发光均匀度校正设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正。通过感测模块于对应发光模块所分布的各个取样位置感测产生光强度信号，处理模块根据这些光强度信号来分析该发光模块的发光均匀度，并于该发光模块的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正信号，而调整模块根据校正信号对应地调整该发光模块所具有的发光单元中的至少一者的发光强度。由此，通过自动化设备来对该发光模块进行发光均匀度校正，可迅速方便地针对发光强度有异常的区域各别进行调整来确保发光均匀度，进而提升电路板的制造良率。

Luminous uniformity correction device

The utility model discloses a luminous uniformity correction device, which is suitable for the illumination uniformity correction of the light emitting module of an exposure machine. Each sampling position corresponding to the light emitting module distribution by sensing module sensing light intensity signal processing module according to the light intensity signal to analyze the light emitting module lighting uniformity, and a correction signal to the light emitting module does not conform to a uniform luminance uniformity of standard produced when the corresponding adjustment module according to the luminescence intensity of at least one light emitting unit to adjust the correction signal corresponding to the light emitting module is in the. Thus, the automation equipment of the light emitting module for luminance uniformity correction, can quickly and conveniently according to the luminescence intensity of abnormal regions respectively adjusted to ensure emission uniformity, and thus enhance the manufacturing yield of circuit board.

【技术实现步骤摘要】

本技术关于一种校正设备，更特别的是关于用于对曝光机的发光均匀度进行校正的发光均匀度校正设备。
技术介绍
目前产业界制造电路板时普遍需利用到曝光机，而具有由多个光源组成的发光模块的多光源曝光机也越来越受到重视，一般来说，该发光模块的光源由多个发光二极管所组成，但这些发光二极管由于其自身特性的不同(例如制程差异、使用时数不同等)而会造成各该发光二极管的发光强度不同，使该发光模块发光不均匀，其会直接使得感光电路板吸收的光能不均，进而造成当下曝光的感光电路板报废，因此确保多光源曝光机的发光模块的发光均匀度被视为一个重要的议题。然而，目前现有的多光源曝光机，并未具有一个自动化设备来自动检测以确保曝光机的发光模块的发光均匀度，而是让作业人员通过一手持式检测设备来对该发光模块上的各个光源进行手动测量，使用上并不方便；更或者是直接利用该曝光机对一个质地均匀的感光电路板进行曝光作业后，分析该电路板各个位置的曝光程度来验证发光模块的发光均匀度，此种检测方式非常耗时且成本过高。因此，如何研发出一种发光均匀度校正设备，以确保曝光机的发光模块的发光均匀度进而提升电路板的制造良率，将是本技术所欲积极公开之处。
技术实现思路
本技术的一目的在于提供一种能自动更正曝光机的发光模块的发 光均匀度的校正设备。为达上述目的及其他目的，本技术提出一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块具有多个发光单元以产生一面光源，该发光均匀度校正设备包含一感测模块、一移动模块、一处理模块及一调整模块。该感测模块与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度信号；该移动模块根据一取样位置信息信号，使该感测模块与该发光模块之间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；该处理模块与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息信号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度信号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正信号；及该调整模块与该处理模块及该发光模块相耦接，根据该校正信号对应地调整这些发光单元中的至少一者的发光强度。于本技术的一实施例中，该调整模块根据该校正信号分别调整对这些发光单元中的至少一者的供电量，以分别改变被调整的各该发光单元的发光强度。于本技术的一实施例中，该处理模块取得该面光源上具有异常光强度的区块的一异常坐标位置信息及一异常光强度信息，并将该异常坐标位置信息及该异常光强度信息搭载于该校正信号来输出。于本技术的一实施例中，该调整模块根据该异常坐标位置信息来定位出发光异常的发光单元，并根据该异常光强度信息来调整被定位的发光单元的发光强度。于本技术的一实施例中，该感测模块为光电转换器。于本技术的一实施例中，该光电转换器具有光电二极管。由此，本技术的发光均匀度校正设备，以自动化设备来对该曝光机的发光模块进行发光均匀度校正，可迅速地且方便地针对于该发光模块的发光强度有异常的区域个别进行调整，以确保该发光模块的发光均匀度，进而提升电路板的制造良率。附图说明图1a及图1b为设置有本技术的发光均匀度校正设备的曝光机于不同视角的立体图。图2为本技术发光均匀度校正设备的一实施例的功能方块图。图3a及图3b为本技术的感测模块分别以高分辨率及低分辨率对该发光模块进行感测的示意图。图4为本技术的发光均匀度校正方法的流程图。附图标记为：1 曝光机10 发光均匀度校正设备110 感测模块120 移动模块120a X轴向移动单元120b Y轴向移动单元130 处理模块140 调整模块20 发光模块210 发光单元210a 发光单元210b 发光单元具体实施方式为充分了解本技术的目的、特征及效果，现通过下述具体的实施例，并配合附图，对本技术做一详细说明，说明如后：请参阅图1a及图1b，为设置有本技术的发光均匀度校正设备的曝 光机于不同视角的立体图。该曝光机1的一侧设置有该发光均匀度校正设备10，该发光均匀度校正设备10通过一感测模块110，来针对该曝光机1的发光模块20所具有的多个发光单元210进行检测，并供发光单元210的光强度调整作业的进行，以确保各该发光单元210所产生的光强度一致，进而使该曝光机1能对一待曝光物(图未示)进行均匀的曝光作业。其中，每一个发光单元210可由单一个发光二极管或是多个发光二极管所组成。请一并参阅图2，为本技术发光均匀度校正设备10的一实施例的功能方块图。该发光均匀度校正设备10具有该感测模块110、一移动模块120、一处理模块130及一调整模块140。该感测模块110用于在不同的取样位置上对该发光模块20的发光面(即这些发光单元210的投光面)进行光强度感测，于本实施例中，该感测模块110为光电转换器，其中该光电转换器可具有一光电二极管，当各该发光单元210所产生的光到达光电二极管的光敏感区域后，该感测模块110即会根据所接收到的光的强度而产生对应的一光强度信号，本技术所属
的技术人员能了解的是，该光强度信号可为根据光强度而对应产生的一电流信号或者一电压信号。该移动模块120根据一取样位置信息信号，以使该感测模块110与该发光模块20之间产生相对位移，于本实施例中，该移动模块120包括一X轴向移动单元120a及一Y轴向移动单元120b，该感测模块110设置于该X轴向移动单元120a上而该发光模块20设置于该Y轴向移动单元120b上，使该感测模块110能于X轴的延伸方向移动而该发光模块20能于Y轴的延伸方向移动，通过该X轴向移动单元120a及该Y轴向移动单元120b的协动作业，该移动模块120能使该感测模块110能于各该取样位置间移动，并使该感测模块110于各该取样位置上分别地对该发光模块20进行感测。该处理模块130与该感测模块110及该移动模块120相耦接，当一使用者(图未示)通过一设定装置(图未示)输入多个取样位置坐标至该处理模块130后，该处理模块130产生对应的取样位置信息信号并输出至该移动模块120，值得注意的是，这些取样位置坐标的数量及密集程度可根据用户需求或是感光电路板所需的曝光精度需求而有所调整，若使用低分辨率(即这些 取样位置坐标的数量少或密集程度松散)，可减少校正作业时间；若使用高分辨率(即这些取样位置坐标的数量多或密集程度紧密)，则可提高发光均匀度的校正精度。再者，当该处理模块130接收到该感测模块110于各该取样位置所感测产生的光强度信号后，该处理模块130根据这些光强度信号来分析该发光模块20的发光面的发光均匀度，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正信号，例如，该处理模块130可将于不同取样位置所取得的光强度信号进行比较，以分析出该发光模块20的发光面的哪个区块有异常光强度的情况发生，并将该区块的所在位置及光强度的异常程度转换成一异常坐标位置信息及一异常光强度信息，并将该异常坐标位置信息及该异常光强度信息搭载于该校正信号来输出。值得注意的是，上述的均匀度标本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块具有多个发光单元以产生一面光源，其特征在于，该发光均匀度校正设备包含：一感测模块，与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度信号；一移动模块，根据一取样位置信息信号，使该感测模块与该发光模块的间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；一处理模块，与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息信号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度信号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正信号；及一调整模块，与该处理模块及该发光模块相耦接，根据该校正信号对应地调整这些发光单元中的至少一者的发光强度。

【技术特征摘要】
1.一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块具有多个发光单元以产生一面光源，其特征在于，该发光均匀度校正设备包含：一感测模块，与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度信号；一移动模块，根据一取样位置信息信号，使该感测模块与该发光模块的间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；一处理模块，与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息信号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度信号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正信号；及一调整模块，与该处理模块及该发光模块相耦接，根据该校正信号对应地调整这些发光单元中的至少一者的发光强度。2.如权利要求1所述的发光均匀度校正设备，其特征在于，该调整模块根据该处理模块所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鸿明，
申请(专利权)人：川宝科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71