一种通孔底部阻挡层的刻蚀方法技术

本发明专利技术提供了一种通孔底部阻挡层的刻蚀方法，包括以下步骤：向反应腔室内通入刻蚀气体，并开启上电极电源和下电极电源，以去除基片上位于通孔底部的阻挡层；其中，刻蚀气体包括氧气和含氟类气体，且氧气的气流量大于含氟类气体的气流量；同时，反应腔室的腔室压力、下电极电源的下电极功率和基片温度的设置方式为：通过降低腔室压力、下电极功率和基片温度，以避免在基片表面上产生裂缝。本发明专利技术提供的通孔底部阻挡层的刻蚀方法，可以避免在基片的表面上产生裂缝，因而可以降低了后道工艺沉积金属层后与晶圆直接接触造成短路的风险，从而可以提高良品率和产能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微电子加工
，具体涉及。
技术介绍
娃通孔技术(through silicon via,以下简称TSV)是通过在芯片和芯片之间制作垂直导通，实现芯片之间互连的最新技术，TSV技术由于能够使芯片在三维方向堆叠的密度最大、芯片之间的互连线最短、外形尺寸最小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，因而成为目前电子封装技术中最先进的一种技术。请参阅图1，TSV封装工艺一般包括以下步骤:步骤S1，对晶圆(Si)减薄，以满足封装厚度较小的要求；步骤S2，将晶圆粘结在基板Glass上，且在晶圆下方形成空腔CV，以避免晶圆与基板Glass直接接触来保护晶圆；步骤S3，刻蚀晶圆，以形成垂直或者倾斜的通孔；步骤S4，在通孔的内表面上沉积阻挡层polymer，以形成电隔离层来防止漏电；步骤S5，采用刻蚀方法去除通孔底部阻挡层polymer，以露出可导电的作为金属焊垫的金属层pad;步骤S6，沉积金属层和后续的金属化线路。上述步骤S5通常采用电感耦合等离子体干法刻蚀来实现，典型的工艺参数为:采用CF4和02作为刻蚀气体进行单步刻蚀，其中cf4为主刻蚀气体，02为辅助气体；cf4的气流量为lOOsccm ；02的气流量为20SCCm ;反应腔室压力为30mT ;上电极电源的输出功率为1500W ;下电极电源的输出功率为300W ;基片的预设温度为20°C。在实际应用中，采用上述通孔底部阻挡层polymer的刻蚀方法往往会存在以下问题:为防止在刻蚀之后通孔侧壁和上表面上剩余的阻挡层polymer过薄而影响后续器件的电性能，一般沉积的阻挡层polymer和光刻胶层PR较厚，例如，阻挡层polymer —般为6?8 μ m，光刻胶层PR的厚度一般为8?14 μ m，这使得阻挡层polymer和光刻胶层PR散热性差，因而会造成阻挡层polymer和光刻胶层PR热量累积，极易造成基片表面过热而产生裂缝A，如图2所示，继续进行后续金属化线路之后，如图3所示其表面仍然存在裂缝A，该裂缝A会自该光刻胶层PR表面延伸至晶圆，从而极易造成后续的沉积金属层与晶圆短接，进而严重影响器件的电性能。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种，其可以避免在基片的表面上产生裂缝，因而可以降低了后道工艺沉积金属层后与晶圆直接接触造成短路的风险，从而可以提闻良品率和广能。为解决上述问题之一，本专利技术提供了，包括以下步骤:向反应腔室内通入刻蚀气体，并开启上电极电源和下电极电源，以去除基片上位于通孔底部的阻挡层；其中，所述刻蚀气体包括氧气和含氟类气体，且所述氧气的气流量大于所述含氟类气体的气流量；同时，所述反应腔室的腔室压力、所述下电极电源的下电极功率和基片温度的设置方式为:通过降低所述腔室压力、下电极功率和基片温度，以避免在基片表面上产生裂缝。其中，所述腔室压力的范围在8?20mT。其中，所述腔室压力的范围在8?15mT。其中，所述含氟类气体的气流量占总气流量的范围在10?30%。其中，所述氧气的气流量的范围在50?300sccm。其中，所述氧气的气流量的范围在80?150sccm。其中，所述基片温度的范围在-20?10°C。其中，所述基片温度的范围在-20?-10°C。其中，所述下电极功率的范围在10?100W。其中，所述下电极功率的范围在30?50W。本专利技术具有以下有益效果:本专利技术提供的通孔底部阻挡层的刻蚀方法，其刻蚀气体中氧气的气流量大于含氟类气体的气流量，换言之，氧气作为主刻蚀气体，含氟类气体作为辅助刻蚀气体；同时，反应腔室的腔室压力、下电极电源的下电极功率和基片温度的设置方式为:通过降低腔室压力、下电极功率和基片温度，即，相对于现有技术采用较低的腔室压力、较低的下电极功率和较低的基片温度进行刻蚀。由于较低气流量占比的含氟类气体可以减少含氟粒子对基片的表面轰击，这可以避免过多含氟粒子轰击基片表面而产生裂缝。较低的腔室压力可以使得气体电离程度减小，因而可以使轰击基片的含氧粒子和含氟粒子的数量较少；而较低的下电极功率可以降低含氧粒子和含氟粒子的能量，因而较低的腔室压力和下电极功率均可以减小基片累积的热量，从而可以降低基片表面上产生裂缝的可能性。较低的基片温度可以防止基片表面过热而产生裂缝，从而可以降低基片表面上产生裂缝的可能性。因此，由上可知，本专利技术提供的通孔底部阻挡层的刻蚀方法可以避免在基片的表面上产生裂缝，因而可以降低了后道工艺沉积金属层后与晶圆直接接触造成短路的风险，从而可以提高良品率和产能。【附图说明】图1为通孔底部阻挡层刻蚀的剖面示意图；图2为完成步骤S5之后基片表面的形貌图；图3为完成步骤S6中金属化线路之后基片表面的形貌图；图4为本专利技术实施例提供的通孔底部阻挡层的刻蚀方法的流程图；以及图5为采用本专利技术实施例提供的通孔底部阻挡层的刻蚀方法并完成金属化线路之后的基片表面的形貌图。【具体实施方式】为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图来对本专利技术实施例提供的通孔底部阻挡层的刻蚀方法进行详细描述。图4为本专利技术实施例提供的通孔底部阻挡层的刻蚀方法的流程图。请参阅图4，本专利技术实施例提供了，包括以下步骤:向反应腔室内通入刻蚀气体，并开启上电极电源，上电极电源用于向反应腔室施加上电极功率，以使反应腔室内的刻蚀气体激发形成等离子体；开启下电极电源，下电极电源用于向基片施加下电极功率，以使等离子体刻蚀基片，直至去除基片上位于通孔底部的阻挡层。在进行刻蚀工艺之前，通常需要对刻蚀气体的种类和气流量、上电源的输出功率、下电源的输出功率、反应腔室的压力以及工艺时间等的工艺参数进行设置，以满足不同工艺的要求。具体地，在本实施例中，刻蚀气体包括氧气和含氟类气体，且氧气的气流量大于含氟类气体的气流量；并且，反应腔室的腔室压力、下电极电源的下电极功率和基片温度的设置方式为:通过降低所述腔室压力、下电极功率和基片温度，以避免在基片表面上产生裂缝。也就是说，在本实施例中，相对于现有技术采用高气流量的氧气、低气流量的含氟类气体、较低的腔室压力、较低的下电极功率和较低的基片温度进行刻蚀。下面详细描述采用上述设置方式设置的工作原理。具体地，如下所示:(一 )针对刻蚀气体。氧气作为主刻蚀气体，含氟类气体作为辅助刻蚀气体，这与现有技术中含氟类气体作为主刻蚀气体氧气作为辅助刻蚀气体相比，增大了氧气的气流量和降低了含氟类气体的气流量，在工艺过程中氧气被激发形成氧粒子，含氟类气体被激发形成的含氟粒子，由于含氟粒子的物理轰击能力远大于氧粒子，当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通孔底部阻挡层的刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：向反应腔室内通入刻蚀气体，并开启上电极电源和下电极电源，以去除基片上位于通孔底部的阻挡层；其中，所述刻蚀气体包括氧气和含氟类气体，且所述氧气的气流量大于所述含氟类气体的气流量；同时，所述反应腔室的腔室压力、所述下电极电源的下电极功率和基片温度的设置方式为：通过降低所述腔室压力、下电极功率和基片温度，以避免在基片表面上产生裂缝。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周娜，张宇，蒋中伟，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11