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本实用新型提供了一种曝光装置，其可对一第一基板及一第二基板进行一光配向工艺，曝光装置包括一传输单元、一第一移动平台及一第二移动平台以及一光源模组。第一移动平台与第二移动平台设置于传输单元的两侧，第一基板置放于第一移动平台上，第二基板置放于第...
该专利属于群创光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过群创光电股份有限公司授权不得商用。

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