【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于无机非金属材料领域,具体涉及一种无添加剂低压制备高纯氮化硅的方法。
技术介绍
氮化硅(Si3N4)是一种重要的结构陶瓷材料。由Si原子和N原子以强共价键结合而成,使得氮化硅陶瓷具有高强度、高硬度、耐磨损、高温稳定性等性能;氮化硅不与大多数熔融金属反应,可作为金属熔融液坩埚;氮化硅具有优秀的抗化学腐蚀能力,不与除氢氟酸之外的所有无机酸反应;氮化硅热膨胀系数低,可多次循环经历骤冷骤热。可广泛应用于化工、电子、冶金、机械等领域。氮化硅有两种晶型,α相和β相。α相为低温稳定相,β相为高温稳定相,两者均为六方晶系。α相氮化硅内部应变大于β相氮化硅,因此α相自由能高于β相,故在1400~1600℃加热时,α相氮化硅会向β相氮化硅发生转变。在制备氮化硅陶瓷时,α相以溶解析出机制转化为β相,同时发生致密化。在传统能源濒临枯竭的今天,新能源以其无污染、可再生等优点倍受关注,作为其中的一种,太阳能电池的使用日益广泛。而作为太阳能电池板的主要原材料—多晶硅,需求量也日益增长。在生产多晶硅铸锭过程中,为了防止熔融硅液与石英陶瓷坩埚发生反应并容易脱模,需要在石英坩埚内壁涂覆 ...
【技术保护点】
一种无添加剂低压制备高纯氮化硅的方法,其特征在于:它包括以下步骤:(1) 对粒度为50~200目的粗硅粉球磨10h;(2)在细硅粉中加入10~40%氮化铝稀释剂并球磨混匀;(3)将混合粉体置于氮化炉中,在0.05~0.25MPa的微正压下直接氮化,氮化温度为1200~1400℃,保温4~20h。
【技术特征摘要】
1.一种无添加剂低压制备高纯氮化硅的方法,其特征在于:它包括以下步骤:(1) 对粒度为50~200目的粗硅粉球磨10h;(2)在细硅粉中加入10~40%氮化铝稀释剂并球磨混匀;(3)将混合粉体置于氮化炉中,在0.05~0.25MPa的微正压下直接氮化,氮化温度为1200~1400℃,保温4~20h。2.根据权利要求1所述的一种无添加剂低压制备高纯氮化硅的方法,其特征在于:所述的第(1)步骤中,粗硅粉粒度为50~100目,纯度为99.99%。3.根据权利要求1所述的一种无添加剂低压制备高纯氮化硅的...
【专利技术属性】
技术研发人员:高勇,刘久明,付亚杰,
申请(专利权)人:河北高富氮化硅材料有限公司,
类型:发明
国别省市:河北;13
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