涂覆基板和制备涂覆基板的方法技术

本发明专利技术描述了一种用薄层叠层涂覆的透明玻璃质基板，其至少包括一层氧化钛基底层和氧化锡基主层，所述涂覆基板具有非常低的混浊度，同时还表现出低辐射系数或良好的导电性。本发明专利技术还描述了一种用通过热解沉积的涂层涂覆的基板的制备方法。

Coated substrate and method for producing coated substrate

The invention relates to a transparent glass substrate with thin laminated coating, which comprises at least one layer of titanium oxide layer and tin oxide based main layer, the coated substrate having a very low haze, also showed low emissivity or good conductivity. A method of preparing a substrate coated with a coating by thermal deposition is also described.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂;U^制备涂^^的方法 本专利技术涉及一种用薄层叠层涂覆的玻璃质透明J^一种制备涂^！5的方法。尤其涉;s^L出j^!4t系数和低混法度性能的涂;ai^。氧4^^^r层是^^的。例如，掺杂氟的基于氧^^的涂层因期^Mt 系数和导电性能而为A^斤知。 一方面，这些材料对波长范围在3到50jam之间 范围的电f^t具有较高的^it，因此可以a^卜旨。另一方面，人们已 知絲锑的勤彌涂层具有絲系数低的性能，并且与縣氟的氧^^涂层相 io》时可见光范围波长的吸收 著，可用于吸热和/或隔热用途。通过热解^^M^^璃上的氧^^U^层(以^^H匕学M目^^ (CVD)， 以'W目(賊射)或以固相(粉末濺射))通常M成一种发白色的"混浊" (Applied Surface Science, 185 (2002) 161-171， J. Szanyi 'The origin of haze in CVD tin oxide thin films")也是公知的。该混法是由于光絲 15狄的。例如，絲文章描述了 264和215nm厚度的Sn02: Sb絲别^Si^ 1. 55%和3. 95%的混法度。标准本文档来自技高网...

【技术保护点】
用薄层叠层涂覆的透明玻璃质基板，其包括：　　　　ｉ）至少一层氧化钛基底层，和　　　　ｉｉ）氧化锡基主层，其厚度大于２５０ｎｍ，　　　　所述涂覆基板混浊度小于２％，优选小于１．５％，更优选小于１％。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A舒茨，P雅科特，F马里亚热，
申请(专利权)人：旭硝子欧洲平板玻璃股份有限公司，
类型：发明
国别省市：BE[比利时]