曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种曝光装置，其可对一第一基板及一第二基板进行一光配向工艺，曝光装置包括一传输单元、一第一移动平台及一第二移动平台以及一光源模组。第一移动平台与第二移动平台设置于传输单元的两侧，第一基板置放于第一移动平台上，第二基板置放于第二移动平台上。光源模组具有至少一发光元件，发光元件发出一偏振光，且传输单元移动第一移动平台与第二移动平台通过发光元件。偏振光的轴向与第一基板或第二基板之间具有一设定角度，且第一基板与第一移动平台之间具有一第一夹角，第二基板与第二移动平台之间具有一第二夹角，第一夹角与第二夹角不相同。本实用新型专利技术的曝光装置能有效利用曝光光源、增加产能及降低光配向工艺工站时间。

【技术实现步骤摘要】
201521128620

【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置能对一第一基板及一第二基板进行一光配向工艺，该曝光装置包括：一传输单元；一第一移动平台及一第二移动平台，设置于该传输单元的两侧，且该第一基板置放于该第一移动平台上，该第二基板置放于该第二移动平台上；以及一光源模组，具有至少一发光元件，该发光元件发出一偏振光，且于进行该光配向工艺时，该传输单元移动该第一移动平台与该第二移动平台通过该发光元件；其中，该偏振光的轴向与该第一基板或该第二基板之间具有一设定角度，且该第一基板与该第一移动平台之间具有一第一夹角，该第二基板与该第二移动平台之间具有一第二夹角，该第一夹角与该第二夹角不相同。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李建兴，
申请(专利权)人：群创光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71