结构体及其制造方法，以及具有该结构体的物品技术

本发明专利技术涉及具有基材和设置于上述基材的至少一侧的表面的微细凹凸结构层的结构体，上述微细凹凸结构层配置于上述结构体的表面，上述结构体的压痕弹性模量为1～1300MPa，且以下式(1)所示的上述结构体表面的动摩擦系数的变化率之比(Δμ)为0.15～1.05的结构体。本发明专利技术能够提供不损伤防反射性能等的光学性能，且耐擦伤性优异的结构体及其制造方法，以及具备上述结构体的物品。Δμ＝Δμf/Δμs…(1)(式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】结构体及其制造方法，以及具有该结构体的物品
本专利技术涉及结构体及其制造方法，以及具有上述结构体的物品。本申请基于2013年9月18日在日本申请的特愿2013-193215号主张优先权，在这里援引其内容。
技术介绍
已知表面具有微细凹凸结构的结构体，通过折射率的连续变化，呈现防反射性能。此外，微细凹凸结构体通过莲花效应，呈现超防水性能。为呈现良好的防反射性能，微细凹凸结构的相邻的凸部或凹部的间隔必须在可见光的波长以下，作为表面具有这样的微细凹凸结构的结构体的制造方法，例如，已知具有下述工序(i)～(iii)的所谓的纳米压印法。(i)在表面具有微细凹凸结构的反转结构的模具和基材之间夹持活性能量射线固化型树脂组合物的工序。(ii)对上述活性能量射线固化型树脂组合物照射紫外线等活性能量射线，使活性能量射线固化型树脂组合物硬化的工序。(iii)将固化物与模具分离的工序。但是，表面具有微细凹凸结构的结构体具有以下问题：相比于用与形成上述微细凹凸结构的材料相同的材料制作的表面具有平滑的固化涂层的结构体，其耐擦伤性差；纳米级的突起易受到损伤，或通过反复实施对表面附着的污渍进行擦拭的操作，突起磨损，从而防反射性能易下降。作为提高表面具有微细凹凸结构的结构体的耐擦伤性的方法，可列举使形成上述微细凹凸结构的材料中含有润滑剂，从而易在表面滑动、防止纳米级的突起损伤的方法。但是，存在润滑剂经常渗出在结构体表面的情况，据此，产生表面的反射率或雾度值上升，防反射性能下降的问题。此外，提出了通过在微细凹凸结构的形成中使用柔软的树脂组合物，对纳米级的突起赋予弹性，挡开负荷的方法(专利文献1)。但是，如专利文献1所述，对纳米级的突起赋予弹力时，易使表面产生粘性而摩擦力变高，必须用强力擦去污渍。但是，用强力擦去污渍时，纳米级的突起易受损伤、产生与防反射性能的下降相关的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开2012-163723号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术鉴于以上情况而得，课题是提供防反射性能以及耐擦伤性优异的结构体，以及防反射性能以及耐擦伤性优异的结构体的制造方法。解决课题的手段本专利技术人们着眼于耐擦伤性和动摩擦系数的推移，深入研究，结果发现，在往复磨耗试验中初期磨耗阶段越长，结构体具有的耐擦伤性越优异。并且，本专利技术人们发现，通过控制形成微细凹凸结构的材料的弹性模量，将对具有上述微细凹凸结构的表面实施往复磨耗试验时的动摩擦系数的上升控制在特定范围内，则能够得到不损伤防反射性能等的光学性能，且耐擦伤性优异的结构体，完成了本专利技术。即，本专利技术具有以下方式。[1]一种结构体，其具有基材以及设置于上述基材的至少一面的微细凹凸结构层，上述微细凹凸结构层设置于上述结构体的表面，上述结构体的压痕弹性模量是1～1300MPa，且以下式(1)所示的上述结构体表面的动摩擦系数的变化率之比Δμ为0.15～1.05。Δμ＝Δμf/Δμs(1)(式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。)[2]如[1]记载的结构体，其中，上述微细凹凸结构层的相邻凸部间的平均间隔为400nm以下，凸部的高宽比为0.7～1.4。[3]如[1]记载的结构体，其中，上述微细凹凸结构层的相邻凸部间的平均间隔为120～250nm。[4]如[1]～[3]的任一项记载的结构体，其特征在于，上述微细凹凸结构层包含活性能量射线固化型树脂组合物的固化物，上述活性能量射线固化型树脂组合物至少包含具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯。[5]如[1]～[4]的任一项记载的结构体，其中，上述式(1)所示的结构体表面的动摩擦系数的变化率之比为0.3～1.0。[6]如[1]～[5]的任一项记载的结构体，其中，上述式(1)所示的结构体表面的动摩擦系数的变化率之比为0.6～0.9。[7]如[1]～[6]的任一项记载的结构体，其中，上述结构体表面的动摩擦系数在0.55以下。[8]如[1]～[7]的任一项记载的结构体，其中，上述结构体表面的动摩擦系数为0.38～0.5。[9]如[1]～[8]的任一项记载的结构体，其中，上述结构体的压痕弹性模量为160～300MPa。[10]如[1]～[9]的任一项记载的结构体，其中，上述基材与上述微细凹凸结构层之间进一步含有中间层。[11]如[10]记载的结构体，其中，上述中间层包含活性能量射线固化型树脂组合物的固化物，上述活性能量射线固化型树脂组合物包含从酯(甲基)丙烯酸酯以及聚氨酯(甲基)丙烯酸酯形成的群中选出的至少1种(甲基)丙烯酸酯。[12]如[1]～[11]的任一项记载的结构体，其中，上述基材是透光性基材。[13]一种物品，其具备[1]～[12]的任一项记载的结构体。[14]一种结构体的制造方法，是[1]～[12]的任一项记载的结构体的制造方法，其包含通过纳米压印法形成微细凹凸结构层的工序。专利技术的效果本专利技术能够提供不损害防反射性能等的光学性能、且耐擦伤性优异的结构体及其制造方法，以及具备上述结构体的物品。附图说明[图1]是展示本专利技术的结构体的一个例子的截面图。[图2]是展示表面具有阳极氧化铝的模具的制造工序的截面图。[图3]是展示本专利技术的结构体的制造装置的一个例子的构成图。[图4]是往复次数与动摩擦系数的关系图的一个例子，是根据往复磨耗试验的结果得到的。符号说明10结构体12基材14表层20铝基材22细孔24氧化膜26细孔产生点28模具30辊状模具32储罐34气压缸36压料辊38活性能量射线照射装置40剥离辊具体实施方式下面，对本专利技术进行详细地说明。另外，本说明书中，“表层”是指结构体的表面配置的微细凹凸结构层。此外，本说明书中的“活性能量射线”是指可见光、紫外线、电子束、等离子体、热射线(红外线等)等。此外，本说明书中的“(甲基)丙烯酸酯”是丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯的总称，“(甲基)丙烯酸”是丙烯酸和/或甲基丙烯酸的总称。“(甲基)丙烯腈”是丙烯腈以及甲基丙烯腈的总称，“(甲基)丙烯酰胺”是丙烯酰胺以及甲基丙烯酰胺的总称。图1中，为使各层在图面上为可确认的程度的大小，使比例尺不同。此外，图2以及图3中，与图1相同的构件标示相同的符号，有时省略其说明。＜结构体＞本专利技术的结构体具有基材、和设置于上述基材的至少一面的微细凹凸结构层。微细凹凸结构层只要配置于结构体的至少一侧的表面即可，也可以配置于两侧表面。如后述所示，通过在结构体的表面具有微细凹凸结构层，能够具备优异的防反射性能。图1是展示本专利技术的结构体的一个例子的截面图。结构体10通过在基材12上层叠微细凹凸结构层14而构成，微细凹凸结构层14的与基材接触的表面的相反一侧的表面具有微细凹凸结构。本专利技术的结构体的压痕弹性模量为1～1300MPa。此外，下述式(1)所示的结构体表面的动摩擦系数的变化率之比(Δμ)为0.15～1.05。Δμ＝Δμf/Δμs···(1)(式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。)由此，本专利技术的结构体的特征在于具备优异的耐擦伤性能。“微细凹凸结构层”微细凹凸结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种结构体，其具有基材以及设置于所述基材的至少一面的微细凹凸结构层，所述微细凹凸结构层设置于所述结构体的表面，所述结构体的压痕弹性模量是1～1300MPa，且以下式(1)所示的所述结构体表面的动摩擦系数的变化率之比Δμ为0.15～1.05，Δμ＝Δμf/Δμs  (1)式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.09.18 JP 2013-1932151.一种结构体，其具有基材以及设置于所述基材的至少一面的微细凹凸结构层，所述微细凹凸结构层设置于所述结构体的表面，所述结构体的压痕弹性模量是1～1300MPa，且以下式(1)所示的所述结构体表面的动摩擦系数的变化率之比Δμ为0.15～1.05，Δμ＝Δμf/Δμs(1)式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。2.如权利要求1所述的结构体，其中，所述微细凹凸结构层的相邻凸部间的平均间隔为400nm以下，凸部的高宽比为0.7～1.4。3.如权利要求1所述的结构体，其中，所述微细凹凸结构层的相邻凸部间的平均间隔为120～250nm。4.如权利要求1所述的结构体，其特征在于，所述微细凹凸结构层包含活性能量射线固化型树脂组合物的固化物，所述活性能量射线固化型树脂组合物至少包含具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯。5.如权利要求1所述的结构体，其中，上述式(1)...

【专利技术属性】
技术研发人员：守诚一朗，藤山恒祐，大谷刚，中井祐介，地纸哲哉，
申请(专利权)人：三菱丽阳株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP