一种避免磁铁接触冷却水的平面靶制造技术

本实用新型专利技术涉及一种避免磁铁接触冷却水的平面靶，包括有靶座，靶座内部的磁铁组及磁靴；特点是：在所述靶座内部的磁铁组的外表面设置一层保护磁铁组的磁铁的隔水层。本实用新型专利技术对磁铁组外表面采用涂覆有机高分子材料（如油漆、防水胶等）或固接金属非导磁性材料（如不导磁不锈钢、铝等）设置一层隔水层，长期使用时磁铁表面的磁性变化很小甚至没有。由此，既保证了冷却效果，又解决了磁铁磁性变化的问题，有利于提高镀膜设备的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种平面靶，尤其涉及一种避免磁铁接触冷却水的平面靶。
技术介绍
目前玻璃镀膜生产的设备中大多采用平面溅射阴极靶材这种方式，其工作原理是：将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定高纯的氩气以及一些需要的反应气体（例如氧气、氮气、乙炔等）；当靶通电后，在空间中的游离电子会在电磁场的作用下对氩气等气体进行电离，并产生辉光放电。而氩气是由氩原子组成；氩原子电离后产生氩离子，在电磁场的作用下变成高能氩离子会向阴极靶面飞去，且与靶面原子或分子进行碰撞，溅射出靶材原子或分子等粒子，并飞向玻璃表面形成膜层；在这个过程中通入反应气体，反应气体粒子会与靶材粒子进行反应，并最终在玻璃表面形成所需要的反应物。为了增加溅射率，可通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度来实现，从而实现高速率溅射的过程。而由于大量高能氩离子碰撞靶材表面产生溅射的同时会给靶材带来大量热量，从而使靶材产生变形。为了防止靶材变形，一般在靶材背面的靶座内进行通入冷却水进行冷却。为了方便安装，基本都采用磁铁放置于靶座内，且冷却水与磁铁直接接触。由于冷却水会对磁铁腐蚀，所以对冷却水的水质要本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种避免磁铁接触冷却水的平面靶，包括有靶座以及靶座内部的磁铁组与磁靴；其特征在于：在所述靶座内部的磁铁组的外表面设置一层保护磁铁的隔水层。

【技术特征摘要】
1.一种避免磁铁接触冷却水的平面靶，包括有靶座以及靶座内部的磁铁组与磁靴；其特征在于：在所述靶座内部的磁铁组的外表面设置一层保护磁铁的隔水层。2.根据权利要求1所述的避免磁铁接触冷却水的平面靶，其特征在于：所述隔水层通过涂覆或者固接的方式形成于所述磁铁组的外表面上。3.根据权利要求2所述的避免磁铁接触冷却水的平面靶，其特征在于：所述隔水层采用涂覆方式形成于所述磁铁组的外...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋光耀，战捷，
申请(专利权)人：深圳市三海科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44