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本实用新型公开了一种用于研磨抛光设备上的精确配重机构，包括上定盘和下定盘；所述的上定盘的上表面上安装有至少两条滑道，每条滑道上都匹配有可以在滑道上移动的配重块；所述的滑道绕上定盘的轴心呈中心对称；所述滑道自上定盘转轴轴心向上定盘边缘方向半径...
该专利属于浙江森永光电设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江森永光电设备有限公司授权不得商用。

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