一种非致冷红外焦平面微桥结构的制备方法技术

一种非致冷红外焦平面微桥结构的制备方法，属于非致冷红外探测技术领域，涉及ＭＥＭＳ器件结构和制备方法。本发明专利技术利用一次薄膜生长工艺完成桥墩、桥腿和桥面的支撑结构，大大降低了工艺难度和复杂性，且桥墩、桥腿和桥面三位一体，使得整个微桥的机械支撑更为牢固，稳定性更高；同时，本发明专利技术利用一次薄膜生长工艺制作出的桥墩成空心状，使得微桥结构的电学通道制作过程变得更为简单，无需另外在桥墩中开孔，只需简单的光刻工艺即可保证上端电极和下端电极相连。与现有技术相比，利用本发明专利技术可制备机械性能更加牢固、稳定性更高且电学连通更加有保障的非制冷红外焦平面微桥结构；同时，本发明专利技术简化了制备工艺，降低了制作成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种非致冷红外焦平面微桥结构的制备方法，包括以下步骤：　步骤１、在衬底（１）上制作与读出电路相连的微桥结构的下端电极（３）；　步骤２、生长牺牲层（４），刻蚀露出下端电极（３）；　步骤３、沉积微桥结构的支撑层（５），刻蚀漏出下端电极（３），并刻蚀制作桥腿和桥面；由于支撑层薄膜厚度远小于牺牲层薄膜的厚度，因此淀积支撑层后在牺牲层中刻蚀漏出下端电极（３）的通孔中将形成空心桥墩，且在牺牲层之上将形成一个平面，该平面经刻蚀后将形成连接桥墩与桥面的桥腿；　步骤４、制作与下端电极（３）相连的上端电极（６）后，然后依次沉积热敏薄膜（７）、钝化层（８），并去除牺牲层（４），形成完整的微桥结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王涛，蒋亚东，陈超，袁凯，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]