本发明专利技术的优选实施例提供了一种精密测长机的遮蔽装置，用于隔绝腔体内外温度交换，所述遮蔽装置包括：遮蔽门，设置于腔体上，用于进行所述腔体的开/关动作；以及至少二热风喷头，设置于腔体之壁面并位于所述遮蔽门的左右两侧，用于当所述遮蔽门打开时喷出干洁气体以防止所述腔体与腔体外界温度交换，保证了精密测长机量测总间距的准确性和稳定性，并起到阻挡灰尘粒子的作用。
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
本专利技术涉及一种遮蔽(Shutter)装置，特别涉及一种用于液晶显示领域的精密测长机的遮蔽装置。【
技术介绍
】精密测长机TTP(Total Pi tch)机台是薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display ,TFT-LCD)制程重要的光学量测机台，主要用于TFT基板/CF(彩色滤光片基板)基板第一层图案制作时曝光机曝光精度参数总间距(TotalPitch)的量测，其量测结果直接决定了后续图像制程的曝光对位，以及最终对组贴合的精度。Total Pitch量测的基本原理是激光的迈克尔逊干涉，通过干涉条纹强度计算距离。激光的稳定性易受温度影响，所以需要保证机台和量测的玻璃均保持在恒温状态，一般是将机台放置于恒温室中，温度保持为23±0.1°C。玻璃则是先进入机台外的冷却缓冲机构(Cooling Buffer)，定时恒温后再透过机械手搬入机台量测。然而，恒温室外界的无尘环境的温度控制在23±0.5°C，在将玻璃搬送入恒温室时，恒温室与外界是相通的，而会造成恒温室温度的细小变化，会导致玻璃进入机台后在量测过程中因温度变化产生热胀冷缩效应，影响Total Pitch的量测准确性和稳定性。由上可知，业界迫切需要一种运送玻璃时确保恒温室温度保持固定的装置，以提高量测的准确性。【
技术实现思路
】本专利技术的个目的在于提供一种精密测长机的遮蔽装置，其透过热风喷头产生热风气流，阻隔了腔体内外的热交换，确保了精密测长机所在的恒温室的温度恒定，防止基板产生温度细微变化，保证了Total Pitch的量测准确性和稳定性，并起到阻挡灰尘粒子的作用。为解决上述问题，本专利技术的优选实施例提供了一种精密测长机的遮蔽装置，用于隔绝腔体内外温度交换，所述遮蔽装置包括:遮蔽门，设置于腔体上，用于进行所述腔体的开/关动作；以及至少二热风喷头，设置于腔体之壁面并位于所述遮蔽门的左右两侧，用于当所述遮蔽门打开时喷出干洁气体(Clean Dry Air，CDA)以防止所述腔体与腔体外界温度交换。在本专利技术优选实施例的遮蔽装置中，所述遮蔽门是平行所述腔体的壁面往下打开。在本专利技术优选实施例的遮蔽装置中，所述干洁气体形成温度均匀的水平的热风气流。在本专利技术优选实施例的遮蔽装置中，所述至少二热风喷头包括在所述遮蔽门左侧的三个垂直排列的热风喷头，并包括在所述遮蔽门右侧的三个垂直排列的热风喷头。在本实施例中，所述左侧的三个热风喷头水平对应所述右侧的三个热风喷头。在另一实施例中，所述左侧的三个热风喷头垂直的交错所述右侧的三个热风喷头。在本专利技术优选实施例的遮蔽装置中，所述精密测长机的遮蔽装置进一步包括CDA气源，并透过管路连接CDA气源与所述至少二热风喷头。在本实施例中，所述管路上设有温度传感器，以维持喷出CDA的温度。相对于现有技术，本专利技术的精密测长机的遮蔽装置透过热风喷头产生水平热风气流，阻隔了腔体内外的热交换，确保了精密测长机所在的腔体的温度恒定，防止玻璃基板产生温度细微变化，进而保证了精密测长机量测Total Pitch的准确性和稳定性，并起到阻挡灰尘粒子的作用。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下:【【附图说明】】图1为本专利技术优选实施例的精密测长机的遮蔽装置的正视示意图；图2为图1的遮蔽装置在打开腔体的正视示意图；图3为本专利技术另一优选实施例的精密测长机的遮蔽装置在打开腔体的正视示意图。【【具体实施方式】】以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。参照图1及图2，图1为本专利技术优选实施例的精密测长机的遮蔽装置的正视示意图，图2为图1的遮蔽装置在打开腔体的正视示意图。如图1所示，本专利技术的优选实施例提供的精密测长机的遮蔽装置10用于隔绝腔体20内外温度交换，其中精密测长机(图未示)设置于腔体20内，精密测长机用于量测TFT基板/CF(彩色滤光片基板)基板(图未示)第一层图案制作时曝光机曝光精度参数总间距(Total Pitch)。本实施例的遮蔽装置10包括遮蔽门(Shutter)120、至少二热风喷头140、干洁气体(CDA)气源160及管路170。如图所示，遮蔽门120设置于腔体20上，用于进行所述腔体20的开/关动作。在此实施例中，遮蔽门120是平行所述腔体20的壁面22往下打开，再往上关闭，如双箭头所示。如图2所示，当欲进行Total Pitch量测时，遮蔽门120会下降而打开腔体20，此时机械手(图未示)会将TFT基板/CF基板送入腔体内的精密测长机，待放置完成后，如图1所示，遮蔽门120再上升关闭腔体20。如图2所示，至少二热风喷头140设置于腔体20之壁面22并位于所述遮蔽门120的左右两侧。具体而言，热风喷头140用于当所述遮蔽门120打开时喷出如箭头所示之干洁气体(Clean Dry Air，⑶A)以防止所述腔体20与腔体外界温度交换，并起到阻挡灰尘粒子的作用。进一步而言，所述CDA形成温度均匀的水平的热风气流30，而形成一道气墙，阻隔腔体20与外界的热交换。如图2所示，所述至少二热风喷头140包括在所述遮蔽门120左侧的三个垂直排列的热风喷头141、142、143，并包括在所述遮蔽门12右侧的三个垂直排列的热风喷头144、145、146。在此实施例中，所述左侧的三个热风喷头141、142、143水平对应所述右侧的三个热风喷头144、145、146。参照图3，图3为本专利技术另一优选实施例的精密测长机的遮蔽装置在打开腔体的正视示意图。在此另一实施例中，所述左侧的三个热风喷头141、142、143垂直的交错所述右侧的三个热风喷头144、145、146。值得注意的是，本专利技术并不限制热风喷头的数量及排列方式，其他如四个、五个、六个等热风喷头及其他的排列方式，都在本专利技术的范围中。如图1所示，所述⑶A气源160透过管路连接⑶A气源与所述至少二热风喷头140。在本实施例中，所述管路170上设有温度传感器172，以维持喷出CDA的温度。举例来说，CDA气源160送到热风喷头140前，可通过温度控制系统(未图示)进行温度控制。举例来说，可透过预加热装置(未图示)的预加热形成温度保持在23°C的CDA，使得从热风喷头140吹出时形成温度均匀的的热风气流30。另外，本专利技术的遮蔽装置还可包括⑶A流量控制系统(图未示)，⑶A流量控制系统连接CDA气源160，可调节CDA送出的流量，使得玻璃送入时的稳定性不受影响。综上所述，本专利技术的精密测长机的遮蔽装置10透过热风喷头140产生水平热风气流30，阻隔了腔体20内外的热交换，确保了精密测长机所在的腔体20的温度恒定，防止玻璃基板产生温度细微变化，进而保证了精密测长机量测Total Pitch的准确性和稳定性，并起到阻挡灰尘粒子的作用。尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本专利技术，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种精密测长机的遮蔽装置，用于隔绝腔体内外温度交换，其特征在于，所述遮蔽装置包括：遮蔽门，设置于腔体上，用于进行所述腔体的开/关动作；以及至少二热风喷头，设置于腔体之壁面并位于所述遮蔽门的左右两侧，用于当所述遮蔽门打开时喷出干洁气体以防止所述腔体与腔体外界温度交换。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨二，马海买提，陈中明，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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