用于生产铜饲料添加剂的印制电路板蚀刻废液的除砷方法技术

本发明专利技术为一种用于生产铜饲料添加剂的印制电路板蚀刻废液的除砷方法，包括如下顺序的步骤：（１）在搅拌的条件下，往反应器内的ＰＣＢ蚀刻废液中加入氧化剂或鼓入空气或氧气进行氧化，若ＰＣＢ蚀刻废液本来就透明，此步可省略；（２）调节ＰＣＢ蚀刻废液的ｐＨ值在０．５－３．０之间；（３）加入高锰酸钾溶液，用量是０．８－５ｋｇＫＭｎＯ↓［４］／ｍ↑［３］ＰＣＢ蚀刻废液，搅拌反应３０－９０分钟至溶液褪色完全，然后过滤得滤液；或者倒进预先合成的１．３－８．３ｋｇ水合二氧化锰／ｍ↑［３］ＰＣＢ蚀刻废液，搅拌１５－９０分钟，过滤得滤液。本发明专利技术的方法能同时去除酸性和碱性ＰＣＢ蚀刻废液或高砷碱式氯化铜中的砷，节能，除砷率高，沉淀易过滤，整体工艺简单，操作条件易控制，设备投资小。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
印制电路板蚀刻废液(以下称“PCB蚀刻废液”)中的砷主要来源于敷铜板的制造，而由PCB蚀刻废液生产的铜饲料添加剂，如五水硫酸铜、碱式氯化铜、碱式碳酸铜等对砷有着严格的要求，含量要求分别小于5ppm、20ppm和20ppm。目前有关含砷溶液除砷的基本方法有化学沉淀法、功能高分子膜法、反渗透法、溶剂萃取法、离子交换法、浮选法、生物法、诱导脱砷法和吸附共沉淀法。这些方法的各自不足分述如下化学沉淀法需要大量的沉淀剂，产生大量的含砷废渣很难利用，长期堆积则容易造成二次污染；功能高分子膜法要求膜对砷具有高选择性，且选择性地将聚合物连同吸附离子全部滞留；反渗透法还只是停留在实验阶段，为了能有效的除去砷并能在实际中得到应用，还需进行更先进的反渗透膜的设计；溶剂萃取法要求萃取剂具有高选择性且反萃取较容易；离子交换法只能处理浓度较低、处理量不大、组成单纯且有较高回收价值的废水，其处理工艺比较复杂，成本较高；浮选法需要用到多种试剂；生物法虽在实验中证实可行，但培养菌种的周期长；诱导脱砷法要求溶液的铜离子浓度在2～5g/L范围内；吸附共沉淀法的缺点是吸附剂再生、回收和再利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于生产铜饲料添加剂的印制电路板蚀刻废液的除砷方法，其特征在于包括如下顺序的步骤：（１）在搅拌的条件下，慢慢往反应器内的ＰＣＢ蚀刻废液中加入氧化剂或鼓入空气或氧气进行氧化，直至溶液变透明；若ＰＣＢ蚀刻废液本来就透明，此步可省略； （２）调节ＰＣＢ蚀刻废液的ＰＨ值在０．５－３．０之间；（３）向上述调节好ｐＨ值的ＰＣＢ蚀刻废液中加入高锰酸钾溶液，高锰酸钾的用量是０．８－５ｋｇＫＭｎＯ↓［４］／ｍ↑［３］ＰＣＢ蚀刻废液，搅拌反应３０－９０分钟至溶液褪色完全 ，然后过滤得滤液；或者向上述调节好ｐＨ值的ＰＣＢ蚀刻废液中倒进预先合成的１．３－８．３ｋｇ水合二...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志传，宋传京，毛谙章，覃祚观，吴瑞富，
申请(专利权)人：深圳市危险废物处理站，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]