一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构及制备方法技术

本发明专利技术提供一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构及制备方法，包括：至少一碳纤维板；至少一形成于所述碳纤维板表面的电磁屏蔽层，所述电磁屏蔽层包括厚膜浆料层，所述厚膜浆料层的厚度为5~20微米。本发明专利技术用于解决现有技术中X射线平板探测器正面电磁屏蔽防护能力不足的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电磁屏蔽结构，特别是涉及一种解决X射线平板探测器正面电磁屏蔽的电磁屏蔽结构及制备方法。
技术介绍
在X线摄影中，数字化X线影像同普通X线影像相比具有图像分辨率高、灰阶度广、图像信息量大，有助于提高诊断准确率。数字化摄片(DigitalRadiography，DR)中，X线转换成电信号是通过平板探测器(FlatPlaneDetector，FPD)来实现的，所以平板探测器的特性会对DR图像质量产生比较大的影响。自然界，生活工作环境中，存在各种频段的电磁波，会对电路中传输的信号产生干扰，形成噪声。目前的DR设备自动化程度高，各种转动部分所使用的电机都会产生电磁干扰，其中，平板探测器中场效应晶体管(TFT)电路正面的电磁干扰防护能力比较薄弱，在磁场干扰下，DR图像质量会产生比较大的影响，从而影响客户体验。为了解决电磁干扰问题，多数厂家在平板探测器TFT电路正面会进行电磁屏蔽设计，比如添加铝薄膜。但是铝薄膜对电场的屏蔽较好，对于磁场的干扰屏蔽效果一般。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构及制备方法，用于解决现有技术中X射线平板探测器正面电磁屏蔽防护能力不足的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构包括：至少一碳纤维板；至少一形成于所述碳纤维板表面的电磁屏蔽层，所述电磁屏蔽层包括厚膜浆料层，所述厚膜浆料层的厚度为5～20微米。优选地，所述电磁屏蔽层还包括至少一通过胶粘剂形成于所述碳纤维板表面的高分子膜层，所述厚膜浆料层形成于所述高分子膜层表面。优选地，所述胶粘剂为压敏胶或AB胶。优选地，所述高分子膜层厚度为45～55微米。优选地，所述高分子膜层的材料为PET或PP。优选地，所述厚膜浆料层包含以下组分：电磁屏蔽材料粉末及高分子粘合剂，所述厚膜浆料层的电磁屏蔽材料粉末含量为70％wt～80％wt，。优选地，所述电磁屏蔽材料粉末为Mn-Zn体系铁氧体粉末，Ni-Zn体系铁氧体粉末以及镍合金纳米粉末中的一种或两种以上组合。优选地，所述高分子粘合剂为不同分子量的乙基纤维素以及不同分子量的PVB中的一种或两种以上组合。本专利技术还提供一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构的制备方法包括：提供至少一碳纤维板；于所述碳纤维板表面形成至少一电磁屏蔽层，所述电磁屏蔽层包括至少一厚度为5～20微米的厚膜浆料层。优选地，所述电磁屏蔽层的形成方法如下：采用丝网印刷的方式，将厚膜浆料在所述碳纤维板表面直接形成至少一所述厚膜浆料层。优选地，所述电磁屏蔽层的形成方法如下：提供至少一高分子膜层，采用丝网印刷的方式，将厚膜浆料在所述高分子膜层表面形成至少一所述厚膜浆料层，然后把高分子膜层通过胶粘剂复合到所述碳纤维板表面。优选地，所述厚膜浆料层的形成方法如下：将电磁屏蔽材料粉末，高分子粘合剂，分散剂，增塑剂以及溶剂一起预混合，然后采用三辊机分散混合，制成电磁屏蔽材料粉末含量在70％wt～80％wt的厚膜浆料层。优选地，所述电磁屏蔽材料粉末为Mn-Zn体系铁氧体粉末，Ni-Zn体系铁氧体粉末以及镍合金纳米粉末中的一种或两种以上组合。优选地，所述高分子粘合剂为不同分子量的乙基纤维素以及不同分子量的PVB中的一种或两种以上组合。如上所述，本专利技术的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构及制备方法，具有以下有益效果：1)本专利技术提高了平板探测器中场效应晶体管(TFT)电路正面的抗电磁干扰能力。2)解决了大面积薄膜材料的成型和加工问题，解决薄膜材料支撑体强度和韧性。3)适当的电磁屏蔽层厚度在具有电磁屏蔽的效果的同时，也尽可能减少了对X射线的吸收。4)成本增加有限，可以使图像质量好，提升公司产品的市场竞争力。附图说明图1显示为本专利技术的一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构示意图。图2显示为本专利技术的一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构示意图。图3显示为本专利技术的一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构的厚膜浆料的制备方法示意图。图4显示为本专利技术的一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构的厚膜浆料层的制备方法示意图。元件标号说明0平板区域标识板1碳纤维板21高分子膜层22厚膜浆料层2电磁屏蔽层3闪烁体层4TFT非晶硅面板5金属结构件6电路板7金属机壳具体实施方式以下由特定的具体实施例说明本专利技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点及功效。请参阅图1至图4。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本专利技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本专利技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本专利技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本专利技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本专利技术可实施的范畴。实施例一如图1所示，本专利技术提供一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构：至少一碳纤维板1；至少一形成于碳纤维板1表面的电磁屏蔽层2，所述电磁屏蔽层2包括厚膜浆料层22，所述厚膜浆料层22的厚度为5～20微米。本实施例中，优选厚膜浆料层22的厚度为15微米。其中，所述厚膜浆料层22由以下组分组成：电磁屏蔽材料粉末70～80％wt，高分子粘合剂8％wt，分散剂1％wt，增塑剂3％wt，溶剂8～18％wt。其中，％wt为重量百分比。本实施例中的厚膜浆料作为一种高粘度，高固体含量的浆料，可以用于丝网印刷工艺。其中溶剂优选为松油醇。本实施例中，优选固体含量在75％wt～85％wt，最优选为80％wt。所述电磁屏蔽材料粉末优选为Mn-Zn体系铁氧体粉末，Ni-Zn体系铁氧体粉末以及商用镍合金纳米粉末中的一种或两种以上组合。铁氧体具有优良的防护电磁干扰能力。其他实施例中，还可以使用其他具有抗电磁干扰功能的材料粉末作为厚膜浆料的主要材料，不局限于本实施例中的材料。所述高分子粘合剂为不同分子量的乙基纤维素以及不同分子量的聚乙烯醇缩丁醛(PVB)中的一种或两种以上组合，或者其他不同分子量的高分子材料混合。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于，所述电磁屏蔽结构包括：至少一碳纤维板；至少一形成于所述碳纤维板表面的电磁屏蔽层，所述电磁屏蔽层包括厚膜浆料层，所述厚膜浆料层的厚度为5～20微米。

【技术特征摘要】
1.一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于，所述电磁屏蔽结构包括：
至少一碳纤维板；
至少一形成于所述碳纤维板表面的电磁屏蔽层，所述电磁屏蔽层包括厚膜浆料层，所
述厚膜浆料层的厚度为5～20微米。
2.根据权利要求1所述的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于：
所述电磁屏蔽层还包括至少一通过胶粘剂形成于所述碳纤维板表面的高分子膜层，所
述厚膜浆料层形成于所述高分子膜层表面。
3.根据权利要求2所述的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述胶粘
剂为压敏胶或AB胶。
4.根据权利要求2所述的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述高分
子膜层厚度为45～55微米。
5.根据权利要求2所述的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述高分
子膜层的材料为PET或PP。
6.根据权利要求1或2所述的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述
厚膜浆料层包含以下组分：电磁屏蔽材料粉末及高分子粘合剂，所述厚膜浆料层的电磁屏
蔽材料粉末含量为70％wt～80％wt。
7.根据权利要求6所述的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述电磁
屏蔽材料粉末为Mn-Zn体系铁氧体粉末，Ni-Zn体系铁氧体粉末以及镍合金纳米粉末中
的一种或两种以上组合。
8.根据权利要求6所述的用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述高分
子粘合剂为不同分子量的乙基纤维素以及不同分子量的PVB中的一种或两种以上组合。
9.一种用于X射线平板探测器的电磁屏蔽结构的...

【专利技术属性】
技术研发人员：周作兴，程丙勋，崔亚辉，
申请(专利权)人：奕瑞影像科技太仓有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32