一种遮蔽盘传输装置及反应腔室制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种遮蔽盘传输装置及反应腔室，该遮蔽盘传输装置包括遮蔽盘、用于承载遮蔽盘的传送臂和电磁固定器，电磁固定器设置在传送臂的承载遮蔽盘的对应位置处，遮蔽盘采用磁性材料制成，电磁固定器用于在其具有磁性时使位于传送臂上的遮蔽盘被磁化，以实现将遮蔽盘固定在传送臂上；以及在不具有磁性时使位于传送臂上的遮蔽盘未被磁化，以实现传送臂和遮蔽盘未固定。本发明专利技术提供的遮蔽盘传输装置，可以解决在传输遮蔽盘的过程中存在遮蔽盘滑落风险的问题，从而可以提高传输的稳定性和可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微电子加工
，具体涉及一种遮蔽盘传输装置及反应腔室。
技术介绍
物理气相沉积(Physical Vapor Deposit1n,以下简称PVD)设备是应用比较广泛的等离子体加工设备，主要用于在基片的表面上沉积薄膜。到目前为止，PVD方法不仅可以沉积金属薄膜，而且可以沉积合金薄膜、化合物薄膜、陶瓷薄膜、半导体薄膜等。在实际应用中，通常在腔室暴露在大气环境中或停用一段时间之后需要进行预烧靶材步骤，以去除靶材表面上的氧化物或者其他杂质，以及在完成预设数量的基片之后，需要对反应腔室的内表面及反应腔室内其他部件进行涂覆步骤，以防止工艺时沉积在反应腔室的内表面上的材料层脱落。为了防止在上述预烧靶材步骤和涂覆步骤过程中污染承载基片的承载装置的表面，通常采用遮蔽盘对该承载装置的表面进行遮挡。图1为现有的具有遮蔽盘的反应腔室的结构示意图。请参阅图1，反应腔室10包括可升降的承载装置11、可升降的至少三个顶针13、用于放置遮蔽盘15的车库16和遮蔽盘传输装置。其中，承载装置11设置在反应腔室10内，用于承载基片或遮蔽盘15，每个顶针13自承载装置11的下表面贯穿至承载装置1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮蔽盘传输装置，包括遮蔽盘和用于承载所述遮蔽盘的传送臂，其特征在于，还包括电磁固定器，所述电磁固定器设置在所述传送臂的承载所述遮蔽盘的对应位置处，所述遮蔽盘采用磁性材料制成，所述电磁固定器用于在其具有磁性时使位于所述传送臂上的所述遮蔽盘被磁化，以实现将所述遮蔽盘固定在所述传送臂上；以及在其不具有磁性时使位于所述传送臂上的所述遮蔽盘未被磁化，以实现所述传送臂和所述遮蔽盘未固定。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐桂玲，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11