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一种单晶硅芯片压力传感装置制造方法及图纸

技术编号:14039058 阅读:73 留言:0更新日期:2016-11-21 04:09
本实用新型专利技术公开了一种单晶硅芯片压力传感装置,其结构包括外管、导管、保护线路器、壳体、保护膜、传感板、单晶硅芯片、磁铁、衬底、单晶硅层、单晶硅薄膜、真空腔,所述壳体连接所述导管,所述导管两端连接着所述外管,所述壳体内部连接着所述保护线路器,所述导管连接着所述传感板,所述传感板连接着所述保护膜,所述传感板连接着所述单晶硅芯片,所述单晶硅芯片设有衬底,所述衬底之上设置有所述单晶硅层,所述单晶硅层设有所述单晶硅薄膜,所述单晶硅薄膜与所述衬底之间形成所述真空腔,所述真空腔在任意位置的竖直方向上的截面均为梯形结构。本实用新型专利技术产品单晶硅芯片抗压性能高,不易损坏,传感信号不容易受到干扰。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电子感应设备领域,尤其涉及一种单晶硅芯片压力传感装置
技术介绍
传感器是一种检测装置,能感受到被测量的信息,并能将感受到的信息,按一定规律变换成为电信号或其他所需形式的信息输出,以满足信息的传输、处理、存储、显示、记录和控制等要求。现有技术公开了申请号为201520856831.9 的一种检测装置,包括传感测头和传感器主体,所述传感测头与传感器主体连接,所述传感器主体设有上盖、扣合与上盖中的下盖和上、下盖周围的侧板,在传感器主体的内部还设有信息发送器;所述信息发送器包括电源、微处理器;在所述传感器主体的内部还设有报警器;但是抗压性能低,易损坏,传感信号容易受到干扰。
技术实现思路
对上述问题,本技术提供了一种单晶硅芯片压力传感装置,解决了抗压性能低,易损坏,传感信号容易受到干扰的问题。为解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:一种单晶硅芯片压力传感装置,其结构包括外管、导管、保护线路器、壳体、保护膜、传感板、单晶硅芯片、磁铁、衬底、单晶硅层、单晶硅薄膜、真空腔,所述壳体连接所述导管,所述导管两端连接着所述外管,所述壳体内部连接着所述保护线路器,所述导管连接着所述磁铁,所述导管连接着所述传感板,所述传感板连接着所述保护膜,所述传感板连接着所述单晶硅芯片,所述单晶硅芯片设有衬底,所述衬底之上设置有所述单晶硅层,所述单晶硅层设有所述单晶硅薄膜,所述单晶硅薄膜与所述衬底之间形成所述真空腔,所述真空腔在任意位置的竖直方向上的截面均为梯形结构。进一步的,所述壳体为无焊接不锈钢。进一步的,所述导管贯穿连接所述壳体。进一步的,所述导管连接着所述保护线路器。进一步的,所述真空腔的侧端面与上端面之间设置有弧形连接段。由上述对本技术结构的描述可知,和现有技术相比,本技术具有如下优点:本技术产品单晶硅芯片抗压性能高,不易损坏,传感信号不容易受到干扰。附图说明构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解,本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术,并不构成对本技术的不当限定。在附图中:图1为本技术一种单晶硅芯片压力传感装置的内部结构示意图;图2为本技术一种单晶硅芯片压力传感装置的单晶硅芯片示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术,并不用于限定本技术。实施例1参考图1和图2,一种单晶硅芯片压力传感装置,其结构包括外管1、导管2、保护线路器3、壳体4、保护膜5、传感板6、单晶硅芯片7、磁铁8、衬底10、单晶硅层12、单晶硅薄膜9、真空腔11,所述壳体4连接所述导管2,所述导管2两端连接着所述外管1,所述壳体4内部连接着所述保护线路器3,所述导管2连接着所述磁铁8,所述导管2连接着所述传感板6,所述传感板6连接着所述保护膜5,所述传感板6连接着所述单晶硅芯片7,所述单晶硅芯片7设有衬底10,所述衬底10之上设置有所述单晶硅层12,所述单晶硅层12设有所述单晶硅薄膜9,所述单晶硅薄膜9与所述衬底10之间形成所述真空腔11,所述真空腔11在任意位置的竖直方向上的截面均为梯形结构,所述壳体4为无焊接不锈钢,所述导管2贯穿连接所述壳体4,所述导管2连接着所述保护线路器3,所述真空腔11的侧端面与上端面之间设置有弧形连接段。本技术产品单晶硅芯片抗压性能高,不易损坏,传感信号不容易受到干扰。压力传感器是在薄片表面形成半导体变形压力,通过外力(压力)使薄片变形而产生压电阻抗效果,从而使阻抗的变化转换成电信号。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已,并不用以限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单晶硅芯片压力传感装置,其特征在于:其结构包括外管(1)、导管(2)、保护线路器(3)、壳体(4)、保护膜(5)、传感板(6)、单晶硅芯片(7)、磁铁(8)、衬底(10)、单晶硅层(12)、单晶硅薄膜(9)、以及真空腔(11),所述壳体(4)连接所述导管(2),所述导管(2)两端连接着所述外管(1),所述壳体(4)内部连接着所述保护线路器(3),所述导管(2)连接着所述磁铁(8),所述导管(2)连接着所述传感板(6),所述传感板(6)连接着所述保护膜(5),所述传感板(6)连接着所述单晶硅芯片(7),所述单晶硅芯片(7)设有衬底(10),所述衬底(10)之上设置有所述单晶硅层(12),所述单晶硅层(12)设有所述单晶硅薄膜(9),所述单晶硅薄膜(9)与所述衬底(10)之间形成所述真空腔(11)。

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅芯片压力传感装置,其特征在于:其结构包括外管(1)、导管(2)、保护线路器(3)、壳体(4)、保护膜(5)、传感板(6)、单晶硅芯片(7)、磁铁(8)、衬底(10)、单晶硅层(12)、单晶硅薄膜(9)、以及真空腔(11),所述壳体(4)连接所述导管(2),所述导管(2)两端连接着所述外管(1),所述壳体(4)内部连接着所述保护线路器(3),所述导管(2)连接着所述磁铁(8),所述导管(2)连接着所述传感板(6),所述传感板(6)连接着所述保护膜(5),所述传感板(6)连接着所述单晶硅芯片(7),所述单晶硅芯片(7)设有衬底(10),所述衬底(10)之上设置有所述单晶硅层(12),所述单晶硅层(12)设有...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏满妹
申请(专利权)人:魏满妹
类型:新型
国别省市:福建;35

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