光罩的缺陷修复方法及光罩技术

本申请公开了一种光罩的缺陷修复方法及光罩。其中，该缺陷修复方法包括：打开光罩的原始数据文件以获取光罩的原始图形，并通过修正原始图形以获取光罩的参考图形；采用扫描机台对部分光罩进行扫描，以获取光罩缺陷的SEM图形；将参考图形和SEM图形进行对比，以定位光罩中的缺陷的位置；修补光罩中的缺陷。该方法从光罩的原始数据文件获取光罩的参考图形，因而该方法能够获得任何光罩的参考图形，从而解决了难以找到光罩的参考图形的问题。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体集成电路的
，具体而言，涉及一种光罩的缺陷修复方法及光罩。
技术介绍
在半导体集成电路的制作过程中，需要采用光罩定义电路图形的位置，然后通过光刻机对所投影的电路图形进行光刻蚀，以在半导体基材上形成所需器件。形成光罩的方法包括：首先，在石英玻璃上沿远离石英玻璃的方向依次镀上一层金属铬和感光胶；然后，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上；最后，沿感光胶中的图案刻蚀金属铬以形成电路图形。该方法通常会在所形成光罩中引入缺陷，例如刻蚀金属铬时曝光能量不均或金属铬上沾染少许环境中的微粒等均会在所形成的光罩中引入缺陷，从而使得光罩中图形产生误差。现有技术中通常对光罩上的缺陷进行修复，以减少光罩中图形误差，并获得合乎设计要求的光罩。目前，一般采用图形对比方法对待修复光罩中的缺陷进行修复。该修复方法包括以下步骤：首先，获取正常光罩(不含缺陷的光罩)或待修复光罩中的其他正常区域的SEM图形，并将此SEM图形作为参考图形；然后，采用扫描机台对待修复光罩进行扫本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩的缺陷修复方法，其特征在于，所述缺陷修复方法包括：打开光罩的原始数据文件以获取所述光罩的原始图形，并通过修正所述原始图形以获取所述光罩的参考图形；采用扫描机台对部分所述光罩进行扫描，以获取所述光罩的SEM图形；将所述参考图形和所述SEM图形进行对比，以定位所述光罩中的缺陷的位置；修补所述光罩中的缺陷。

【技术特征摘要】
1.一种光罩的缺陷修复方法，其特征在于，所述缺陷修复方法包括：
打开光罩的原始数据文件以获取所述光罩的原始图形，并通过修正所述原始图形以
获取所述光罩的参考图形；
采用扫描机台对部分所述光罩进行扫描，以获取所述光罩的SEM图形；
将所述参考图形和所述SEM图形进行对比，以定位所述光罩中的缺陷的位置；
修补所述光罩中的缺陷。
2.根据权利要求1所述的缺陷修复方法，其特征在于，修正所述原始图形的步骤包括：
截取所述原始图形中对应于所述SEM图形的部分作为初始参考图形；
对所述初始参考图形进行边角圆滑处理和轮廓抽边处理，以获得中间参考图形；
对所述中间参考图形进行放大处理，以获得与所述SEM图形尺寸匹配的所述参考图
形。
3.根据权利要求2所述的缺陷修复方法，其特征在于，获取所述原始图形的步骤中，打开
存放于工作台视窗系统中的所述原始数据文件以获得所述原始图形。
4.根据权利要求2所述的缺陷修复方法，其特征在于，获取所述初始参考图形的步骤中，
截取边长为2～4μm的所述原始图形作为所述初始参考图形。
5.根据权利要求3所述的缺陷修复方法，其特征在于，获取所述中间参考图形的步骤中，
采用所述工作台视窗系统自动对所述初始参考图形进行边角圆滑处理和轮廓抽边处理，
以获得所述中间参考图形。
6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：施维，任快侠，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31