一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板制造技术

本实用新型专利技术公开一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，所述掩模板包括ITO面和蒸镀面，所述蒸镀面上设有的纳米层，所述蒸镀面上设有弧形槽，所述ITO面上设有蒸镀孔，所述蒸镀孔与所述弧形槽相连通，所述蒸镀孔在ITO面开口的尺寸小于所述弧形槽相在蒸镀面的开口的尺寸，蒸镀孔开设在弧形槽内，非常方便蒸镀孔的加工，弧形槽具有一定的高度，使得蒸镀孔的高度可以进一步的降低，从而保证了更好的蒸镀效果，提高了有机材料的成膜率，提高了蒸镀薄膜的均匀度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及有机发光二极管显示领域，更具体的说，涉及一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板。
技术介绍
由于有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)同时具备自发光、不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。OLED生产过程中最重要的一环节是将有机层按照驱动矩阵的要求敷涂到基板上，形成关键的发光显示单元。OLED是一种固体材料，高精度涂覆技术的发展是制约OLED产品化的关键。目前完成这一工作，主要采用真空沉积或真空热蒸发(VTE)的方法，其是将位于真空腔体内的有机物分子轻微加热(蒸发)，使得这些分子以薄膜的形式凝聚在温度较低的基板上。在这一过程中需要与OLED发光显示单元精度相适应的高精密掩模板作为媒介。现有技术中蒸镀用掩模板的由于受到材料的限制，如图2所示，其厚度h(一般h大于60μm)左右，而蒸镀的有机材料膜厚只在100nm左右，掩模板上的蒸镀孔的尺寸d1最小可以是10μm左右，这样较大的高宽比(h/d1)的开口使得蒸镀孔的侧壁势必会在蒸镀过程中产生遮挡，影响蒸镀层的均匀性，降低蒸镀质量，增加了制造成本。而且若制作大尺寸掩模板，金属制造的掩模板会具有较大的质量，从而会导致掩模板的板面产生下垂(即板面中间会出现下凹现象)，这对精度要求较高的掩模蒸镀过程是不利的。鉴于此，业内亟需一种能够解决此问题的方案。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种提高蒸镀质量的用于蒸镀OLED显示面板的掩模板。本技术的目的是通过以下技术方案来实现的：一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，所述掩模板包括ITO面和蒸镀面，所述蒸镀面上设有的纳米层，所述蒸镀面上设有弧形槽，所述ITO面上设有蒸镀孔，所述蒸镀孔与所述弧形槽相连通，所述蒸镀孔在ITO面的开口的尺寸小于所述弧形槽在蒸镀面的开口的尺寸。进一步的，所述掩模板包括蒸镀区和定位区，所述蒸镀孔和所述弧形槽设在所述蒸镀区内，所述定位区内设有定位孔。这样，掩模板上的蒸镀区和定位区的区分，能够有效的限定在掩模板上的用来蒸镀的区域，使得蒸镀操作非常的方便简单，蒸镀孔和弧形槽设在蒸镀区内,很好的提高蒸镀的效率，使得蒸镀的时间有效的减少，从而非常好的提高了OLED显示面板的产量,而且可以很好的减小蒸镀面积，不需要在整个掩模板上进行蒸镀操作，非常有效的节约蒸镀用的有机物分子材料，大大降低了OLED显示面板的制造成本；通过定位区内设置的定位孔可以非常方便的将掩模板固定，将掩模板的ITO面与ITO玻璃基板紧密贴紧，使得有机材料非常好的通过蒸镀孔蒸镀到ITO玻璃基板上，同时定位孔非常稳固的对掩模板进行限位，有效的防止掩模板的位移，使得蒸镀质量进一步的提高。进一步的，所述蒸镀孔和所述弧形槽的内壁设有所述纳米层。这样，纳米层设在蒸镀孔和弧形槽的内壁，使得蒸镀孔和弧形槽的内壁更加的光滑，从而有利于蒸镀用的有机物分子干燥后脱模；而且纳米层能够非常有效的提高蒸镀孔和弧形槽的内壁的硬度，使得蒸镀孔的内壁与ITO面的夹角位置更加的坚固，非常的不容易变形，从而蒸镀用的有机物分子能够更好的定型，大大提高了掩模板的蒸镀质量；同时纳米层也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在蒸镀孔和弧形槽的内壁的残留，从而大大减少蒸镀孔和弧形槽的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。进一步的，所述ITO面设有所述纳米层。这样，纳米层设在ITO面，使得ITO面更加的光滑，从而使得ITO面可以更好的与ITO玻璃基板进行紧密的贴合，进一步的提高了掩模板的蒸镀质量；而且ITO面设置纳米层能够进一步提高掩模板的硬度，同时使得整个掩模板的强度和韧性得到了很大的提升，从而让掩模板更加的耐磨，更加的不容易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；同时非常有效的改善掩模板的板面产生下垂，大大提高了掩模板的蒸镀质量。进一步的，所述掩模板采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制成。这样，采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制作掩模板，可以很好的保证掩模板的强度和硬度，使得掩模板可以更好的被应用到蒸镀操作中；而且采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制成的掩模板具有一定的磁性，在后期应用过程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附设备吸附，可进一步减小掩模板的下垂量；同时不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料的价格便宜，便于大批量生产、节约生产成本及提高生产效率。进一步的，所述弧形槽在所述蒸镀区均匀设置多个，所述蒸镀孔沿所述弧形槽均匀设置多个，所述蒸镀孔之间设有连接部。这样，均匀设置多个弧形槽在蒸镀区上，同时在弧形槽内均匀设置多个蒸镀孔，能够非常有效的提高蒸镀的效率，使得OLED显示面板的产量可以进一步的提高，均匀设置的蒸镀孔使得蒸镀的效果更好，从而使得OLED显示面板的使用寿命更长；连接部能够更好的对蒸镀孔之间进行连接和加固，有效的提高掩模板在蒸镀区的强度和韧性，使得蒸镀孔可以更加高效的进行蒸镀工作，从而提高蒸镀质量，使得OLED显示面板可以更加高效的工作。进一步的，所述蒸镀孔的形状为圆台形或棱台形。这样，蒸镀孔的内壁与ITO面的夹角为锐角，这样能够非常有效的减小蒸镀口的内壁在蒸镀过程中的遮挡，从而可以非常好的满足高质量的蒸镀过程，大大的提高了蒸镀的质量；圆台形或棱台形设置的蒸镀孔，非常方便加工制造，使得掩模板的制造非常的简单，从而很好的降低掩模板的生产成本。进一步的，所述纳米层为碳化钛膜。这样，纳米层使用碳化钛膜非常有效的对掩模板的硬度进行提高，同时掩模板强度和韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且碳化钛膜也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板上的残留，从而大大减少掩模板的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。进一步的，所述纳米层为氮化钛膜。这样，纳米层使用氮化钛膜非常有效的对掩模板的硬度进行提高，同时掩模板强度和韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且氮化钛膜也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板上的残留，从而大大减少掩模板的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。进一步的，所述纳米层为氮化铬膜。这样，纳米层使用氮化铬非常有效的对掩模板的硬度进行提高，同时掩模板强度和韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且氮化铬也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板上的残留，从而大大减少掩模板的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。本技术由于蒸镀孔开设在弧形槽内，非常方便蒸镀孔的加工，弧形槽具有一定的高度，使得蒸镀孔的高度可以进一步的降低，从而保证了更好的蒸镀效果，提高了有机材料的成膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括ITO面和蒸镀面，所述蒸镀面上设有的纳米层，所述蒸镀面上设有弧形槽，所述ITO面上设有蒸镀孔，所述蒸镀孔与所述弧形槽相连通，所述蒸镀孔在ITO面的开口的尺寸小于所述弧形槽在蒸镀面的开口的尺寸。

【技术特征摘要】
1.一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括ITO面和蒸镀面，所述蒸镀面上设有的纳米层，所述蒸镀面上设有弧形槽，所述ITO面上设有蒸镀孔，所述蒸镀孔与所述弧形槽相连通，所述蒸镀孔在ITO面的开口的尺寸小于所述弧形槽在蒸镀面的开口的尺寸。2.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括蒸镀区和定位区，所述蒸镀孔和所述弧形槽设在所述蒸镀区内，所述定位区内设有定位孔。3.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述蒸镀孔和所述弧形槽的内壁设有所述纳米层。4.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述ITO面设有所述纳米层。5.根据权利要求2所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈孟财，
申请(专利权)人：光宏光电技术深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44