用于研磨抛光设备上的精确配重机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于研磨抛光设备上的精确配重机构，包括上定盘和下定盘；所述的上定盘的上表面上安装有至少两条滑道，每条滑道上都匹配有可以在滑道上移动的配重块；所述的滑道绕上定盘的轴心呈中心对称；所述滑道自上定盘转轴轴心向上定盘边缘方向半径逐渐增大。本实用新型专利技术与现有技术相比，具有以下优点和效果：增加这个配重装置后，可以通过配重块在滑道上滑动来微调上定盘的重心，由于滑道为渐开线状，因此即使配重块在移动较多的情况下，重心偏移也很小，因此，工作人员更易找到平衡点。此时可保证整个上定盘的盘面与下定盘的盘面同时接触，从而不会损伤被加工件，提高了材料利用率，节约成本。

【技术实现步骤摘要】
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【技术保护点】
一种用于研磨抛光设备上的精确配重机构，包括上定盘和下定盘；其特征在于：所述的上定盘的上表面上安装有至少两条滑道，每条滑道上都匹配有可以在滑道上移动的配重块；所述的滑道绕上定盘的轴心呈中心对称；所述滑道自上定盘转轴轴心向上定盘边缘方向半径逐渐增大。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：石会会，
申请(专利权)人：浙江森永光电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33