一种镀铝薄膜生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种镀铝薄膜生产工艺，涉及包装材料领域，该镀铝薄膜生产工艺采用真空蒸镀机让铝丝溶化并蒸发成气态铝，通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，整个镀铝过程十分高效，且制造出来的镀铝薄膜具有良好的光泽度，包装效果好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及包装材料领域，更具体地说，本专利技术涉及一种镀铝薄膜生产工艺。
技术介绍
镀铝薄膜是通过真空镀铝工艺将高纯度在铝丝在1100～1200℃的高温下蒸发成气态，之后塑料薄膜经过真空蒸发室时，气态的铝原子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金属色彩的薄膜。镀铝薄膜常应用在包装中，现有的镀铝薄膜生产工艺比较落后，加工出来的镀铝薄膜质量一般，光泽性差，做为包装材料难以吸引顾客注意力。
技术实现思路
本专利技术所要解决的问题是提供一种镀铝薄膜生产工艺。为了实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：一种镀铝薄膜生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：（1）将筒状被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝；（2）气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层；（3）通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，保障镀铝层厚度在25～500nm。有益效果：该镀铝薄膜生产工艺采用真空蒸镀机让铝丝溶化并蒸发成气态铝，通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，整个镀铝过程十分高效，且制造出来的镀铝薄膜具有良好的光泽度，包装效果好。具体实施方式实施例1：该镀铝薄膜生产工艺包括如下步骤：（1）将筒状被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝；（2）气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层；（3）通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，保障镀铝层厚度在４00nm。实施例2：该镀铝薄膜生产工艺包括如下步骤：（1）将筒状被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到０.８×10－2Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1３00℃的温度下溶化并蒸发成气态铝；（2）气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层；（3）通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，保障镀铝层厚度在３00nm。实施例3：该镀铝薄膜生产工艺包括如下步骤：（1）将筒状被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃的温度下溶化并蒸发成气态铝；（2）气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层；（3）通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，保障镀铝层厚度在１００nm。以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书及实施方式内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀铝薄膜生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：（1）将筒状被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10‑3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝；（2）气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层；（3）通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，保障镀铝层厚度在25～500nm。

【技术特征摘要】
1.一种镀铝薄膜生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：（1）将筒状被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200～1400℃的温度下溶...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈小秋，
申请(专利权)人：苍南宇诺新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33