一种涂胶设备制造技术

本发明专利技术公开了一种涂胶设备，用以在对涂胶嘴起到保护作用的同时，避免对待涂胶物体的表面产生损伤，提高涂胶效果及效率。该涂胶设备包括涂胶头和设置在所述涂胶头上的涂胶嘴，该涂胶设备还包括：设置在所述涂胶头上的用于检测待涂胶物体表面障碍物的光学检测装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及涂胶
，尤其涉及一种涂胶设备。
技术介绍
目前薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)光刻工艺中光刻胶涂覆的主要方式是狭缝涂布(Slit Coating，SC)。在光刻胶涂覆过程中，对涂胶嘴(Head Nozzle)的保护至关重要。现有的涂胶设备中，在涂胶头的前方设置有一块金属检测板，在对基板表面涂覆光刻胶的过程中，如果基板上的异物撞击到金属检测板，致其发生形变时会触发检测板上方的光学传感器报警，警示暂停涂覆，从而起到保护Head Nozzle的作用。然而，采用现有涂胶设备执行涂胶实过程中，基板表面的障碍物对检测板进行撞击时会产生破裂(Crack)点，易导致基板损伤，特别是基板为玻璃基板时，会只是致使玻璃基板破碎。同时，基板表面的障碍物可能会黏在检测板上，受到障碍物撞击的检测板需要及时进行表面清洁、打磨和水平度调整，这将影响设备的稼动时间。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种涂胶设备，用以在对涂胶嘴起到保护作用的同时，避免对待涂胶物体的表面产生损伤，提高涂胶效果及效率。本专利技术实施例提供的一种涂胶设备，包括涂胶头和设置在所述涂胶头上的涂胶嘴，该涂胶设备还包括：设置在所述涂胶头上的用于检测待涂胶物体表面的障碍物的光学检测装置。本专利技术实施例提供的涂胶设备，通过设置在所述涂胶头上的光学检测装置检测待涂胶物体表面的障碍物，在对涂胶嘴起到保护作用的同时，避免对待涂胶物体表面产生损伤；并且，相对于现有技术采用金属检测板检测待涂胶物体表面的障碍物，本专利技术实施例提供的涂胶设备中的光学检测装置由于不会与障碍物产生碰撞，因此不需要额外的对光学检测装置进行清洁，大大提高了涂胶效果以及涂胶效率。较佳地，所述光学检测装置设置在所述涂胶头的下方；所述光学检测装置包括用于发射光束的发射装置，和用于对所述发射装置发射的光束的强度进行探测的第一探测器，所述发射装置和所述第一探测器在与涂胶方向相垂直的方向上分别位于所述涂胶头的两端，并且所述发射装置和所述第一探测器的连线与所述待涂胶物体表面相平行。较佳地，所述发射装置包括光源发射模块、准直模块、扩束模块和可调节狭缝模块，其中，所述准直模块用于对所述光源发射模块发射的发散光束进行准直使其形成准直光束，所述扩束模块用于对所述准直光束进行扩束，所述可调节狭缝模块用于对所述扩束后的准直光束的高度和宽度进行调节，使其形成准直的平面光束后发送给所述第一探测器。通过准直模块、扩束模块和可调节狭缝模块依次对光源发射模块发射的光束进行处理，使得最终发射出的光束为一准直的平面光束而并非是圆形的光束，有利于对障碍物的检测，并且由于可调节狭缝模块可对光束的高度进行调节，因此可以实现对不同高度的障碍物的测量，提高了测量障碍物的灵敏度。较佳地，所述发射装置还包括分光镜、全反射镜和第二探测器；其中，所述分光镜用于接收所述可调节狭缝模块发出的光束，并将该光束分为两路，并且其中第一路光束通过分光镜透射后发送给所述第一探测器，由所述第一探测器接收，第二路光束通过分光镜反射后发送给所述全反射镜，由所述全反射镜接收；所述全反射镜用于接收所述第二路光束，并将所述第二路光束反射给所述第二探测器；所述第二探测器用于接收所述第二路光束，并对该第二路光束的强度进行探测。较佳地，所述涂胶设备还包括处理单元，所述处理单元用于：确定所述第一探测器探测的光束的强度与所述第二探测器探测的光的强度的第一比值，并与第一预设值进行比较；当所述第一比值不等于所述第一预设值时，确定所述待涂胶物体表面存在障碍物，否则，确定所述待涂胶物体表面不存在障碍物。由于同时结合两个探测器分别探测的不同光束的强度来判断待涂胶物体表面是否存在障碍物，因此可以消除光能量波动等外界因素对探测精度的影响，进而提高了对待涂胶物体表面障碍物探测的精确度。较佳地，所述处理单元当确定所述第一比值不等于所述第一预设值时，确定所述待涂胶物体表面存在障碍物，包括以下两种情况：当确定所述第一比值小于所述第一预设值且不为0时，确定相对于所述待涂胶物体表面，障碍物的高度低于所述可调节狭缝模块发送给所述第一探测器的光束的高度；当确定所述第一比值等于0时，确定相对于所述待涂胶物体表面，障碍物的高度高于所述可调节狭缝模块发送给所述第一探测器的光束的高度。从而，本专利技术实施例提供的涂胶设备，不仅可以准确探测待涂胶物体表面是否存在障碍物，还可以在确定待涂胶物体表面存在障碍物时，进一步对障碍物的高度进行探测。较佳地，所述涂胶设备还包括处理单元，所述处理单元用于：确定所述第一探测器探测的光束的强度与所述第二探测器探测的光的强度的第二比值，并与第二预设值进行比较；当所述第二比值不等于所述第二预设值时，确定所述待涂胶物体表面存在障碍物，否则，确定所述待涂胶物体表面不存在障碍物。较佳地，所述处理单元当确定所述第二比值不等于所述第二预设值时，确定所述待涂胶物体表面存在障碍物，包括以下两种情况：当确定所述第二比值大于所述第二预设值且不为无穷大时，确定相对于所述待涂胶物体表面，障碍物的高度低于所述可调节狭缝模块发送给所述第一探测器的光束的高度；当确定所述第二比值为无穷大时，确定相对于所述待涂胶物体表面，障碍物的高度高于所述可调节狭缝模块发送给所述第一探测器的光束的高度。从而，本专利技术实施例提供的涂胶设备，不仅可以准确探测待涂胶物体表面是否存在障碍物，还可以在确定待涂胶物体表面存在障碍物时，进一步对障碍物的高度进行探测。较佳地，所述涂胶设备还包括控制单元；所述处理单元确定待涂胶物体表面存在障碍物时，还用于反馈待涂胶物体表面存在障碍物的指示给所述控制单元；所述控制单元用于当接收到所述处理单元反馈的指示后，控制所述涂胶设备停止移动以及控制所述涂胶头停止涂胶。从而，在确定待涂胶物体表面存在障碍物时，通过控制单元控制涂胶设备停止移动以及控制涂胶头停止涂胶，起到对涂胶嘴进行保护的目的。较佳地，所述控制单元当接收到所述处理单元反馈的指示后还用于发出报警信号，指示工作人员对待涂胶物体表面上的障碍物进行清理；或者，所述涂胶设备还包括清理装置；所述控制单元当接收到所述处理单元反馈的指示后，还用于控制所述清理装置对待涂胶物体表面上的障碍物进行清理。从而，当涂胶设备包括清理装置时，通过控制单元控制清理装置对待涂胶物体表面上的障碍物进行清理，可进一步节省涂胶时间，提高涂胶效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种涂胶设备在具体应用场景中的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种发射装置的组成结构及其工作原理示意图；图3为本专利技术实施例提供的另一种发射装置的组成结构及其工作原理示意图；附图标记：11-涂胶头， 12-涂胶嘴， 130-发射装置，131-第一探测器， 14-涂胶台， 15-玻璃基板，1300-光源发射模块， 1301-准直模块， 1302-扩束模块，1303-可调节狭本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂胶设备，包括涂胶头和设置在所述涂胶头上的涂胶嘴，其特征在于，还包括：设置在所述涂胶头上的用于检测待涂胶物体表面障碍物的光学检测装置。

【技术特征摘要】
1.一种涂胶设备，包括涂胶头和设置在所述涂胶头上的涂胶嘴，其特征在于，还包括：设置在所述涂胶头上的用于检测待涂胶物体表面障碍物的光学检测装置。2.根据权利要求1所述的涂胶设备，其特征在于，所述光学检测装置设置在所述涂胶头的下方；所述光学检测装置包括用于发射光束的发射装置，和用于对所述发射装置发射的光束的强度进行探测的第一探测器，所述发射装置和所述第一探测器在与涂胶方向相垂直的方向上分别位于所述涂胶头的两端，并且所述发射装置和所述第一探测器的连线与所述待涂胶物体表面相平行。3.根据权利要求2所述的涂胶设备，其特征在于，所述发射装置包括光源发射模块、准直模块、扩束模块和可调节狭缝模块，其中，所述准直模块用于对所述光源发射模块发射的发散光束进行准直使其形成准直光束，所述扩束模块用于对所述准直光束进行扩束，所述可调节狭缝模块用于对所述扩束后的准直光束的高度和宽度进行调节，使其形成准直的平面光束后发送给所述第一探测器。4.根据权利要求3所述的涂胶设备，其特征在于，所述发射装置还包括分光镜、全反射镜和第二探测器；其中，所述分光镜用于接收所述可调节狭缝模块发出的光束，并将该光束分为两路，并且其中第一路光束通过所述分光镜透射后发送给所述第一探测器，由所述第一探测器接收，第二路光束通过所述分光镜反射后发送给所述全反射镜，由所述全反射镜接收；所述全反射镜用于接收所述第二路光束，并将所述第二路光束反射给所述第二探测器；所述第二探测器用于接收所述第二路光束，并对该第二路光束的强度进行探测。5.根据权利要求4所述的涂胶设备，其特征在于，所述涂胶设备还包括处理单元，所述处理单元用于：确定所述第一探测器探测的光束的强度与所述第二探测器探测的光的强度的第一比值，并与第一预设值进行比较；当所述第一比值不等于所述第一预设值时，确定所述待涂胶物体表面存在障碍物，否则，确定所述待涂胶物体表面不存在障碍物。6.根据权利要求5所述的涂胶设备，其特征在于，所述处理单元当确定所述第一比值...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱娟娟，徐海涛，彭亮亮，刘超，章全胜，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11