透明导电性层叠体和触摸面板制造技术

技术编号:13332402 阅读:42 留言:0更新日期:2016-07-12 01:15
本发明专利技术提供一种透明导电性层叠体,是在基材上层叠有透明导电膜而成的透明导电性层叠体,在确保基材与透明导电膜的密合性的同时保持透明导电膜的电特性,而且透光特性良好,耐试剂性优异。另外提供具备上述透明导电性层叠体的可靠性高的触摸面板。一种透明导电性层叠体和具备该透明导电性层叠体的触摸面板,该透明导电性层叠体具有透明基材、设置在上述透明基材的一个主面上的厚度为3~60nm的SiOx1层(其中,x1为1.8以上且小于2.0)、设置在上述SiOx1层上的厚度为0.2~5nm的SiOx2层(其中,x2为1.9~2.0且大于x1)、和设置在上述SiOx2层上的以氧化铟锡为主体的导电层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及透明导电性层叠体和具有该透明导电性层叠体的触摸面板。
技术介绍
在透明的基材上层叠有透明导电膜的透明导电性层叠体具有导电性和光学透明性,因此被用作透明电极膜、电磁波屏蔽膜、面状发热膜、防反射膜等,近年来作为触摸面板用电极而受到关注。触摸面板存在电阻膜式、电容耦合式、光学式等多种方式。透明导电膜例如用于通过上下电极接触而确定触摸位置的电阻膜式、感知电容的变化的电容耦合方式。用于电阻膜式的透明导电膜在工作原理上是透明导电膜彼此进行机械接触,因此需要高耐久性。为了对用作透明导电膜的透明导电性层叠体赋予这样的高耐久性,一直以来,在基材与氧化铟锡等透明导电膜之间设置氧化硅层来增强透明导电膜与基材的密合性。这里,使用SiO2层作为氧化硅层时,虽然实现某种程度的密合性的提高,但是密合性、耐碱性等耐试剂性不充分,不能说满足了所需求的耐久性。另外,使用SiOx(x小于2)层时,虽然得到高的密合性,但导致透明导电膜的表面电阻变化,在这方面存在问题。因此,为了兼得密合性和透明导电膜的电特性的维持,例如,在专利文献1中记载了从基材侧依次设置相对折射率为1.6~1.9的范围的SiOx(x为1.5以上且小于2)层和SiO2层,并在其上设置透明导电膜的透明导电性层叠体的技术。然而,对于专利文献1中记载的透明导电性层叠体,虽然能够兼得密合性和透明导电膜的电特性的维持,但有时导致透射光的色调变化,并且层的厚度厚,因此希望改善生产率和透光性。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利第4508074号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种透明导电性层叠体,是在基材上层叠有透明导电膜而成的透明导电性层叠体,其在确保基材与透明导电膜的密合性的同时保持透明导电膜的电特性,并且透光特性良好,耐试剂性优异。此外,本专利技术的目的在于提供一种具备上述透明导电性层叠体的可靠性高的触摸面板。本专利技术的透明导电性层叠体具有透明基材、设置在上述透明基材的一个主面上的厚度为3~60nm的SiOx1层(其中,x1为1.8以上且小于2.0)、设置在上述SiOx1层上的厚度为0.2~5nm的SiOx2层(其中,x2为1.9~2.0且大于x1)、和设置在上述SiOx2层上的以氧化铟锡为主体的导电层。另外,本专利技术的触摸面板具备上述本专利技术的透明导电性层叠体。根据本专利技术,能够提供一种透明导电性层叠体,是在基材上层叠有透明导电膜的透明导电性层叠体,其在确保基材与透明导电膜的密合性的同时保持透明导电膜的电特性,并且透光特性良好,耐试剂性优异。此外,根据本专利技术,能够提供一种具备上述透明导电性层叠体的可靠性高的触摸面板。附图说明图1是表示本专利技术的透明导电性层叠体的实施方式的一个例子的截面图。图2是表示本专利技术的透明导电性层叠体的实施方式的另一个例子的截面图。具体实施方式以下,一边参照附图一边对本专利技术的实施方式进行说明。应予说明,本专利技术不受下述说明限定解释。[透明导电性层叠体]图1和图2是分别表示本专利技术的透明导电性层叠体的实施方式的一个例子和另一个例子的截面图。图1和图2中,透明导电性层叠体10具有透明基材1、设置在透明基材1的一个主面上的厚度为3~60nm的SiOx1层2(其中,x1为1.8以上且小于2.0)、设置在SiOx1层2上的厚度为0.2~5nm的SiOx2层3(其中,x2为1.9~2.0且大于x1)、和设置在SiOx2层3上的以氧化铟锡为主体的导电层4。图2所示的透明导电性层叠体10是透明基材1在两主面上具有树脂层5a、5b,在一侧树脂层5a上依次设有SiOx1层2、SiOx2层3和导电层4的构成。应予说明,本专利技术的透明导电性层叠体中,图2所示的树脂层5a、5b这样的树脂层是任意设置的层。导电层4由于隔着上述构成的SiOx1层2和SiOx2层3形成在透明基材1上,因此与透明基材1牢固地密合而具有高耐久性。另外,以氧化铟锡为主体的导电层4通过以与SiOx2层3接触的方式形成,因此能够以与直接形成在透明基材1上的情况相同的结晶状态形成。由此,在导电层4中薄层电阻值等电特性可以保持为规定值。另外,透明导电性层叠体10具有可见光透射率高、透射光的色调的变化少等良好的透光特性。以下,对构成透明导电性层叠体10的各要素进行说明。作为透明基材1,可以没有特别限制地使用在透明导电性层叠体中通常使用的透明基材,例如由透明性高的材料构成的膜状或板状的基材。作为这样的透明基材1,例如优选由选自聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯、尼龙6、尼龙66等聚酰胺、聚酰亚胺、聚芳酯、聚碳酸酯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚醚砜、聚砜等中的聚合物或共聚物构成的塑料膜。该塑料膜可以是拉伸的膜,也可以是未拉伸的膜。作为透明基材1,其中特别优选由聚对苯二甲酸乙二醇酯构成的塑料膜。应予说明,本说明书中“(甲基)丙烯酸酯”作为总称丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的用语使用。以下,“(甲基)丙烯酸…”以与上述相同的含义使用。透明基材1的厚度根据使用透明导电性层叠体10的用途而适当地选择。用于触摸面板时,从挠性、耐久性等观点考虑,透明基材1的厚度优选10~200μm,更优选20~150μm。另外,出于提高与SiOx1层2的密合性等目的,可以在透明基材1的至少设置SiOx1层2的一侧主面预先实施易粘接处理、等离子体处理、电晕处理等表面处理。应予说明,该表面处理也可以对透明基材1的两个主面实施。此外,透明基材1可以根据需要在不损害本专利技术的效果的范围内,至少在设置SiOx1层2的一侧主面上具有树脂层。应予说明,树脂层也可以设置在透明基材1的两个主面上。图2表示这样在透明基材1的两个主面上具有树脂层5a、5b的透明导电性层叠体10的截面图。作为树脂层,优选硬涂层,该硬涂层是具有提高SiOx1层2的密合性的功能或光学调整功能等的树脂层、透明且硬质的树脂层。硬涂层的厚度优选1~15μm,更优选1.5~10μm。通过使硬涂层的膜厚为1μm以上,能够通过形成硬涂层得到所期待的效果。另外,通过使膜厚为15μm以下,能够抑制硬涂层的成膜效率的降低,并且也能够抑制裂纹的产生。硬涂层例如由通过电离辐射线、热而固化的固化性树脂的固化物而构成。通过电离辐射线而固化的固化性树脂可以含本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种透明导电性层叠体,具有:透明基材;SiOx1层,设置在所述透明基材的一个主面上,厚度为3~60nm,其中,x1为1.8以上且小于2.0;SiOx2层,设置在所述SiOx1层上,厚度为0.2~5nm,其中,x2为1.9~2.0且大于x1;和导电层,设置在所述SiOx2层上,以氧化铟锡为主体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.14 JP 2013-2358561.一种透明导电性层叠体,具有:
透明基材;
SiOx1层,设置在所述透明基材的一个主面上,厚度为3~60nm,其
中,x1为1.8以上且小于2.0;
SiOx2层,设置在所述SiOx1层上,厚度为0.2~5nm,其中,x2为1.9~2.0
且大于x1;和
导电层,设置在所述SiOx2层上,以氧化铟锡为主体。...

【专利技术属性】
技术研发人员:吉冈和久森野正行富田偏央
申请(专利权)人:旭硝子株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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