发光均匀度校正设备及其校正方法技术

本发明专利技术公开一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正。透过感测模块于对应发光模块所分布的各个取样位置感测产生光强度讯号，处理模块根据这些光强度讯号来分析该发光模块的发光均匀度，并于该发光模块的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正讯号，而调整模块系根据校正讯号对应地调整该发光模块所具有的发光单元中的至少一者的发光强度。由此，透过自动化设备来对该发光模块进行发光均匀度校正，可迅速方便地针对发光强度有异常的区域各别进行调整来确保发光均匀度，进而提升电路板的制造良率。

Luminance uniformity correction device and its correction method

The invention discloses a device for correcting the uniformity of luminescence, which is suitable for correcting the luminous uniformity of the light emitting module of an exposure machine. Each sampling position through the sensing module corresponding to the light emitting module distributed sensing light intensity signal processing module according to the light intensity signal to analyze the light emitting module the light emission uniformity, and a correction signal to the light emitting module does not conform to a uniform luminance uniformity of standard produced when the corresponding adjustment according to the module of at least one light emitting unit of luminous intensity correction signal corresponding to adjust the light emitting module is in the. Thus, through automation equipment to the light emitting module for luminance uniformity correction, can quickly and conveniently according to the luminescence intensity of abnormal regions respectively adjusted to ensure emission uniformity, and thus enhance the manufacturing yield of circuit board.

【技术实现步骤摘要】
发光均匀度校正设备及其校正方法
本专利技术关于一种校正设备及校正方法，更特别的是关于用于对曝光机的发光均匀度进行校正的发光均匀度校正设备及其校正方法。
技术介绍
目前产业界制造电路板时普遍需利用到曝光机，而具有由多个光源组成的发光模块的多光源曝光机也越来越受到重视，一般来说，该发光模块的光源系由多个发光二极管所组成，但这些发光二极管由于其自身特性的不同(例如制程差异、使用时数不同等)而会造成各该发光二极管的发光强度不同，使该发光模块发光不均匀，其会直接使得感光电路板吸收的光能不均，进而造成当下曝光的感光电路板报废，因此确保多光源曝光机的发光模块的发光均匀度被视为一个重要的议题。然而，目前现有的多光源曝光机，并未具有一个自动化设备来自动检测以确保曝光机的发光模块的发光均匀度，而是让作业人员透过一手持式检测设备来对该发光模块上的各个光源进行手动量测，使用上并不方便；更或者是直接利用该曝光机对一个质地均匀的感光电路板进行曝光作业后，分析该电路板各个位置的曝光程度来验证发光模块的发光均匀度，此种检测方式非常耗时且成本过高。因此，如何研发出一种发光均匀度校正设备及其校正方法，以确保曝光机的发光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块具有多个发光单元以产生一面光源，其特征在于，该发光均匀度校正设备包含：一感测模块，与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度讯号；一移动模块，根据一取样位置信息讯号，使该感测模块与该发光模块的间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；一处理模块，与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息讯号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度讯号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校...

【技术特征摘要】
1.一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块具有多个发光单元以产生一面光源，其特征在于，该发光均匀度校正设备包含：一感测模块，与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度讯号；一移动模块，根据一取样位置信息讯号，使该感测模块与该发光模块的间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；一处理模块，与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息讯号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度讯号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正讯号；及一调整模块，与该处理模块及该发光模块相耦接，根据该校正讯号对应地调整这些发光单元中的至少一者的发光强度。2.如权利要求1所述的发光均匀度校正设备，其中该调整模块系根据该校正讯号分别调整对这些发光单元中的至少一者的供电量，以分别改变被调整的各该发光单元的发光强度。3.如权利要求1所述的发光均匀度校正设备，其特征在于，该处理模块取得该面光源上具有异常光强度的区块的一异常坐标位置信息及一异常光强度信息，并将该异常坐标位置信息及该异常光强度信息搭载于该校正讯号来输出。4.如权利要求3所述的发光均匀度校正设备，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鸿明，
申请(专利权)人：川宝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71