【技术实现步骤摘要】
本技术涉及面板制造
,尤其涉及一种镀膜设备的下极板结构及镀膜设备。
技术介绍
在液晶面板、薄膜太阳能的生产工艺中,通常会采用PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,等离子体增强化学气相沉积法)设备来进行镀膜工艺。本技术可以使用在液晶显示器制造的阵列(Array)工艺技术和薄膜太阳能电池制造领域,主要用在沉积非晶硅、氮化硅、氧化硅等膜层的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备上。在液晶面板制造工艺中,采用PECVD镀膜设备进行镀膜工艺时,玻璃基板由机器人手臂送入到基台(Susceptor)上,在基台上分布有若干的通孔,在通孔内设置有支撑杆(Pin)。玻璃基板与基台接触之前,支撑杆伸出基台表面,由支撑杆来托起玻璃基板;支撑杆保持不动,基台上升,玻璃基板即与基台接触。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备上,进行镀膜工艺的腔体中,下极板(Susceptor)是非常重要的备件。TFT-LCD ...
【技术保护点】
一种镀膜设备的下极板结构,包括用于承载待镀膜基板的基板承载板;其特征在于,在所述基板承载板上设置有用于对待镀膜基板进行对位的对位结构,所述对位结构包括用于容置待镀膜基板,以对待镀膜基板进行对位的对位区。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备的下极板结构,包括用于承载待镀膜基板的基板承载板;
其特征在于,在所述基板承载板上设置有用于对待镀膜基板进行对位的对位结
构,所述对位结构包括用于容置待镀膜基板,以对待镀膜基板进行对位的对位
区。
2.根据权利要求1所述的下极板结构,其特征在于,
所述对位结构包括:能够围设于待镀膜基板的四周外侧,以对待镀膜基板
进行对位的框架结构,所述框架结构的中部中空而形成所述对位区。
3.根据权利要求2所述的下极板结构,其特征在于,
所述框架结构包括分别设置在所述基板承载板的四周的四个边框。
4.根据权利要求3所述的下极板结构,其特征在于,
所述框架结构中部中空的对位区的内侧壁在靠近所述基板承载板的部分
为垂直于所述基板承载板的承载面的平面结构。
5.根据权利要求4所述的下极板结构,其特征在于,
所述框架结构中部中空的对位区的内侧壁在远离所述基板承载板的承载
面的部分为能够引导待镀膜基板进入由所述平面结构限定的区域内的引导面
结构。
6.根据权利要求5所述的下极...
【专利技术属性】
技术研发人员:张兴洋,金哲山,董杰,周东淇,
申请(专利权)人:北京京东方显示技术有限公司,京东方科技集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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