三维抗反射纳米锥膜制造技术

技术编号:13511977 阅读:61 留言:0更新日期:2016-08-11 16:23
公开了三维纳米锥膜层及其相关装置。所述纳米锥膜层表现诸如抗反射、疏水性、和低成本生产等期望性质。所述纳米锥膜层可利用于覆盖光伏电池的表面并且向所述光伏电池提供各种好处,例如增强其光吸收能力、提供水分保护、提高光电转换效率、促进自清洁、以及其他此类好处。此外,在一个方面,在此公开了制造三维纳米锥膜层的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201480063289

【技术保护点】
一种装置,包括:纳米锥层,其包括第一材料;以及衬底层,其包括第二材料,其中所述纳米锥层和所述衬底层形成具有抗反射性质的柔性纳米锥膜,其中所述柔性纳米锥膜对用于吸收光并且转换能量的光伏器件进行涂覆,并且其中所述纳米锥膜促进所述光伏器件相对于无所述纳米锥膜涂层时的光吸收的增加,以及所述光伏器件相对于无所述纳米锥膜涂层时的能量转换输出的增加。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.21 US 61/963,0201.一种装置,包括:纳米锥层,其包括第一材料;以及衬底层,其包括第二材料,其中所述纳米锥层和所述衬底层形成具有抗反射性质的柔性纳米锥膜,其中所述柔性纳米锥膜对用于吸收光并且转换能量的光伏器件进行涂覆,并且其中所述纳米锥膜促进所述光伏器件相对于无所述纳米锥膜涂层时的光吸收的增加,以及所述光伏器件相对于无所述纳米锥膜涂层时的能量转换输出的增加。2.权利要求1的装置,其中所述第一材料为用阳极氧化铝成型的聚二甲基硅氧烷、聚碳酸酯、聚酰亚胺、或塑料材料中的至少一种。3.权利要求1的装置,其中所述第一材料是透明的。4.权利要求1的装置,其中所述第二材料为铝。5.权利要求1的装置,其中所述纳米锥层涂覆所述光伏器件的顶表面,并且其中所述顶表面最大地暴露于阳光。6.权利要求1的装置,其中所述柔性纳米锥膜具有超疏水性,并且其中位于所述柔性纳米锥膜顶表面的水滴相对于所述顶表面以大于或等于150度的角度接触。7.权利要求6的装置,其中所述超疏水柔性纳米锥膜促进从所述光伏器件去除水和灰尘。8.一种方法,包括:用包括以六角图案布置的硅纳米柱的盖印元件在电化学抛光过的铝箔层表面上刻印纳米压痕阵列,从而形成刻印表面;对电化学布置的铝箔层的所述刻印表面进行电化学阳极氧化和湿法化学刻蚀以制造铝i-锥阵列;将包括聚二甲基硅氧烷的预混溶液涂覆到所述铝i-锥阵列上从而形成聚二甲基硅氧烷纳米锥膜;以及从所述铝i-锥阵列去除聚二甲基硅氧烷纳米锥膜。9.权利要求8的方法,还包括:对所述预混溶液、金膜和所述铝i-锥阵列进行脱气和固化。10.权利要求8的方法,还包括:在所述刻印表面上溅射金膜,其中所述金膜在去除所述聚二甲基硅氧烷纳米锥膜时阻止聚二甲基硅氧烷粘在所述铝i-锥阵列上...

【专利技术属性】
技术研发人员:范智勇徐光海林清锋
申请(专利权)人:香港科技大学
类型:发明
国别省市:中国香港;81

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