一种真空管道的连接结构制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体配件领域，尤其涉及一种真空管道的连接结构。应用于连接第一真空管道和第二真空管道，包括：第一接口，与第一真空管道连接；第二接口，与第二真空管道连接；凹槽，设置于第二接口的密封面上；密封圈，设置于凹槽中以密封第一接口和第二接口；以及第一螺纹套管，套设于第一接口外侧；第二螺纹套管，套设于第二接口外侧；其中，第一螺纹套管套设于第二螺纹套管外侧以卡紧第一接口和第二接口。在第一接口和第二接口上套设与两个接口形状相切合的第一螺纹套管和第二螺纹套管，一方面能够增加管路安装的行程，另一方面能够提高管道的卡紧力度，有效屏蔽蚀腐蚀性的气体粉尘进入两个接口的细缝内。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体配件领域，尤其涉及一种真空管道的连接结构。
技术介绍
目前半导体行业中，连接两个真空管道的连接结构主要是采用如图1所示的结构，在上真空管道和下真空管道之间通过中心环1进行连接，中心环1内部垫有O型密封圈2，中心环1的外径为一凸起，在中心环的外径上套设一内部凹陷的夹圈3，使夹圈3凹陷部分与凸起的形状相卡接，从而固定住上下两个真空管道。但是使用的真空管道连接结构中的中心环采用的是不锈钢材质，O型密封圈采用的是一般耐腐蚀的材质。由于半导体真空管道所处的工作环境，不可避免的会有从上向下的特种气体粉尘(如图2箭头所指示的方向)从中心环的细缝流入真空管道内，特别是在蚀刻制程中，这些气体粉尘具有一定的腐蚀性；由于中心环无法完全封住密封圈，所以密封圈会被腐蚀。而且这种安装方法不容易定位，容易导致密封圈位移，导致密封不严。
技术实现思路
针对目前真空管道的连接结构内的密封圈容易被腐蚀，密封圈容易位移的问题，本技术提供一种真空管道的连接结构。本技术解决技术问题所采用的技术方案为：一种真空管道的连接结构，应用于连接第一真空管道和第二真空
管道，且所述第一真空管道位于所述第二真空管道之上，所述连接结构包括：第一接口，与所述第一真空管道连接；第二接口，与所述第二真空管道连接；凹槽，设置于所述第二接口的密封面上；密封圈，设置于所述凹槽中以密封所述第一接口和所述第二接口；以及第一螺纹套管，套设于所述第一接口外侧；第二螺纹套管，套设于所述第二接口外侧；其中，所述第一螺纹套管套设于所述第二螺纹套管外侧以卡紧所述第一接口和所述第二接口。优选地，所述第一螺纹套管和第二螺纹套管之间设有一弹簧。优选地，所述第一接口和第二接口均具有一凸起，以屏蔽粉尘的堆积。优选地，所述凸起为斜面凸起。优选地，所述密封圈为O型密封圈。优选地，所述密封圈为橡胶材质。优选地，所述第一螺纹套管和第二螺纹套管均为不锈钢材质。本技术的有益效果：在第一接口和第二接口上套设与两个接口形状相切合的第一螺纹套管和第二螺纹套管，一方面能够增加管路安装的行程，另一方面能够提高第一真空管道和第二真空管道的卡紧力度，能够有效屏蔽蚀刻制程中的具有腐蚀性的气体粉尘进入两个接
口的细缝内。在第二接口内侧开槽固定一密封圈，从而避免密封圈被腐蚀，提高密封圈的使用寿命，预防由于密封圈被破坏导致的毒气泄漏。而且在两个螺纹套管之间设置弹簧能够预防两个套管滑出，提高了安装的精准度。附图说明图1为现有技术中的一种真空管道的连接结构的结构示意图；图2为粉尘流入如图1所示的真空管道的连接结构的示意图；图3为本技术的真空管道的连接结构的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，但不作为本技术的限定。如图3所示的一种真空管道的连接结构，应用于连接第一真空管道51和第二真空管道52中，且第一真空管道51位于第二真空管道52之上。连接结构包括连接第一真空管道51的第一接口11，连接第二真空管道52的第二接口12，两个接口(11，12)的外径部分都为一凸起，具体的，为斜面凸起。具有斜面凸起的接口(11，12)，一方面能够有效屏蔽蚀刻制程中的具有腐蚀性的气体粉尘进入两个接口(11，12)的细缝内，另一方面，能够用于对第一接口11和第二接口12的定位。此外，在第二接口12的内侧设有一凹槽，在该凹槽内垫一密封圈2，具体地为橡胶材质的O型密封圈2；该密封圈2进一步避免了腐蚀性气体进入接口内，从而导致密封圈2腐蚀，预防由于密封圈2被破坏导致的毒气泄漏。在第一接口11外侧套设与其凸
起形状相切合的第一螺纹套管31，在第二接口12的外侧套设与其凸起形状相切合的第二螺纹套管32。第二螺纹套管32部分套设于第一螺纹套管31内；并且在第一螺纹套管31和第二螺纹套管32之间设有一弹簧4，有效预防两个套管(31,32)滑出，提高了安装的精准度。本实施例所采用的第一螺纹套管31和第二螺纹套管32均为不锈钢材质。所套设的第一螺纹套管31和第二螺纹套管32一方面增加了管路安装的行程，另一方面提高了第一真空管道51和第二真空管道52的卡紧力度。以上所述仅为本技术较佳的实施例，并非因此限制本技术的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本技术说明书及图示内容所做出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空管道的连接结构，其特征在于，应用于连接第一真空管道和第二真空管道，且所述第一真空管道位于所述第二真空管道之上，所述连接结构包括：第一接口，与所述第一真空管道连接；第二接口，与所述第二真空管道连接；凹槽，设置于所述第二接口的密封面上；密封圈，设置于所述凹槽中以密封所述第一接口和所述第二接口；以及第一螺纹套管，套设于所述第一接口外侧；第二螺纹套管，套设于所述第二接口外侧；其中，所述第一螺纹套管套设于所述第二螺纹套管外侧以卡紧所述第一接口和所述第二接口。

【技术特征摘要】
1.一种真空管道的连接结构，其特征在于，应用于连接第一真空管道和第二真空管道，且所述第一真空管道位于所述第二真空管道之上，所述连接结构包括：第一接口，与所述第一真空管道连接；第二接口，与所述第二真空管道连接；凹槽，设置于所述第二接口的密封面上；密封圈，设置于所述凹槽中以密封所述第一接口和所述第二接口；以及第一螺纹套管，套设于所述第一接口外侧；第二螺纹套管，套设于所述第二接口外侧；其中，所述第一螺纹套管套设于所述第二螺纹套管外侧以卡紧所述第一接口和所述第二接口。2.根据权利要求1所述的真空管道的连接结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆飞，
申请(专利权)人：武汉新芯集成电路制造有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42