本发明专利技术为一种印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，包括如下步骤：（１）将水合二氧化钛调成浆；（２）调节印制电路板酸性蚀刻废液的ｐＨ值为０．５～３．０；（３）向调节好ｐＨ值的印制电路板酸性蚀刻废液中加入所述水合二氧化钛浆体，搅拌反应５～４５ｍｉｎ，然后过滤。本发明专利技术成本低，能将砷、铁一起去除，效率高。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。技术背景印制电路板蚀刻废液(以下称"PCB蚀刻废液")有酸性废液和碱性废液两种，前者的特点是铜及氯离子含量高，盐酸介质，游离酸大约2 5 mol/L;后者的特点是铜及氨含量高，碱性。PCB蚀刻 废液中砷含量一般《0mg/L ，少于30 mg/L居多，铁含量一般在20 mg/L内，砷主要来源于敷铜板的制造，在存储转运过程中会带入微量 的铁。由PCB酸性蚀刻废液为原料可制铜盐产品，但是某些铜盐产品 对砷、铁有着严格的要求，因此须深度除砷除铁使以此为原料制得的 铜盐产品中砷、铁含量达到标准。目前有关含砷溶液除砷的基本方法有传统的化学沉淀法、功能高 分子膜法、反渗透法、溶剂萃取法、离子交换法、浮选法、生物法、 诱导脱砷法和吸附共沉淀法等。上述方法简述如下传统的化学沉淀法需要大量的沉淀剂，且沉淀不彻底，在高铜溶 液中不适宜利用该法；功能高分子膜法要求膜对砷具有高选择性，且 选择性地将聚合物连同吸附离子全部滞留；反渗透法还只是停留在实 验阶段，为了能有效的除去砷并能在实际中得到应用，还需进行更先进的反渗透膜的设计；溶剂萃取法要求萃取剂具有高选择性且反萃取 较容易；离子交换法只能处理浓度较低、处理量不大、组成单纯且有 较高回收价值的废水，其处理工艺比较复杂，成本较高；浮选法需要 用到多种试剂；生物法虽在实验中证实可行，但培养菌种的周期长； 诱导脱砷法要求溶液的铜离子浓度在2 5 g/L范围内；吸附共沉淀 法的缺点是吸附剂再生、回收和再利用上存在一定的难度，且还会吸 附大量有用金属共沉淀。以上归纳来自于以下文献及期刊的综合阅读中国专利CN 85102296、 90100691.2、 96112949,2、 97118914.5、 98806952.0、 00813386. 7、 01135376. 7、 03118325. 5、 03130727. 2、 20031010797. 0、 200310106665.2、 200310115571.1、 03812045.3、 200480034274.7、 200510050959.7 、 200610060480.6，以及合肥工业大学学报(Vol. 15，No.Sl,p134)、硫酸工业(1979年04期第23页)、江西冶 金(1982年02期第32页)、邢台学院学报(Vol. 20， No. 2， p96)、硫 酸工业(1978年S3期第81页、1979年S2期第19页)、矿产保护与 利用(No. 1，p51)、有色冶金设计与研究(Vol. 15，No3，pl8)、江西化 工(Vol. 6, No. 2， pi )、湖南环境生物职业技术学院学报(Vol. 8， No. 2，pll9)。其中专利200610060480.6中所提及的是用水合二氧化锰除砷， 该法所使用的水合二氧化锰需要现场合成，除砷过程中会产生少量的 氯气，且引入少量的杂质。而对于PCB蚀刻废液中微量的铁，目前现有的除铁方法如黄铁矾法、针铁矿法、赤铁矿法、Fe(0H)3沉淀法等都不适于该类废水。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有除砷除铁方法存在的以上所述问题， 提供一种。 本专利技术包括如下步骤(1) 将水合二氧化钛调成浆；(2) 调节印制电路板酸性蚀刻废液的pH值为0.5 3.0;(3) 向上述调节好pH值的印制电路板酸性蚀刻废液中加入所述 水合二氧化钛浆体，搅拌反应5 45 min，然后过滤。本专利技术中的水合二氧化钛(Ti02*XH20)为除砷除铁剂，选用偏 钛酸(H2Ti03或TiCVH20)较佳。本专利技术可以对原料进行预处理，即在所述第(2)步调节PH值 之前，在搅拌的条件下，往印制电路板酸性蚀刻废液中慢慢加入氧化 剂或鼓入空气氧化其中的Cu+及三价砷，直至废液变澄清或透亮。所 述氧化剂可采用双氧水、(NH4) 2S208、 K2S208、 KCIO、 KC103、 NaClO、 NaC103 或02等。印制电路板酸性蚀刻废液中砷的含量一般S50 mg/L，在此情况 下水合二氧化钛的用量是1 5 kg/m3印制电路板酸性蚀刻废液。本专利技术在所述第(1)步，可按1 kg水合二氧化钛/kg水的用量， 用水把水合二氧化钛调成浆。本专利技术在所述第(2)步可以采用印制电路板碱性蚀刻废液、碱 式氯化铜、碳酸铜、碱式碳酸铜或氨水来调节印制电路板酸性蚀刻废 液的pH值。本专利技术的第(2)步反应一般在反应釜内进行，在过滤完之后， 用少量的清水清洗反应釜内壁残留的固体。本专利技术的技术效果在于本专利技术使用范围广，可预先氧化或不氧 化印制电路板酸性蚀刻废液中的三价砷；本专利技术中的除砷剂不用现场 合成，在除砷铁过程中无氯气产生；本专利技术在除砷除铁过程中无额外 杂质引入；本专利技术成本低，节能；本专利技术能将砷、铁一起去除，效率 高，砷、铁残留低，沉淀易过滤，整体工艺简单，操作条件易控制， 设备投资小，产品含砷率、含铁率低。具体实施方式实施例一PCB酸性蚀刻废液除砷铁用于生产铜盐产品。如下的表1为PCB酸性蚀刻废液的成分表:<table>table see original document page 7</column></row><table>表l1、 按l kg水合二氧化钛/kg水的用量，用水把水合二氧化钛调 成浆。2、 往l 1113的反应釜中抽进0.8 m3 PCB酸性蚀刻废液，启动搅拌 桨，搅拌速度300 r/min，然后加入氨水，调节PCB酸性蚀刻废液的 pH值在1.8，把用2 kg偏钛酸配成的浆体倒进该反应釜中，继续搅 拌反应15min，压滤，再用少量的清水清洗反应釜内壁残留的固体， 然后压滤到储槽中。象前述这样连续生产3槽，并分析滤液的砷铁含量。分析结果如表2的砷铁含量分析表:<table>table see original document page 8</column></row><table>表2由表2可见经过净化的PCB酸性蚀刻废液的砷铁含量都小于1 mg/L ，本专利技术除砷铁效果明显。实施例二 PCB酸性蚀刻废液除砷铁用于生产铜盐产品如下的表3为PCB酸性蚀刻废液成分表-名称p (g/mUCu2+ (g/L)忌、As (mg/L)Pb2+ (mg/L)总Fe (mg/L)PCB酸性 蚀刻液1.210135.012.2<107.0表31、 按l kg水合二氧化钛/kg水的用量，用水把水合二氧化钛调 成浆。2、 往l 1113的反应釜中抽进0.8 m3 PCB酸性蚀刻废液，启动搅拌 桨，搅拌速度300 r/min，慢慢加入浓度为27. 5%的HA氧化，直至 溶液变透亮即可，然后加入PCB碱性蚀刻废液调节溶液的pH值在1. 7， 把用2 kg偏钛酸配成的浆体倒进反应釜中，继续搅拌反应15min， 压滤，再用少量的清水清洗反应釜内壁残留的固体，然后压滤到储槽 中。象前述这样连续生产3槽，并分析滤液的砷铁含量。分析结果如 表4的砷铁含量分析表<table>table see original document page 9</column></row>&本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于包括如下步骤：（１）将水合二氧化钛调成浆；（２）调节印制电路板酸性蚀刻废液的ｐＨ值为０．５～３．０；（３）向上述调节好ｐＨ值的印制电路板酸性蚀刻废液中加入所述水合二氧化钛浆体，搅拌反应５～４５ｍｉｎ，然后过滤。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：宋传京，陈志传，陈昌铭，毛谙章，程柏森，
申请(专利权)人：深圳市危险废物处理站，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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