数个第二光阻块、及数个第三光阻块构成彩色光阻层；本发明专利技术通过在制作彩色光阻层的同时形成黑色矩阵，与现有技术相比，节省一道制程时间，省去了黑色矩阵材料的使用，并降低生产成本。本发明专利技术制得的彩膜基板，结构简单，制作成本低，且具有良好的滤光效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线，通过通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。通常液晶显示面板由彩膜(CF，ColorFilter)基板、薄膜晶体管(TFT，ThinFilmTransistor)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，LiquidCrystal)及密封胶框(Sealant)组成。图1为现有的彩膜基板采用的颜色模型的示意图，所述颜色模型为红绿蓝颜色模型，又称RGB颜色模型，其为一种加色模型，通过将红(Red)、绿(Green)、蓝(Blue)三原色的色光以不同的比例相加，以产生多种多样的色光。图2为现有的彩膜基板的剖视示意图，图3为图2的彩膜基板的俯视示意图，如图2-3所示，所述彩膜基板包括衬底基板100、设于衬底基板100上的黑色矩阵200与彩色光阻层300，所述彩色光阻层300包括被所述黑色矩阵200间隔开的数个红色光阻块310、数个绿色光阻块320、及数个蓝色光阻块330。该彩膜基板的制作方法通常包括如下步骤：步骤1、提供一衬底基板100，在所述衬底基板100上涂布黑色光阻材料，形成黑色遮光层，之后对所述黑色遮光层进行图案化处理，得到黑色矩阵200；步骤2、在所述衬底基板100上依次涂布红色光阻层、绿色光阻层、及蓝色光阻层，并分别对其进行图形化处理，得到数个红色光阻块310、数个绿色光阻块320、及数个蓝色光阻块330，从而形成彩色光阻层300；之后在所述彩色光阻层300与黑色矩阵200上依次形成公共电极与间隙物。该制作方法中，黑色矩阵200、红色光阻块310、绿色光阻块320、蓝色光阻块330、公共电极、及间隙物分别需要一道制程来完成，即，共需6道制程来完成彩膜基板的制作，制程较为繁琐，生产时间长，且生产成本较高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种彩膜基板的制作方法，不需要采用一道单独的制程来制作黑色矩阵，可省去黑色矩阵材料的使用，并减少制程时间。本专利技术的目的还在于提供一种彩膜基板，结构简单，制作成本低，且具有良好的滤光效果。为实现上述目的，本专利技术提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤：步骤1、提供一基板，在所述基板上设置黑色矩阵的位置，对应黑色矩阵的位置形成数个第一、第二与第三光阻块的位置；步骤2、采用第一光阻层，分别对应黑色矩阵的位置与第一光阻块的位置在基板上形成第一光阻矩阵、以及数个第一光阻块；步骤3、采用第二光阻层，分别对应黑色矩阵的位置与第二光阻块的位置在基板上形成第二光阻矩阵、以及数个第二光阻块；步骤4、采用第三光阻层，分别对应黑色矩阵的位置与第三光阻块的位置在基板上形成第三光阻矩阵、以及数个第三光阻块；经过步骤2至步骤4后，对应黑色矩阵的位置堆叠设置的第一光阻矩阵、第二光阻矩阵、及第三光阻矩阵的色彩混合后显示为黑色，从而形成黑色矩阵，被黑色矩阵间隔开的数个第一光阻块、数个第二光阻块、及数个第三光阻块构成彩色光阻层。所述步骤2具体为：在所述基板上涂布第一光阻层，采用一道半色调光罩对所述第一光阻层进行曝光、显影，分别对应黑色矩阵的位置与第一光阻块的位置在基板上形成第一光阻矩阵、以及数个第一光阻块；所述步骤3具体为：在所述基板、第一光阻矩阵、及数个第一光阻块上涂布第二光阻层，采用一道半色调光罩对所述第二光阻层进行曝光、显影，分别对应黑色矩阵的位置与第二光阻块的位置在基板上形成第二光阻矩阵、以及数个第二光阻块；所述步骤4具体为：在所述基板、第二光阻矩阵、数个第一光阻块、及数个第二光阻块上涂布第三光阻层，采用一道半色调光罩对所述第三光阻层进行曝光、显影，分别对应黑色矩阵的位置与第三光阻块的位置在基板上形成第三光阻矩阵、以及数个第三光阻块。所述步骤2中，所述第一光阻矩阵的厚度为所述第一光阻层的厚度的30～35％，所述第一光阻块的厚度为所述第一光阻层厚度的100％；所述步骤3中，所述第二光阻矩阵的厚度为所述第二光阻层的厚度的30～35％，所述第二光阻块的厚度为所述第二光阻层的厚度的100％；所述步骤4中，所述第三光阻矩阵的厚度为所述第三光阻层厚度的30～35％，所述第三光阻块的厚度为所述第三光阻层厚度的100％。所述第一光阻矩阵、第二光阻矩阵、及第三光阻矩阵的厚度相同。所述第一光阻、第二光阻、第三光阻为品红色、青色、黄色光阻的任意排列组合。所述第一光阻、第二光阻、第三光阻的OD值均在0～4之间。本专利技术还提供一种彩膜基板，包括：基板、以及设于所述基板上的黑色矩阵与彩色光阻层；所述黑色矩阵包括堆叠设置的第一光阻矩阵、第二光阻矩阵、及第三光阻矩阵，所述第一光阻矩阵、第二光阻矩阵、及第三光阻矩阵的色彩混合后显示为黑色；所述彩色光阻层包括被黑色矩阵间隔开的数个第一光阻块、数个第二光阻块、及数个第三光阻块。所述第一光阻、第二光阻、第三光阻为品红色、青色、黄色光阻的任意排列组合。所述第一光阻、第二光阻、第三光阻的OD值均在0～4之间。所述第一光阻矩阵、第二光阻矩阵、及第三光阻矩阵的厚度相同。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种彩膜基板的制作方法，通过在基板上依次形成第一、第二、第三光阻层，并分别对第一、第二、第三光阻层进行图形化处理，得到堆叠设置的第一、第二、第三光阻矩阵、数个第一光阻块、数个第二光阻块、以及数个第三光阻块，所述第一、第二、第三光阻矩阵的色彩混合后显示为黑色，从而形成黑色矩阵，被黑色矩阵间隔开的数个第一光阻块、数个第二光阻块、及数个第三光阻块构成彩色光阻层；本发明通过在制作彩色光阻层的同时形成黑色矩阵，与现有技术相比，节省一道制程时间，省去了黑色矩阵材料的使用，并降低生产成本。本专利技术制得的彩膜基板，结构简单，制作成本低，且具有良好的滤光效果。为了能更进一步了解本专利技术的特征以及技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一基板(10)，在所述基板(10)上设置黑色矩阵的位置，对应黑色矩阵的位置形成数个第一、第二与第三光阻块的位置；步骤2、采用第一光阻层(21)，分别对应黑色矩阵的位置与第一光阻块的位置在基板(10)上形成第一光阻矩阵(31)、以及数个第一光阻块(41)；步骤3、采用第二光阻层(22)，分别对应黑色矩阵的位置与第二光阻块的位置在基板(10)上形成第二光阻矩阵(32)、以及数个第二光阻块(42)；步骤4、采用第三光阻层(23)，分别对应黑色矩阵的位置与第三光阻块的位置在基板(10)上形成第三光阻矩阵(33)、以及数个第三光阻块(43)；经过步骤2至步骤4后，对应黑色矩阵的位置堆叠设置的第一光阻矩阵(31)、第二光阻矩阵(32)、及第三光阻矩阵(33)的色彩混合后显示为黑色，从而形成黑色矩阵(30)，被黑色矩阵(30)间隔开的数个第一光阻块(41)、数个第二光阻块(42)、及数个第三光阻块(43)构成彩色光阻层(40)。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供一基板(10)，在所述基板(10)上设置黑色矩阵的位置，对
应黑色矩阵的位置形成数个第一、第二与第三光阻块的位置；
步骤2、采用第一光阻层(21)，分别对应黑色矩阵的位置与第一光阻块的
位置在基板(10)上形成第一光阻矩阵(31)、以及数个第一光阻块(41)；
步骤3、采用第二光阻层(22)，分别对应黑色矩阵的位置与第二光阻块的
位置在基板(10)上形成第二光阻矩阵(32)、以及数个第二光阻块(42)；
步骤4、采用第三光阻层(23)，分别对应黑色矩阵的位置与第三光阻块的
位置在基板(10)上形成第三光阻矩阵(33)、以及数个第三光阻块(43)；
经过步骤2至步骤4后，对应黑色矩阵的位置堆叠设置的第一光阻矩阵
(31)、第二光阻矩阵(32)、及第三光阻矩阵(33)的色彩混合后显示为黑色，
从而形成黑色矩阵(30)，被黑色矩阵(30)间隔开的数个第一光阻块(41)、
数个第二光阻块(42)、及数个第三光阻块(43)构成彩色光阻层(40)。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2具
体为：在所述基板(10)上涂布第一光阻层(21)，采用一道半色调光罩对所
述第一光阻层(21)进行曝光、显影，分别对应黑色矩阵的位置与第一光阻块
的位置在基板(10)上形成第一光阻矩阵(31)、以及数个第一光阻块(41)；
所述步骤3具体为：在所述基板(10)、第一光阻矩阵(31)、及数个第一
光阻块(41)上涂布第二光阻层(22)，采用一道半色调光罩对所述第二光阻
层(22)进行曝光、显影，分别对应黑色矩阵的位置与第二光阻块的位置在基
板(10)上形成第二光阻矩阵(32)、以及数个第二光阻块(42)；
所述步骤4具体为：在所述基板(10)、第二光阻矩阵(32)、数个第一光
阻块(41)、及数个第二光阻块(42)上涂布第三光阻层(23)，采用一道半色
调光罩对所述第三光阻层(23)进行曝光、显影，分别对应黑色矩阵的位置与
第三光阻块的位置在基板(10)上形成第三光阻矩阵(33)、以及数个第三光

【专利技术属性】
技术研发人员：沈嘉文，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42