一种印刷用柔性衬底、量子点发光二极管及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种印刷用柔性衬底、量子点发光二极管及其制备方法，包括柔性透明导电衬底、位于所述柔性透明导电衬底上方的第一柔性透明绝缘衬底、位于第一柔性透明绝缘衬底上方的第二柔性透明绝缘衬底；所述第一柔性透明绝缘衬底上分布有若干深入到所述柔性透明导电衬底中的第一凹槽，所述第二柔性透明绝缘衬底上分布有若干第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽上下对应设置，使第一柔性透明绝缘衬底与第二柔性透明绝缘衬底无缝拼接。本发明专利技术的印刷用柔性衬底，不仅解决了打印像素点的纵向边缘不整齐，以及每个像素点封装难度大、要求抽真空条件高的问题，同时有效减弱因光散射造成电流效率低于实际电流效率的影响等问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及柔性印刷显示
，尤其涉及一种印刷用柔性衬底、量子点发光二极管及其制备方法。
技术介绍
在QLED和OLED显示工艺开发过程中的印刷显示由于其应用领域广、制备成本低等优点在未来的柔性显示领域中备受人们的关注与青睐。目前柔性显示面板技术较为成熟的技术是基于TFT(场效应晶体管)的柔性显示，然而这些技术都是利用真空蒸镀技术来完成的，成本较高，距离实现真正的大面积可弯折仍然需要很多技术问题需要突破。然而针对QLED和OLED的柔性印刷显示技术的开发主要集中在印刷模板的制备和相应印刷材料的开发，基于现有技术制备得到的印刷模板都是带有阵列的条形沟槽衬底，通过油墨打印技术在条形沟槽内打印等间距的像素点，此类模板的每一个沟槽的印刷点只能控制印刷器件像素点的横向边缘整齐度，但其纵向边缘的整齐度会因打印的油墨容易出现咖啡环，进而会导致纵向边缘不整齐，也会影响整个像素点的面积，同时也会造成整个柔性显示面板的效果。利用此印刷模板制备得到的显示面板其沟槽内存在空白区域，因此在对整个显示面板进行封装时要求抽真空的条件较高，封装难度较大；另外，利用此衬底制备得到的无论是QLED还是OLED器件由于其发光层是平整的，然而相应的电流效率会因光散射而造成出光损失，从而造成测试的器件电流效率低于实际的电流效率。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种印刷用柔性衬底、量子点发光二极管及其制备方法，旨在解决现有技术中打印像素点的纵向边缘不整齐、柔性显示面板进行封装时要求抽真空条件高以及因光散射造成电流效率低于实际电流效率影响的问题。本专利技术的技术方案如下：一种印刷用柔性衬底，其中，包括柔性透明导电衬底、位于所述柔性透明导电衬底上方的第一柔性透明绝缘衬底、位于第一柔性透明绝缘衬底上方的第二柔性透明绝缘衬底；所述第一柔性透明绝缘衬底上分布有若干深入到所述柔性透明导电衬底中的第一凹槽，所述第二柔性透明绝缘衬底上分布有若干第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽上下对应设置，使第一柔性透明绝缘衬底与第二柔性透明绝缘衬底无缝拼接。所述的印刷用柔性衬底，其中，所述第一柔性透明绝缘衬底和第二柔性透明绝缘衬底均为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对萘二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亚胺膜、聚碳酸酯膜、聚氯乙烯膜或聚乙烯醇膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚苯乙烯膜、聚氯乙烯膜、聚α-甲基苯乙烯树脂膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚碳酸亚丙酯膜、天然橡胶膜、丁腈橡胶膜、硅膜、碳化硅膜、硫化砷膜、二氧化硅膜、丁基橡胶膜、异戊二烯橡胶膜、酚醛树脂膜、丁苯橡胶膜、低密度聚乙烯膜、线性低密度聚乙烯膜中的一种或多种。所述的印刷用柔性衬底，其中，所述柔性透明导电衬底为石墨烯、金属薄片、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、硒化铋纳米薄片、碲化铋纳米薄片，碲化锑纳米薄片中的一种或多种。所述的印刷用柔性衬底，其中，所述第一凹槽为半球状凹槽，所述第二凹槽为圆柱状凹槽。所述的印刷用柔性衬底，其中，所述半球状凹槽内填满有透明电极材料。一种印刷用柔性衬底的制备方法，其中，包括步骤：A1、先在第一柔性透明绝缘衬底上生长柔性透明导电衬底，然后对第一柔性透明绝缘衬底进行刻蚀，得到若干深入到所述柔性透明导电衬底中的第一凹槽；同时，在第二柔性透明绝缘衬底上直接进行刻蚀，得到若干第二凹槽，其中所述第一凹槽与所述第二凹槽上下对应设置；A2、将第一柔性透明绝缘衬底与第二柔性透明绝缘衬底按照第一凹槽和第二凹槽的位置进行无缝拼接，制备得到印刷用柔性衬底；然后对所述印刷用柔性衬底进行压印处理，完成制备。所述印刷用柔性衬底的制备方法，其中，所述步骤A1中，先对第一柔性透明绝缘衬底进行刻蚀，得到若干圆柱状的第一凹槽；然后进行压印处理，得到末端为半球状的第一凹槽。所述印刷用柔性衬底的制备方法，其中，在所述步骤A1中，通过真空蒸镀的手段对第一凹槽蒸镀一层透明电极材料。一种量子点发光二级管的制备方法，其中，包括步骤：A、在如上任一所述的印刷用柔性衬底上制备空穴传输层；B、接着在空穴传输层上制备量子点发光层；C、然后在量子点发光层上制备电子传输层；D、最后在电子传输层上蒸镀阴极层，然后进行封装，得到量子点发光二极管。一种量子点发光二极管，其中，所述量子点发光二极管自下而上依次包括阳极层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层及阴极层，其中所述阳极层采用如上任一所述的印刷用柔性衬底。有益效果：本专利技术利用柔性透明导电衬底和柔性透明绝缘衬底制备得到的具有阵列柱状凹槽结构的印刷用柔性衬底，不仅可以解决打印像素点的纵向边缘不整齐，以及每个像素点封装难度大、要求抽真空条件高的问题。利用此衬底制备得到的QLED器件发光层是平整的，从而有效减弱因光散射造成电流效率低于实际电流效率的影响等问题，进而提高了QLED器件的效率。附图说明图1为本专利技术一种印刷用柔性衬底制备方法较佳实施例的流程图。图2为本专利技术一种量子点发光二极管制备方法较佳实施例的流程图。图3为本专利技术实施例中一种印刷用柔性衬底制备方法的流程图。图4为图3中部件3的放大图。图5为本专利技术实施例中量子点发光二极管的结构示意图。具体实施方式本专利技术提供一种印刷用柔性衬底、量子点发光二极管及其制备方法，为使本专利技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术的一种印刷用柔性衬底，其包括柔性透明导电衬底、位于所述柔性透明导电衬底上方的第一柔性透明绝缘衬底、位于第一柔性透明绝缘衬底上方的第二柔性透明绝缘衬底；所述第一柔性透明绝缘衬底上分布有若干深入到所述柔性透明导电衬底中的第一凹槽，所述第二柔性透明绝缘衬底上分布有若干第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽上下对应设置，使第一柔性透明绝缘衬底与第二柔性透明绝缘衬底无缝拼接。本专利技术所述第一柔性透明绝缘衬底和第二柔性透明绝缘衬底可以为但不限于聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对萘二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亚胺膜、聚碳酸酯膜、聚氯乙烯膜或聚乙烯醇膜、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）膜、聚苯乙烯膜（PS）、聚氯乙烯膜、聚α-甲基苯乙烯树脂膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚碳酸亚丙酯膜、天然橡胶（NR）膜、丁腈橡胶（NBR）膜、硅（Si）膜、碳化硅膜（SiC）、硫化砷膜（As2S3）、二氧化硅膜（SiO2）、丁基橡胶膜（IIR）、异戊二烯橡胶膜（IR）、酚醛树脂膜（PF）、丁苯橡胶膜（SBR）、低密度聚乙烯膜（LDPE）、线性低密度聚乙烯膜（LLDPE）中的一种或多种。所述柔性透明导电衬底可以为但不限于石墨烯、金属薄片、聚对苯二甲酸乙二酯（PET）、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)、硒化铋（Bi2Se3）纳米薄片，碲化铋（Bi2Te3）纳米薄片，碲化锑（Sb2Te3）纳米薄片中的一种或多种。本专利技术所述柔性透明导电衬底可以采用真空沉积、液相生长、外延生长等方法与第一柔性透明绝缘衬底形成具有明显分层结构的柔性透明衬底。其中，所述柔性透明衬底的下层为导电部分，上层为绝缘部分，所述柔性透明衬底的导电部分相对较薄。本专利技术所述半球状凹槽内填满有透明电极材料。这种透明电极材料因是半球状结构，能够有效的减本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种印刷用柔性衬底，其特征在于，包括柔性透明导电衬底、位于所述柔性透明导电衬底上方的第一柔性透明绝缘衬底、位于第一柔性透明绝缘衬底上方的第二柔性透明绝缘衬底；所述第一柔性透明绝缘衬底上分布有若干深入到所述柔性透明导电衬底中的第一凹槽，所述第二柔性透明绝缘衬底上分布有若干第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽上下对应设置，使第一柔性透明绝缘衬底与第二柔性透明绝缘衬底无缝拼接。

【技术特征摘要】
1.一种印刷用柔性衬底，其特征在于，包括柔性透明导电衬底、位于所述柔性透明导电衬底上方的第一柔性透明绝缘衬底、位于第一柔性透明绝缘衬底上方的第二柔性透明绝缘衬底；所述第一柔性透明绝缘衬底上分布有若干深入到所述柔性透明导电衬底中的第一凹槽，所述第二柔性透明绝缘衬底上分布有若干第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽上下对应设置，使第一柔性透明绝缘衬底与第二柔性透明绝缘衬底无缝拼接。2.根据权利要求1所述的印刷用柔性衬底，其特征在于，所述第一柔性透明绝缘衬底和第二柔性透明绝缘衬底均为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对萘二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亚胺膜、聚碳酸酯膜、聚氯乙烯膜或聚乙烯醇膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚苯乙烯膜、聚氯乙烯膜、聚α-甲基苯乙烯树脂膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚碳酸亚丙酯膜、天然橡胶膜、丁腈橡胶膜、硅膜、碳化硅膜、硫化砷膜、二氧化硅膜、丁基橡胶膜、异戊二烯橡胶膜、酚醛树脂膜、丁苯橡胶膜、低密度聚乙烯膜、线性低密度聚乙烯膜中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的印刷用柔性衬底，其特征在于，所述柔性透明导电衬底为石墨烯、金属薄片、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、硒化铋纳米薄片、碲化铋纳米薄片，碲化锑纳米薄片中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的印刷用柔性衬底，其特征在于，所述第一凹槽为半球状凹槽，所述第二凹槽为圆柱状凹槽。5.根据权利要求4所述的印刷用柔性衬底，其特征在于，所述半球状凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆玲程，杨一行，
申请(专利权)人：TCL集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44