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发光均匀度校正设备制造技术
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文档序号:14203535
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本实用新型公开一种发光均匀度校正设备,适用于对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正。通过感测模块于对应发光模块所分布的各个取样位置感测产生光强度信号,处理模块根据这些光强度信号来分析该发光模块的发光均匀度,并于该发光模块的发光均匀度不符合一均...
该专利属于川宝科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过川宝科技股份有限公司授权不得商用。
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