一种CF基板的制造方法及UV固化装置、CF基板生产线制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种CF基板的制造方法，包括CF制程，在CF制程结束后，对CF基板进行一道UV硬化工序，所述UV硬化工序为在CF基板的背面通过UV灯进行照射。本发明专利技术另一方面还提供了一种UV固化装置以及CF基板生产线。与现有技术相比，通过在CF基板制程之后增加一道UV硬化工艺，通过对CF基板的背面进行UV光照硬化，使膜层下部更加键结，锥角更好，即图形可以做得更细的线宽。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种液晶面板制作设备，特别是一种CF基板的制造方法及UV固化装置、CF基板生产线。
技术介绍
目前现有的CF(彩色滤光片)制程因应移动设备产品日益多变且分辨率PPI随之增加，为满足高分辨率的需求，CF制程相对应所使用的技术亦具有相应的技术难度，在黑色矩阵(BM)制程、RGB像素制程、PS(photo spacer：柱子制作)部分图案的线宽(CD)都有不同程度的缩小，技术难度部分也有不同程度的上升，特别是BM制程，细线宽施做需要烘烤，烘烤后仍保持较陡的锥度，该状况下，需要光阻配合较小的流动性(melt flow)，碳素的结构大小直接影响该特性，结构越大，流动性越小，但同时阻抗部分会因为结构变大而减小，这是我们所不想看到的。流动性部分和光阻内部键合状况也有一定影响，曝光时，受穿透度影响，光阻表面部分受光必然大于光阻内部，化学物光阻内部高分子进行聚合，在烘烤后，光阻会再次流动，从而锥度下降，线宽变大。
技术实现思路
为克服现有技术的不足，本专利技术提供一种CF基板的制造方法及UV固化装置、CF基板生产线，从而确保光阻内部的高分子更加聚合。本专利技术提供了一种CF基板的制造方法，包括CF制程，在CF制程结束后，对CF基板进行一道UV硬化工序，所述UV硬化工序为在CF基板的背面通过UV灯进行照射。进一步地，所述UV灯的波长为300-450nm。进一步地，所述UV灯的波长为450nm。本专利技术还提供了一种UV固化装置，包括外壳以及设于外壳相对两侧的入口和出口，在外壳内设有辊子输送装置，辊子输送装置设置在入口与出口之间，在辊子输送装置的下方设有间隔设置的UV灯，所述UV灯设置在辊子输送装置的相邻两个辊轴之间的空隙处，每个UV灯分别设有一个镇流器，每个镇流器均与电源连接。进一步地，在每个UV灯上均设有一个反射罩，反射罩的反射面朝上。进一步地，每两个反射罩相互连接固定成一组反射罩组。进一步地，所述UV灯的波长为300-450nm。进一步地，所述UV灯的波长为450nm。进一不地，所述辊子输送装置的输送速度为4000mm/min。本专利技术提供一种CF基板生产线，还包括所述的UV固化装置。本专利技术与现有技术相比，通过在CF基板制程之后增加一道UV硬化工艺，通过对CF基板的背面进行UV光照硬化，使膜层下部(高分子聚合部分)更加聚合，锥角更好，即图形可以做得更细的线宽。附图说明图1是本专利技术的CF基板的制造方法的流程图。图2是本专利技术的UV固化机的内部结构示意图。图3是本专利技术CF基板生产线的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细说明。如图1所示，本专利技术的CF基板的制造方法，包括现有技术的CF制程，在CF制程结束后，即完成烘烤后，对CF基板(彩色滤光片基板)进行一道UV硬化工序(S108)，所述UV硬化工序为在CF基板的背面通过UV灯进行照射，从而确保光阻内部的键结状况，以提高产线制程范围。UV灯的波长为300-450nm，优选为450nm。所述CF制程大致包括以下步骤：步骤一S101、清洗，对基板通过洗净装置进行清洗，去除基板表面的颗粒；步骤二S102、涂布，通过CF涂布机涂布光阻剂，形成涂层；步骤三S103、干燥，利用真空干燥装置对具有涂层的基板进行干燥，利用真空干燥设备将压力降到30pa，让溶剂达到沸点，进行烘干；步骤四S104、预烘烤，通过预烘烤装置即热板对基板上剩余溶剂进行烘干；步骤五S105、曝光，通过曝光装置进行紫外线照射，对光阻进行反应；步骤六S106、显影，采用显影装置利用碱性的KOH，将没有照到光的材料去除；步骤七S107、烘烤，通过CF烘烤机进行烘烤温度为230℃后将基板上剩余溶剂去掉，制成CF基板。在进行了上述CF制程后，进行步骤八S108，UV硬化。由于本专利技术所要保护的主旨为在制成CF基板后进行一道UV硬化工艺，因此，制作CF基板可以按照现有技术的CF制程进行，在此不再赘述。如图2所示，本专利技术的UV固化装置包括外壳4，在外壳4的相对相侧分别设有入口5和出口6，在外壳4内设有辊子输送装置1，辊子输送装置1设置在入口5与出口6之间，从而使CF基板能够从入口5进入后经辊子输送装置1输送从出口6送出，在辊子输送装置1的下方设有间隔设置的UV灯2，所述UV灯2设置在辊子输送装置1的相邻两个辊轴之间的空隙处，在每个UV灯2上均设有一个反射罩3，反射罩3的反射面朝上，每个UV灯2分别设有一个镇流器7，每个镇流器7均与电源8连接，这样能够从分的对CF基板的背面进行照射。作为本实施例的其中一优选，每两个反射罩3相互连接固定成一组反射罩组。所述UV灯的波长为300-450nm，优选为450nm。所述辊子输送装置1可采用现有技术的辊子输送装置，在此不再赘述，所述辊子输送装置1的输送速度为4000mm/min。如图3所示，本专利技术的CF基板生产线包括，包括依次排列并相互通过输送装置连接的洗净装置10、涂布装置20、真空干燥装置30、预烘烤装置40、曝光装置50、显影装置60、烘烤装置70以及本专利技术的UV固化机80。本专利技术的UV固化装置也可以采用现有技术的UV固化机。虽然已经参照特定实施例示出并描述了本专利技术，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本专利技术的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种CF基板的制造方法，包括CF制程，其特征在于：在CF制程结束后，对CF基板进行一道UV硬化工序，所述UV硬化工序为在CF基板的背面通过UV灯进行照射。

【技术特征摘要】
1.一种CF基板的制造方法，包括CF制程，其特征在于：在CF制程结束后，对CF基板进行一道UV硬化工序，所述UV硬化工序为在CF基板的背面通过UV灯进行照射。2.根据权利要求1所述的CF基板的制造方法，其特征在于：所述UV灯的波长为300-450nm。3.根据权利要求2所述的CF基板的制造方法，其特征在于：所述UV灯的波长为450nm。4.一种UV固化装置，包括外壳(4)以及设于外壳(4)相对两侧的入口(5)和出口(6)，其特征在于：在外壳(4)内设有辊子输送装置(1)，辊子输送装置(1)设置在入口(5)与出口(6)之间，在辊子输送装置(1)的下方设有间隔设置的UV灯(2)，所述UV灯(2)设置在辊子输送装置(1)的相邻两个辊轴之间的空隙处，每个UV灯(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐涛，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42